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1、磁控濺射鍍膜設備：應用于信息存儲領域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等 2、磁控濺射鍍膜機：應用于防護涂層，如飛機發動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等 3、磁控濺射鍍Al膜生產線：應用于太陽能利用領域，如太陽能集熱管、太陽能電池等 4、光學鍍膜設備：應用于光學薄膜領域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等 5、AZO透明導電膜磁控濺射鍍膜生產線：應用于信息顯示領域，如液晶屏、等離子屏等 6、觸摸屏連續式鍍膜生產線：應用于觸摸屏領域，如手機、電腦、MP4等數碼產品屏幕等。 7、磁控中頻多弧離子鍍膜設備：應用于硬質涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。 8、PECVD磁控生產線：應用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。 9、蒸發式真空鍍膜設備：應用于在裝飾飾品上，如手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。 10、低輻射玻璃鍍膜生產線：應用于建筑玻璃方面，如陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧......閱讀全文
真空金屬鍍膜技術 在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體上凝固并沉積的方法稱為真空鍍膜，目前在工業領域應用較多的為真空蒸鍍和濺射鍍膜兩種鍍膜技術。真空鍍膜技術真正應用是在1930年油擴散泵和機械泵技術推出后。1935年研制出采用真空沉積技術的減反射膜，并在1945年應用于眼鏡
電子顯微鏡領域需要對樣本進行鍍膜處理才能改善樣本的成像效果。在樣本上形成一層金屬導電層可抑制電荷聚積、減少熱損傷，并改善SEM對樣品拓撲結構檢測所需的二次電子信號量。在x射線顯微分析中，網格上支持膜，TEM觀察復型樣品中的背底支撐膜，涉及既對電子束透明但同時具備導電效果的精細碳膜。具體需要采用的鍍膜
樣品制備對掃描電鏡觀察來說也至關重要，樣品如果制備不好可能會對觀察效果有重大影響。通常希望觀察的樣品有盡可能好的導電性，否則會引起荷電現象，導致電鏡無法進行正常觀察；另外樣品還需要有較好的導熱性，否則轟擊點位置溫度升高，使得試樣中的低熔點組分揮發，形成輻照損傷，影響真實的形貌觀察。如果要進行EDS/
通過將多個超快光纖激光進行相干合成，可以克服單根光纖的功率限制。在這種相干合成裝置中，一般采用偏振分束器（PBS）用于合束（如圖1（a）所示），不過這種裝置復雜度較高，而且隨著合成通道數的增多，占用體積也會越來越大。德國耶拿課題組提出了分段反射率分束器（SMS）的合成辦法，如圖1（b）（c）
這是首批完成鍍膜工藝的6片鏡面，它們現在正在宇航局馬歇爾空間飛行中心準備接受超低溫性能測試。 北京時間9月20日消息，美國宇航局下一代空間望遠鏡——詹姆斯·韋伯空間望遠鏡日前迎來其建造過程中的一個里程碑。位于新澤西莫爾斯頓（Moorestown）的量子鍍膜公司（Quantum
實驗概要本文介紹了掃描電鏡的樣本處理，主要包括：樣品的初步處理，樣品的干燥，樣品的導電處理，細胞內部結構冷凍割斷法和鑄型技術。實驗步驟1. 樣品的初步處理 1) 取材 取材的基本要求和透射電鏡樣品制備相同。但是，對掃描電鏡來說，樣品可以稍大些，面積可達8mm×8mm，厚度可達
1樣品處理的要求 掃描電子顯微鏡的優勢為可以直接觀察非常粗糙的樣品表面，參差起伏的材料原始斷口。但其劣勢為樣品必須在真空環境下觀察，因此對樣品有一些特殊要求,籠統的講：干燥，無油，導電。 1形貌形態，必須耐高真空。 例如有些含水量很大的細胞，在真空中很快被抽干水分，細胞的形態也發生了改變，
