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  • 發布時間:2021-06-05 13:56 原文鏈接: 化學吸附儀工作原理和操作

      一、化學吸附儀的基本功能

      化學吸附儀具有多種表征功能,能夠對新鮮催化劑進行程序升溫脫附(TPD)、程序升溫還原(TPR)、程序升溫表面反應(TPSR)等研究,也可對失活催化劑、干燥催化劑進行程序升溫氧化(TPO)研究。利用化學吸附儀中的脈沖吸附技術還可對催化劑的酸性、表面金屬分散度、金屬與載體的相互作用等進行研究。這些分析方法的使用,在催化劑研制過程中起著至關重要的作用。

      TPR:確定催化劑中可被還原成分的數量、開始被還原的溫度、還原的截止溫度等;

      TPO:催化劑在完成TPR還原之后重新被氧化,確定被重新氧化部分占總共被還原部分的比例,用這個比例來反映催化劑的循環氧化還原性能;

      TPD:.確定催化劑表面可用活性點在吸附某種氣體后,在一定溫度下,這些被吸附的氣體從表面活性點,完全脫出時所需要的能量(解吸附能),以便通過解吸附能的大小反應催化劑的活性強弱;脈沖化學吸附:確定催化劑活性表面積,催化劑表面金屬分散率,活性顆粒大小

      二、操作方法TPR

      1、反應器內裝入樣品。

      2、打開主機電源,打開操作軟件。

      3、閥2接入氧氣,打開閥2,閥7打向閥2,閥8打向放空,處理氣流量計調至40-60mL/min,進行樣品升溫氧化,氧化溫度及時間視具體樣品而定。

      4、閥1接入氬氣,閥7打向閥1,設定1、2號質量流量計流速為

      30mL/min,放下加熱爐,降溫吹掃至加熱爐降至室溫。

      5、閥1切至氫氬混合氣室溫吹掃5-10min,閥8打向TCD。

      6、打開TCD,基線平穩后升起加熱爐,開始程序升溫。

      7、峰圖出完基線平穩后,關閉TCD,關閉溫控器,降下加熱爐,保存數據。

      8、閥1切至氬氣吹掃5-10min。

      9、關閉氣體,關閉主機電源,關閉操作軟件。

      三、操作注意事項

      1、先通載氣再打開TCD,結束后先關閉TCD再處理其他操作(以防燒壞TCD) 。

      2、主機和軟件不具備記憶功能,重新啟動時必須重新設置閥門開關和軟件內1、2號質量流量計流量。

      3、連續通入氫氣和氧氣處理樣品時,中間必須通入惰性氣體吹掃。

      四、樣品要求

      1、常規都是粉末、顆粒狀樣品,粒度為 40-80 目;

      2、樣品需充分干燥,樣品量不得少于100mg;

      3、如有塊狀、薄膜樣品需考慮氣體分子能否擴散到樣品里面

      4、要求樣品不含S、鹵素等,測試溫度范圍內,樣品穩定,不能產生腐蝕性氣體。

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