薄膜外全反射角X射線能譜分析研究
電子探針微區分析(EPMA，XRMA)由于X射線激發深度較大而對薄層分析產生困難，無法準確確定分析結果是樣品表面的成分還是樣品體相的成分。本工作首先從理論上探討了薄膜產生全反射的的條件，然后在通常的x射線微區分析設備上，采用外全反射角X射線能譜微分析方法，通過對硅襯底上不同膜厚的鋁膜和銅膜的測定，探索出一種區分膜成分和體相成分的新方法。 本論文共四章，其主要內容如下： 第一章：緒論。對X射線微區分析的原理和近年來薄層分析的研究現狀進行了簡要回顧。 第二章：首先從理論上探討了X射線發生全反射的條件，然后利用現有的X射線微區分析設備對硅襯底上不同膜厚的鋁膜和銅膜進行了研究測定，探索出發生外全反射的條件和區分膜成分和體相成分的方法。 第三章：對在不同低出射角條件下所獲得的X射線能譜不同線系的X射線相對強度進行了研究。得出了在不同出射角采集的X射線譜中各線系強度間比值變化和引起這種變化的原因，這就為外全反射X能譜薄層分析中的定量分析提供......閱讀全文
X 射線能譜
X 射線能譜（ Energy-dispersive X-ray spectroscopy, EDS）是微區成分分析最為常用的一種方法，其物理基礎是基于樣品的特征 X 射線。當樣品原子內層電子被入射電子激發或電離時，會在內層電子處產生一個空缺，原子處于能量較高的激發狀態，此時外層電子將向內層躍遷以填補
軟X射線能譜儀
本文描述了一個用于托卡馬克雜質譜線精細測量的高分辨軟X射線譜儀。譜儀采用Johann型彎晶衍射結構,以多絲正比室作探測器件。其測量范圍為2—8keV(1—6),能量分辨為4.1eV(在6.4keV處)。多絲正比室采用陽極絲逐絲讀出法,位置讀出精度2mm。譜儀配有自動數據記錄系統。?
X射線能譜儀簡介
能譜儀是利用X射線能譜分析法來對材料微區成分元素種類與含量分析的儀器，常常配合掃描電子顯微鏡與透射電子顯微鏡的使用。
X射線機重過濾X射線能譜的測量
本文報道了用 NaI(Tl)閃爍譜儀對國產 F34-Ⅰ型 X 射線機的重過濾 X 射線能譜的測量和解譜方法,給出一組測量結果,并對測量結果進行了比較和討論。
軟X射線源上X射線能譜與X射線能量的測量
本文介紹了國內首次利用針孔透射光柵譜儀對金屬等離子體Ｚ箍縮Ｘ射線源能譜的測量結果及數據處理方法。同時用量熱計對該源的單脈沖Ｘ射線能量進行了測量并討論了其結果。
DPF脈沖X射線能譜測量
采用濾光法對ＤＰＦ脈沖Ｘ射線源裝置的Ｘ射線能譜進行了測量，取得了較好的結果，為輻射效應環境測量提供了一種手段。?
高能脈沖X射線能譜測量
給出了高能脈沖X射線能譜測量的基本原理及實驗結果.采用Monte-Carlo程序計算了高能光子在能譜儀中每個靈敏單元內的能量沉積,利用能譜儀測量了"強光Ⅰ號"加速器產生的高能脈沖X射線不同衰減程度下的強度,求解得到了具有時間分辨的高能脈沖X射線能譜,時間跨度57ns,時間步長5ns,光子的最高能量3
X射線能譜數據處理
本文提出運用FFT,對雙路實測能譜信息在變換域中加以濾波修正,同時完成平滑及背底扣除。文中剖析了EDAX-7EM專利程序,并與諸元素特征峰及背底的譜分析相比較,獲取濾波修正頻窗。文中編制了雙路能譜同時作濾波修正程序。試驗表明:此法實現了數據壓縮及零相位校正,增快了濾波速度,減小了相位滯移量,提高了分
X射線能譜測量與模擬
1895年,德國科學家倫琴發現了X射線,開辟了一個嶄新的、廣闊的物理研究領域。其中,針對電子打靶產生的韌致輻射X射線的研究,是X射線研究領域的一個重要課題。本文在國內外針對X射線能譜測量與解析的基礎上,利用高純鍺(HPGe)探測器使用直接測量法與間接測量法對鎢靶X射線與鉬靶X射線能譜進行了測量。工作
Si(Li)X射線能譜儀
Si(Li)x射線能譜儀于一九六八午首次應川在電子探針,成為一種x射線微分析的工具。此后,在能量分辨率、計數率和數據分析等方面作了許多改進,目前已經成為電子探針和掃描電鏡的一種受歡迎的附件,甚至在透射電子顯微鏡上也得到應用。