TFT是在基板 (如是應用在液晶顯示器，則基板大多使用玻璃) 上沉積一層薄膜當做通道區。
大部份的TFT是使用氫化非晶硅 (a-Si:H) 當主要材料，因為它的能階小于單晶硅 (Eg =1.12eV)，也因為使用a-Si:H當主要材料，所以TFT大多不是透明的。另外，TFT常在介電、電極及內部接線使用銦錫氧化物 (ITO) ，ITO則是透明的材料。
因為TFT基板不能忍受高的退火溫度，所以全部的沉積制程必須在相對低溫下進行。如化學氣相沉積、物理氣相沉積 (大多使用濺鍍技術) 都是常使用的沉積制程。如要制作透明的TFT，第一個被研究出來的方法是使用氧化鋅材料，此項技術由奧勒崗州立大學的研究員于2003年時發表。
很多人都知道薄膜晶體管主要的應用是TFT LCD，液晶顯示器技術的一種。晶體管被制作在面板里，這樣可以減少各pixel間的互相干擾并增畫面穩定度。大略是從2004年開始，大部份便宜的彩色LCD屏幕都是使用TFT技術的。連在乳線和癌癥X-ray檢查的數位X-ray攝影技術上也常使用TFT面板。
新的AMOLED (主動陣列OLED) 屏幕也內建了TFT層。