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  • 發布時間:2013-11-25 10:19 原文鏈接: 鐵酸鉍單晶首次被集成到硅片

      美國北卡羅來納州立大學的研究人員,首次將一種被稱為鐵酸鉍(BFO)的材料作為一個單晶體集成到一個硅片上,向制造新一代多功能智能設備邁出了關鍵一步。

      鐵酸鉍具有鐵磁性和鐵電性雙重性能,這意味著它能夠被通過其中的電流磁化。鐵酸鉍的潛在應用領域包括新磁性存儲設備、智能傳感器和自旋電子學技術等。

      將鐵酸鉍作為一個單晶體集成在硅基板上,通過控制從鐵酸鉍中泄漏到硅基上的電荷數量,可以使其發揮更大效率。研究人員發現,集成在硅基上的鐵酸鉍晶體在外延生長過程中能夠與錳酸鍶鑭(LSMO)電極很好地匹配,且可以使用小到4伏特的電流來關閉鐵酸鉍磁場的兩極,這與現有集成電路需要的電壓相當。這對開發功能技術非常重要,因為高電壓和磁場不切實際并且需要消耗更多能量,會損害和中斷電子功能。

      研究人員還發現,一個低強度的外部磁場也能關閉鐵酸鉍的兩極,而且,由于外部磁場不會在鐵酸鉍中產生熱量,這將使它在某些應用中顯得更為重要。

      “這項工作意味著我們現在能夠開發出對數據具有更快感測、處理和反應能力的智能設備,這些過程能發生在同一個芯片上,即數據不需要被中轉到其他地方。”項目主要負責人、北卡羅來納州立大學材料科學與工程學教授杰伊·納拉揚解釋說。

      該研究項目得到了美國國家研究委員會和陸軍研究辦公室資助,成果發表于近期出版的《納米通訊》在線版上。

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