薄膜應力研究的重要性

薄膜應力研究的重要性
　　光學多層膜系統已經廣泛的應用于微電子系統，光學系統等，而由于薄膜應力的存在，對系統的功能與可*性產生很大的影響，它不僅會直接導致薄膜的龜裂、脫落，使薄膜損壞，而且會作用基體，使基體發生形變，從而使通過薄膜組件的光波前發生畸變，影響傳輸特性。更重要的是，薄膜在激光輻照下，由于應力的存在，加速了薄膜內熱力耦合作用，是其破壞的敏感因素［1］，因此很有必要研究光學多層膜系統中的殘余應力，并設法控制其發展。
2 薄膜應力的成因
　　薄膜應力主要包括熱應力與生長應力：熱應力是當薄膜從沉積溫度冷卻到室溫的過程中，由于薄膜與基底的熱膨脹系數不同引起的；生長應力存在于所有鍍膜方法（如真空蒸發、陰極濺射或氣相沉積）制作的薄膜中，其zui大值可達109N/m2。它的大小與由薄膜和基底材料以及制備工藝條件有關。