光柵光譜儀參數
分辨率光柵單色儀的分辨率R是分開兩條臨近譜線能力的度量，根據羅蘭判據為：R=λ/Δλ光柵光譜儀中有實際意義的定義是測量單個譜線的半高寬(FWHM)。實際上，分辨率依賴于光柵的分辨本領、系統的有效焦長、設定的狹縫寬度、系統的光學像差以及其它參數。R∝ M·F/WM-光柵線數 F-譜儀焦距 W-狹縫寬度。色散光柵光譜儀的色散決定其分開波長的能力。光譜儀的倒線色散可計算得到：沿單色儀的焦平面改變距離χ引起波長λ的變化，即：Δλ/Δχ=dcosβ/mF這里d、β、F分別是光柵刻槽的間距、衍射角和系統的有效焦距，m為衍射級次。由方程可見，倒線色散不是常數，它隨波長變化。在所用波長范圍內，變化可能超過2倍。根據國家標準，在本樣本中，用1200l/mm光柵色散的中間值（典型的為435.8nm）時的倒線色散。帶寬帶寬是忽略光學像差、衍射、掃描方法、探測器像素寬度、狹縫高度和照明均勻性等，在給定波長，從光譜儀輸出的波長寬度。它是倒線色散和狹縫寬度......閱讀全文
光柵光譜儀參數
分辨率光柵單色儀的分辨率R是分開兩條臨近譜線能力的度量，根據羅蘭判據為：R=λ/Δλ光柵光譜儀中有實際意義的定義是測量單個譜線的半高寬(FWHM)。實際上，分辨率依賴于光柵的分辨本領、系統的有效焦長、設定的狹縫寬度、系統的光學像差以及其它參數。R∝ M·F/WM-光柵線數 F-譜儀焦距 W-狹縫寬度
光柵光譜儀的重要參數
分辨率 光柵單色儀的分辨率R是分開兩條臨近譜線能力的度量，根據羅蘭判據為： R=λ/Δλ 光柵光譜儀中有實際意義的定義是測量單個譜線的半高寬(FWHM)。實際上，分辨率依賴于光柵的分辨本領、系統的有效焦長、設定的狹縫寬度、系統的光學像差以及其它參數。 R∝ M·F/W M-光柵線數 F
光柵光譜儀的簡述及參數
光柵光譜儀的簡述及參數光柵分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成；復制光柵是用母光柵復制而成。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽。刻劃光柵具有衍射效率高的特點，全息光柵光譜范圍廣，雜散光低，且可
光柵光譜儀的簡述及參數
光柵光譜儀的簡述及參數光柵分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成；復制光柵是用母光柵復制而成。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽。刻劃光柵具有衍射效率高的特點，全息光柵光譜范圍廣，雜散光低，且可
關于光柵光譜儀的重要參數介紹
1、分辨率 光柵單色儀的分辨率R是分開兩條臨近譜線能力的度量，根據羅蘭判據為： R=λ/Δλ 光柵光譜儀中有實際意義的定義是測量單個譜線的半高寬(FWHM)。實際上，分辨率依賴于光柵的分辨本領、系統的有效焦長、設定的狹縫寬度、系統的光學像差以及其它參數。 R∝ M·F/W M-光柵線數
光柵光譜儀光柵方程
反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細的刻槽，一系列平行刻槽的間隔與波長相當，光柵表面涂上一層高反射率金屬膜。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產生衍射和干涉。對某波長，在大多數方向消失，只在一定的有限方向出現，這些方向確定了衍射級次。如圖1所示，光柵刻槽垂直輻射入射平面，輻射與光柵法線入射角為
光柵光譜儀光柵選擇方法
光柵作為重要的分光器件，它的選擇與性能直接影響整個系統性能。為更好協助各位使用者選擇，在此做一簡要介紹。 光柵分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成；復制光柵是用母光柵復制而成。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。
光柵光譜儀如何選擇光柵？
光譜分析方法作為一種重要的分析手段，在科研、生產、質控等方面，都發揮著極大的作用。無論是穿透吸收光譜，還是熒光光譜，拉曼光譜，如何獲得單波長輻射是不可缺少的手段。?光柵光譜儀，是將成分復雜的光分解為光譜線的科學儀器。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影，或電腦化自動顯示數值儀器顯示和分析，從而測
光柵光譜儀光柵的選擇
光柵光譜儀光柵的選擇光譜分析方法作為一種重要的分析手段，在科研、生產、質控等方面，都發揮著極大的作用。無論是穿透吸收光譜，還是熒光光譜，拉曼光譜，如何獲得單波長輻射是不可缺少的手段。由于現代單色儀可具有很寬的光譜范圍（UV- IR），高光譜分辨率（到0.001nm）,自動波長掃描，完整的電腦
