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  • 發布時間:2022-04-22 11:23 原文鏈接: 冷凍蝕刻電鏡技術的應用介紹

    1.冷凍蝕刻表面標記免疫電鏡技術

    (1)新鮮或固定的細胞進行直接法或間接法免疫標記。

    (2)PBS(pH7.5)沖洗3min×2,加入1mmol/l MgCl2蒸餾水洗洗3min×3,離心沉集細胞。

    (3)將細胞團置于小紙板上,入液氮冷卻的Freon中,取出入冷凍蝕刻儀中進行斷裂操作,再于-100℃蝕刻1min 。

    (4)制做斷裂面復型。

    (5)再次氯酸鈉清洗復型,蒸餾水洗后進行觀察。

    本法可顯示斷裂暴露的PF位于中央,周圍則是蝕刻后露出來的ES,標記物只出現在ES上。

    2.斷裂—標記免疫電鏡技術

    此法是先進行冷凍斷裂,再做免疫標記,從而可以對斷裂開的各種膜結構及胞漿斷面進行標記。

    (1)臨界點干燥法

    ①固定:1.0%~2.5%戊二醛PBS液4℃1~2h,PBS沖洗3min×3。

    如為細胞懸液,可加入30%BSA后加入1%戊二醛,使BSA凝膠化,將凝膠切成2mm左右的小塊,用30%的甘油—PBS浸透后置于用液氮冷卻的Freon中冷卻。

    ②冷凍斷裂,將冰凍的凝膠小塊放在盛有液氮的培養皿中,培養皿放置于二氧化碳—液氮槽中,用預冷的解剖刀切割凝膠小塊進行冷凍斷裂。

    ③解凍,置碎塊于30%甘油—1%戊二醛磷酸緩沖液中解凍。

    ④置換甘油,放入1mmol/l 氨基乙酰甘氨酸磷酸液去甘油,PBS沖洗,3min×2。

    ⑤免疫標記。

    ⑥1%鋨酸,室溫固定30min。

    ⑦系列梯度乙醇脫水,臨界點干燥,噴鍍鉑—碳膜,次氯酸鈉清洗復型,蒸餾水洗,撈于有Formvar 膜銅網上透射電鏡觀察。

    (2)超薄切片法

    步驟:①至⑤同臨界點干燥法。

    ⑥1%鋨酸,室溫固定2h,系列酒精或丙酮脫水,常規電鏡包埋。

    ⑦切半薄片,光鏡定位合適的斷裂部位,再切超薄切片,鈾鉛染色,透射電鏡觀察。

    斷裂標記法目前文獻報告應用較多的是植物凝集素—膠體金免疫標記技術,常用的如刀豆球蛋白(Con A)-- 膠體金免疫標記技術.Con A 能與細胞膜中的甘露糖結合,能標記內質網膜、核被膜以及細胞膜的EF面,有助于糖蛋白在超微結構水平的定位。

    為保證實驗結果的準確性,每組實驗在免疫標記階段應設立對照組。對照組的設計同第一章 總論中的免疫對照染色。

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