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  • 發布時間:2024-05-28 11:34 原文鏈接: 全自動磁控濺射系統共享應用

    儀器名稱:全自動磁控濺射系統
    儀器編號:12024341
    產地:中國
    生產廠家:金盛微納科技有限公司
    型號:MSP-150B
    出廠日期:201112
    購置日期:201211


    所屬單位:集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝
    放置地點:微電子所新所一層微納平臺
    固定電話:
    固定手機:
    固定email:
    聯系人:劉建設(,,zhaoting@tsinghua.edu.cn)
    竇維治(010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn)
    分類標簽:微納加工 半導體工藝 集成電路 磁控濺射
    技術指標:

    SiO2薄膜濺射;工藝溫度﹤200℃

    知名用戶:王喆垚(微電子所)、陳兢(北京大學)、何立平(中科院物理所)、嚴清峰(化學系)、許軍(微電子所)、尤政(精儀系) 朱榮(精儀系)、張志勇(北京大學)、金傳洪(浙江大學)
    技術團隊:

    設備工程師:林宏

    設備主管:劉建設

    項目主管:陳煒

    功能特色:

    可低溫(T﹤200℃)濺射SiO2膜,滿足平面器件工藝,特別適合正膠剝離的樣品。常規濺射SiO2膜溫度高,無法滿足低溫平面工藝要求,此濺射系統濺射SiO2薄膜的平整度、表面粗糙度比常規高溫、中溫濺射的質量好,均勻性好,能滿足低溫濺射二氧化硅膜的工藝條件。

    項目名稱計價單位費用類別價格備注
    氧化硅濺射元/小時自主上機機時費350.01μm以下


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