光柵光譜儀
光柵光譜儀，是將成分復雜的光分解為光譜線的科學儀器。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影，或電腦化自動顯示數值儀器顯示和分析，從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應用于顏色測量、化學成份的濃度測量或輻射度學分析、膜厚測量、氣體成分分析等領域中。基礎知識編輯光譜分析方法作為一種重要的分析手
關于光柵光譜儀光柵的選擇介紹
光柵光譜儀選擇光柵主要考慮如下因素： 1、閃耀波長，閃耀波長為光柵最大衍射效率點，因此選擇光柵時應盡量選擇閃耀波長在實驗需要波長附近。如實驗為可見光范圍，可選擇閃耀波長為500nm。 2、光柵刻線，光柵刻線多少直接關系到光譜分辨率，刻線多光譜分辨率高，刻線少光譜覆蓋范圍寬，兩者要根據實驗靈活
光柵光譜儀如何選擇合適的光柵？
光柵光譜儀，是將成分復雜的光分解為光譜線的科學儀器。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影，或電腦化自動顯示數值儀器顯示和分析，從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應用于顏色測量、化學成份的濃度測量或輻射度學分析、膜厚測量、氣體成分分析等領域中。衍射光柵是一種把入射的多色光分解成它所包含的
光譜儀的光柵
光柵是把復合光分光的東西， 它有固定的焦距， 固定的元素不波長，波長的角度主要是由光柵的焦距和光柵上的刻線決定的， 光譜儀上的光柵刻線基本上是2400 和3600 這兩種， 你的檢測器不動，把光柵的這個固定值的東西變了， 想當于改變了光柵的焦距， 波與波之間的間距相對來說不在光柵的焦距上了 間距當然
光柵光譜儀簡介
光譜學是測量紫外、可見、近紅外和紅外波段光強度的一種技術。光譜測量被廣泛應用于多種領域，如顏色測量、化學成份的濃度檢測或電磁輻射分析等。光譜儀器一般都包括入射狹縫、準直鏡、色散元件（光柵或棱鏡）、聚焦光學系統和探測器。而在單色儀中通常還包括出射狹縫，讓整個光譜中一個很窄的部分照射到單象元探測器上
光柵光譜儀基礎
光柵基礎編輯光柵作為重要的分光器件，它的選擇與性能直接影響整個系統性能。為更好協助各位使用者選擇，在此做一簡要介紹。光柵分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成；復制光柵是用母光柵復制而成。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而
光柵光譜儀選擇光柵要考慮的因素
光柵光譜儀選擇光柵要考慮的因素光柵光譜儀，是將成分復雜的光分解為光譜線的科學儀器。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影，或電腦化自動顯示數值儀器顯示和分析，從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應用于顏色測量、化學成份的濃度測量或輻射度學分析、膜厚測量、氣體成分分析等領域中。光柵基礎光柵作
關于光柵光譜儀的光柵基礎的介紹
光柵作為光柵光譜儀重要的分光器件，它的選擇與性能直接影響整個系統性能。為更好協助各位使用者選擇，在此做一簡要介紹。 光柵分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成；復制光柵是用母光柵復制而成。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋
關于光柵光譜儀的光柵方程的介紹
光柵光譜儀，反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細的刻槽，一系列平行刻槽的間隔與波長相當，光柵表面涂上一層高反射率金屬膜。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產生衍射和干涉。對某波長，在大多數方向消失，只在一定的有限方向出現，這些方向確定了衍射級次。光柵刻槽垂直輻射入射平面，輻射與光柵法線入射角為
光柵光譜儀的簡介
光柵光譜儀，是將成分復雜的光分解為光譜線的科學儀器。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影，或電腦化自動顯示數值儀器顯示和分析，從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應用于顏色測量、化學成份的濃度測量或輻射度學分析、膜厚測量、氣體成分分析等領域中。