一、樣品處理的要求 掃描電子顯微鏡的優勢為可以直接觀察非常粗糙的樣品表面，參差起伏的材料原始斷口。但其劣勢為樣品必須在真空環境下觀察，因此對樣品有一些特殊要求,籠統的講：干燥，無油，導電。 1 形貌形態，必須耐高真空。 例如有些含水量很大的細胞，在真空中很快被抽干水分，細胞的形態也發生了改
通過冷凍斷裂生成圖像 冷凍斷裂和冷凍蝕刻技術往往采用高真空精細鍍膜技術，將超細膩重金屬和碳薄膜沉積于斷裂表面。冷凍斷裂樣本在一定角度下用金屬覆蓋，然后在碳背襯膜（徠卡EM ACE600冷凍斷裂或徠卡EM ACE900與徠卡EM VCT500）上生成復型進行TEM成像或在SEM的試塊面上進行
光學鍍膜由薄膜層組合制作而成，它產生干擾效應來提高光學系統內的透射率或反射性能。光學鍍膜的性能取決于層數、個別層的厚度和不同的層接口折射率。用于精密光學的zui常見鍍膜類型：增透膜(AR)、高反射（鏡）膜、 分光鏡膜和過濾光片膜。增透膜包括在高折射率的光學中并用于zui大化光
1 ．對試樣的要求：試樣可以是塊狀或粉末顆粒，在真空中能保持穩定，含有水分的試樣應先烘干除去水分，或使用臨界點干燥設備進行處理。表面受到污染的試樣，要在不破壞試樣表面結構的前提下進行適當清洗，然后烘干。新斷開的斷口或斷面，一般不需要進行處理，以免破壞斷口或表面的結構狀態。有些試樣的表面、斷口需要進行
1.對試樣的要求：試樣可以是塊狀或粉末顆粒，在真空中保持穩定，含有水分的試樣應先烘干除去水分，或使用臨界點干燥設備進行處理。表面受到污染的試樣，要在不破壞試樣表面結構的前提下進行適當清洗，然后烘干。新斷開的斷口或斷面，一般不需要進行處理，以免破壞斷口或表面的結構狀態。有些試樣的表面、斷口需要進行適當
目前市場上常見的金黃色、鈷銅色、黑色等鉆頭、銑刀、模具等，這些器具都是經過鍍膜技術加工后的涂層工具。經過涂層處理后的硬質合金刀片可以延長刀具壽命并且滿足一些特殊的應用，刀具上的顏色不同也就說明涂鍍不同的涂層。 鍍膜機檢漏原因：鍍膜機需要在高真空環
目前市場上常見的金黃色、鈷銅色、黑色等鉆頭、銑刀、模具等，這些器具都是經過鍍膜技術加工后的涂層工具。經過涂層處理后的硬質合金刀片可以延長刀具壽命并且滿足一些特殊的應用，刀具上的顏色不同也就說明涂鍍不同的涂層。 鍍膜機檢漏原因：鍍膜機需要在高真空環
成都中科唯實根據公司整體戰略發展規劃，與北京中科科儀結成戰略合作伙伴，進入真空領域，具備了真空技術的研發能力，繼真空閥門和真空計實現批量生產后，近期以全自動鍍膜設備的研制為切入點，進軍戰略新興產業。 為進一步提升成都中科唯實的真空技術實力，加快真空事業的發展，公司引進了成都騰工米尼真空鍍膜
紫外可見分光光度計是通過測定被測物質在特定波長處或一定波長范圍內光的吸收度，對物質進行定性和定量分析的儀器。在生物制藥、精細化工、環境監測等領域有著廣泛應用，并被納入《中華人民共和國強制檢定的工作計量器具明細目錄》，需要根據檢定規程定期檢定。雖然目前檢定機構在檢定紫外可見分光光度計時均嚴格執行JJG
近日，成都中科唯實儀器有限責任公司技術研發部門通過自主設計，完成光學膜厚智能測控儀研發任務。 傳統的光學鍍膜采用極值法膜厚監控方式，正確判定極值點是鍍膜操作人員的重要操作技術，它決定著每一爐鍍膜的質量。鍍膜過程中鍍膜操作人員必須全神貫注地注視著膜厚監控儀顯示膜厚相對值的變化，
一、直接觀察法 1.基本描述:樣品不經過任何處理,直接粘貼到樣品托上入鏡觀察 2.適用范圍:適合于低倍條件下, 觀察含水量少的、表面有一定導電能力的、對分辨率要求不高的樣品. 3.基本步驟:取材→風洗水洗后風干或不洗→粘樣→常壓或低壓觀察 4.適用樣品: 植物干標本,干種籽,干果、果殼,
光偏振現象的應用在日常生活中無處不在，比如液晶顯示屏、3D眼鏡等；在光伏、納米、半導體芯片等高端制造中，也常用到一種利用光偏振現象的儀器，那就是橢偏儀，它最拿手的就是測量納米級薄膜的厚度、折射率、消光系數等參數。橢偏儀為非接觸
