上海華力申請晶圓電鏡掃描圖像輪廓提取專利

　　2024年12月9日消息，國家知識產權局信息顯示，上海華力集成電路制造有限公司申請一項名為“晶圓電鏡掃描圖像輪廓的提取方法及系統”的專利，公開號CN 119090907 A，申請日期為2024年11月。

　　專利摘要顯示，本發明提供了一種晶圓電鏡掃描圖像輪廓的提取方法及系統，屬于半導體領域。該晶圓電鏡掃描圖像輪廓的提取方法包括獲取晶圓原始掃描圖像，并對原始掃描圖像進行預處理，獲取目標圖像。將目標圖像進行邊緣檢測，獲取二進制圖像。從二進制圖像中抽取輪廓，并對抽取的輪廓做篩選和補全處理得到二進制圖像輪廓對二進制圖像輪廓進行篩選處理，并輸出晶圓圖像輪廓，將晶圓圖像輪廓疊加至原始掃描圖像中，以進行圖形化顯示。本發明通過首先讀取晶圓電鏡掃描原始圖像，對其進行預處理等步驟后，最后輸出晶圓圖像輪廓，并將其疊加到原始晶圓電鏡掃描圖像中圖形化顯示，能夠快速、準確地獲得其二進制圖像輪廓信息。