光柵光譜儀的概述
光柵光譜儀，是將成分復雜的光分解為光譜線的科學儀器。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影，或電腦化自動顯示數值儀器顯示和分析，從而測知物品中含有何種元素。 組成：入射狹縫、 準直元件: 使狹縫發出的光線變為平行光、色散元件: 通常采用光柵、聚焦元件: 聚焦色散后的光束探測器陣列 用途：光
光柵光譜儀選擇方法
選擇方法選擇光柵主要考慮如下因素：1、閃耀波長，閃耀波長為光柵最大衍射效率點，因此選擇光柵時應盡量選擇閃耀波長在實驗需要波長附近。如實驗為可見光范圍，可選擇閃耀波長為500nm。2、光柵刻線，光柵刻線多少直接關系到光譜分辨率，刻線多光譜分辨率高，刻線少光譜覆蓋范圍寬，兩者要根據實驗靈活選擇。3、光柵
光柵光譜儀的選擇
光柵光譜儀的選擇光柵分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成；復制光柵是用母光柵復制而成。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽。刻劃光柵具有衍射效率高的特點，全息光柵光譜范圍廣，雜散光低，且可作到高
光柵光譜儀設計實驗
實驗的目的、意義和要求本實驗要求學生進一步了解光柵光譜儀內部光學結構，能夠自主設計和搭建光柵光譜儀。掌握光學設計軟件Zemax，并用其設計光柵光譜儀。優化各個光學元器件參數，設計出性能更優的光柵光譜儀。培養自主搭建光學系統的能力。實驗原理簡述光柵光柵的分光原理閃耀光柵方程光譜的分辨率什么是光譜的分辨
Zemax模擬光柵光譜儀
Zemax模擬光柵光譜儀王忠杰、張濛、岑剡????ZEMAX是美國 Radiant Zemax 公司所發展出的光學設計軟件，可做光學組件設計與照明系統的照度分析，也可建立反射，折射，繞射等光學模型，并結合優化，公差等分析功能，是套可以運算sequential及Non-Sequential的軟件。??
光柵光譜儀實驗步驟
實驗步驟：1 ?開機之前，請認真檢查光柵光譜儀的各個部分（單色儀主機、電控箱、接受單元、計算機、）連線是否正確，保證準確無誤。為了保證儀器的性能指標和壽命，在每次使用完畢，將入射狹縫寬度、出射狹縫寬度分別調節到0.1mm左右。在儀器系統復位完畢后，根據測試和實驗的要求分別調節入射狹縫寬度、出射狹縫寬
光柵光譜儀中光柵的選擇要考慮什么因素？
光柵光譜儀，是將成分復雜的光分解為光譜線的科學儀器。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影，或電腦化自動顯示數值儀器顯示和分析，從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應用于顏色測量、化學成份的濃度測量或輻射度學分析、膜厚測量、氣體成分分析等領域中。 光柵作為重要的分光器件，它的選擇與性
通用型光柵光譜儀
MS系列科研級高光通量四光柵光譜儀。 光譜范圍185nm-60μm，焦距200/350/520/750/1000mm焦距可選，光譜分辨率可達0.013nm。C-T結構單色儀／光譜儀 MS系列MS系列光譜儀／單色儀*基于經典的C-T結構，依據焦距的不同共有5個型號：MS200/MS350/MS520/
光柵光譜儀注意事項
注意事項：1.光電倍增管不宜受強光照射（會引起雪崩效應），因此測量時不要使入射光太強。2.氫、氘光的譜線相隔很近，因此測量時要求靈敏度最高（能量間隔0.01nm），電壓接近1000伏；保持室內安靜。同時，由于氫、氘燈的電壓很高（4000伏左右），在使用過程中不要輕易觸摸。3.為了保證測量儀器的安全，
光纖光譜儀光柵的選擇
? 光纖光譜儀是光譜儀的一個分支，以體積小、采集光譜速度快為特點。相較于大型光譜儀通過轉光柵獲取不同波長的光譜信息，光纖光譜儀利用了陣列CCD同時采集不同波長的光譜信息，結構上更加穩定。又因為光纖光譜儀外型的小巧，目前已經廣泛應用于工業領域。 光纖光譜儀一般都包括入射狹縫、準直鏡、色散元件(光
光柵光譜儀的相關介紹
光柵光譜儀的相關介紹光柵光譜儀，是將成分復雜的光分解為光譜線的科學儀器。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影，或電腦化自動顯示數值儀器顯示和分析，從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應用于顏色測量、化學成份的濃度測量或輻射度學分析、膜厚測量、氣體成分分析等領域中。光柵作為重要的分光器件，