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  • 發布時間:2011-07-26 00:00 原文鏈接: 日本電子JSM7800F熱場發射掃描電子顯微鏡

    日本電子JSM-7800F 熱場發射掃描電子顯微鏡
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    • JSM-7800F 熱場發射掃描電子顯微鏡

    • 新一代掃描電鏡JSM-7800F配備了新開發的超級混合式物鏡(SHL),在保持極高的可操作性的同時,實現了低加速電壓下的高分辨率,電子源采用浸沒式(in-lens)肖特基場發射電子槍,因而能以大束流電流進行穩定的分析。

    • 新一代場發射掃描電鏡JSM-7800F配備了新開發的超級混合式物鏡(SHL),在保持極高的可操作性的同時,實現了低加速電壓下的高分辨率,電子源采用浸沒式(in-lens)肖特基場發射電子槍,因而能以大束流電流進行穩定的分析。

    • 通過超級混合式物鏡(SHL)進行高分辨率觀察

    • JSM-7800F的物鏡采用的是靜電場和靜磁場疊加的超級混合式物鏡(SHL),由于減少了色差及球差,極大地提高了低加速電壓下的分辨率。此外,SHL不會對樣品形成磁場影響,因此觀察磁性材料的樣品和進行EBSD測試可以不受制約。

    • 低加速電壓下的能量選擇

    • 能量過濾器位于高位檢測器 (UED)的正下方,可以選擇能量。即使在低加速電壓下,也能夠精確地選擇二次電子和背散射電子,因而可以通過低加速電壓下的背散射電子像觀察樣品的淺表面。

    • 通過Gentle Beam (即柔和光束GB模式)觀察樣品的淺表面

    • 給樣品加以偏壓(GB),對入射電子有減速、對釋放出的電子有加速作用。即使入射電子束到達樣品時的能量很低,也可以獲得高分辨率、高信噪比的圖像。如果利用能施加更高偏壓的GB模式,用幾十電子伏能量的入射電子束,就可以進行更高分辨率的觀察。

    • 通過多個檢測器獲取樣品的所有信息

    • JSM-7800F配有四種檢測器:高位檢測器(UED) 、高位二次電子檢測器(USD)、背散射電子檢測器(BED)和低位檢測器(LED)。UED過濾器的電壓不同,二次電子和背散射電子的數量會改變,因此可以選擇電子的能量,USD檢測被過濾器彈回的低能量電子,BED通過檢測低角度的背散射電子,能清楚地觀察通道襯度。利用LED的照明效果能夠獲得含有形貌信息的、富有立體感的圖像。

    • 應用實例

    • 低加速電壓下的觀察

    • 利用JSM-7800F的GB模式,到達樣品的能量從10 eV開始就可以觀察。下面將到達樣品的能量設定為80 eV進行實例觀察:一個碳原子厚度的石墨薄片的表面

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      • 樣品: 石墨烯 到達能量80eV


      • 能量選擇

      • UED和USD能同時獲取背散射電子像(左圖)和二次電子像(右圖),因此可以精確地解釋圖像。二次電子像主要反映形貌信息,金顆粒和TiO2的襯度沒有明顯不同,而背散射電子像中原子序數高的金顆粒則顯得明亮。


      • 背散射電子像
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      • 二次電子像
      • 004.jpg

      • 樣品: 金負載型TiO2催化劑(2kV)g


      • 利用GBSH觀察
        利用GBSH對樣品施加高偏壓,像差將會減小,圖像的高分辨率會更高。能清楚地觀察到介孔二氧化硅里中的微孔(下圖)。

      • 005.jpg


      • 樣品:介孔二氧化硅 到達樣品的能量: 1keV



      • 觀察磁性材料樣品
        SHL物鏡能抑制磁場的泄漏,因此即便是磁性材料的樣品,也可以用極低的入射電子能量很容易地進行高分辨率觀察 。

      • 010.jpg


      • 樣品: 磁鐵礦納米顆粒 到達樣品的能量: 1keV




      • 磁性樣品的EBSD測試
        SHL沒有磁場泄漏的影響,也很適合于EBSD。象下圖所示那樣,通過反極圖能準確地確定晶體的取向。


      • 006.jpg

      •                          

      • 分析點數: 118585


      • 尺寸: Xzei大: 80.00微米, Y zei大: 79.89微米,步長: 0.25微米, 相: Nd2Fe14B 


      • 007.jpg

      •                          

      • 從樣品中獲得的EBSD花樣實例( 在任意點上獲取)

      •  ND                    TD                    RD

      • 008.jpg

      • 009.jpg












    分辨率0.8 nm (15 kV)、1.2 nm (1 kV)
    分析模式:3.0 nm (15kV、5nA、WD10mm)
    倍率× 25 ~ × 1,000,000(120mm x 90mm photograph size); ×30~×3,000,000(1280 x 960 pixels display);
    加速電壓0.01kV ~ 30kV
    束流

    幾pA~200nA

    自動光闌角zei佳控制透鏡內置
    檢測器高位檢測器(UED)
    低位檢測器(LED)
    能量過濾器UED過濾器電壓可變功能內置
    Gentle Beam模式內置
    樣品臺全對中測角樣品臺、5軸馬達驅動
    X:70mm  Y:50mm  Z:2mm~25mm 傾斜-5~+70° 旋轉360°
    • 主要選配件

    • 能譜儀(EDS)

    • 波譜儀(WDS)

    • 電子背散射衍射系統(EBSD)

    • 陰極熒光系統(CLD)




    分辨率

    0.8 nm(15 kV)

    1.2 nm(1 kV)

    3.0 nm (15kV、5nA、WD10mm)

    倍率×25 ~ ×1,000,000(SEM)
    加速電壓0.01kV ~ 30kV
    樣品照射電流(探針電流)數pA~200nA
    自動光闌角zei佳控制透鏡內置
    檢測器高位檢測器(UED)
    低位檢測器(LED)
    能量過濾器UED過濾器電壓可變功能內置
    Gentle Beam (GB模式即柔和光束)  (樣品偏壓)內置
    數字圖像1,280 x 960 像素, 800 x 600 像素
    樣品交換室由TYPE2A構成
    樣品臺全對中測角樣品臺、5軸馬達驅動
     X-YX:70mm, Y:50mm
     傾斜-5 ~ +70°
     旋轉360°
     工作距離2mm to 25mm
    真空系統SIP 2臺、TMP、RP
    節能設計正常運行時: 1.3kVA
    節能模式時: 0.8kV

     

    主要選配件

    • 能譜儀(EDS)

    • 波譜儀(WDS)

    • 電子背散射衍射系統(EBSD)

    • 陰極熒光系統(CLD)







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