掃描電鏡的成像原理是通過detecter獲得二次電子和背散射電子的信號，而若樣品不導電造成樣品表面多余電子或游離粒子的累積不能及時導走，一定程度后就反復出現充電放電現象（charging)，最終影響電子信號的傳遞，造成圖像扭曲，變形、晃動等等一些現象。本文羅列了一些常見的樣品表面的導電處理方法。
索取資料TIP1. 選擇PTFE鍍膜真空泵的三大好處實驗室的真空泵種類很多，不論是無油式真空泵、油式真空泵、耐腐蝕真空泵...等，依照實驗類型所需要使用的真空泵都不一樣，依使用的嚴苛程度，其價格也迥然不同。如何找到最適合的真空泵一直是個學問。以下先跟大家介紹一款由洛科全新推出的PTFE鍍膜
蘋果公司提交稀土磁體鍍膜專利申請 北京時間7月12日凌晨消息，蘋果公司已經提交了一項專利申請，內容是一種對稀土磁體進行鍍膜的方法，可令便攜式電子設備變成冰箱磁體和iWatch元素。 這項專利申請的文件名稱是“Unibody Magnet”(一體化磁體)，文件指出標準的稀土磁體(例如用
2013年5月17日，由中國化學會主辦、廈門大學承辦、復旦大學、浙江大學協辦的第八屆全國微全分析系統學術會議、第三屆全國微納尺度生物分離分析學術會議暨第五屆國際微化學與微系統學術會議在美麗的海濱城市廈門隆重召開，400余名國內外學者參加了這一盛會。
生物樣品經過脫水、干燥處理后，其表面不帶電，導電性能也差。用掃描電鏡觀察時，當入射電子束打到樣品上，會在樣品表面產生電荷的積累，形成充電和放電效應，影響對圖象的觀察和拍照記錄。因此在觀察之前要進行導電處理，使樣品表面導電。常用的導電方法有以下幾種：1) 金屬鍍膜法金屬鍍膜法是采用特殊裝置將電阻率小的
應用本產品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預先設置的浸漬時間、提拉速度、提拉高度、鍍膜次數等參數，將浸漬后的基片以一定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成一層納米級的薄膜。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。采用溶膠-凝膠法鍍膜，隨著基片從溶膠中提拉出
微分干涉顯微鏡是一種特殊形式的干涉顯微鏡。通常被觀察物體內各點的折射率不同,光通過時造成光程差的不同。微分干涉顯微鏡是通過在正交的偏光鏡之間,放置一個微分干涉棱鏡(諾瑪斯基棱鏡)及其滑行器把極微小的光程差轉變為振幅(光強度)的變化,從而可觀察到物體內或表面的微細結構。諾瑪斯基棱鏡可將一束光分解成偏
噴金儀是什么？在封閉腔室中，放置陽極靶材，充入氣體，保持一定的真空度，在陽極和陰極之間加載高壓，會發生輝光放電現象。電離的氣體離子會轟擊、侵蝕陽極靶材。靶材原子會因此向四周擴散，并在樣品上沉積，最終在樣品表面形成一個均勻的鍍層。這個鍍層可以抑制荷電，減小熱損傷，提高二次電子產率，從而改善掃描電鏡觀察
常規KSV NIMA Langmuir-Blodgett沉積槽的尺寸有小型，中型和大型。小型、中型的LB沉積槽與超小型的Langmuir沉積槽具有相同的框體，但增加了一個鍍膜頭。不同尺寸和形狀的槽體可以使用一個框架。 在基材上沉積的LB膜樣品尺寸可從幾個平方毫米到幾十平方厘米。鍍膜井的尺寸
CCD上那片濾光片,正確名稱叫”光學低通濾波器”(OLPF)。 濾光片的功用:1.濾除紅外線：2.修整進來的光線 濾除紅外線: 彩色CCD也可感應紅外線,就是因為會感應紅外線,會導致D.S.P無法算出正確顏色； 因此須加一片濾光片,把光線中紅外線部份隔開,所以只
濾光片是用來選取所需輻射波段的光學儀器，被廣泛應用于照相機、攝像機等領域中。用戶在使用濾光片過程中對于濾光片原理是需要掌握的，對于用戶的使用有很大的幫助。 濾光片是塑料或玻璃片再加入特種染料做成的，紅色濾光片只能讓紅光通過，如此類推。玻璃片的透射率原本與空氣差不多，所有色