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    國產CMP制造芯片指日可待

    中芯國際日前決定向天津華海清科機電科技有限公司購買12英寸化學機械拋光設備——Universal-300拋光機(簡稱CMP),用于大生產線wafer reclaim(硅片再制造)生產。該CMP設備同時也通過了指紋芯片產品驗證,這意味著我們的智能手機不久將可以使用國產CMP制造的芯片,美日歐廠商壟斷市場的局面將被打破。 在國家02專項支持下,清華大學研制出了國內首臺12英寸“干進干出”銅制程拋光機,主要技術指標達到或優于國外同類產品的先進水平。天津華海清科承接清華大學的核心ZL技術,同時也成建制地承接了CMP研發團隊,保證了公司人才隊伍的完整性和技術研發的可持續。......閱讀全文

    國產CMP制造芯片指日可待

      中芯國際日前決定向天津華海清科機電科技有限公司購買12英寸化學機械拋光設備——Universal-300拋光機(簡稱CMP),用于大生產線wafer reclaim(硅片再制造)生產。該CMP設備同時也通過了指紋芯片產品驗證,這意味著我們的智能手機不久將可以使用國產CMP制造的芯片,美日歐廠商壟

    國產55納米相變存儲芯片

      11月28日,寧波時代全芯科技有限公司在寧波現場發布了自主研發的55納米相變存儲芯片。這一成果的發布,使該公司成為繼韓國三星、美國美光之后,世界上第三家、中國第一家擁有相變存儲技術自主知識產權的企業,業內人士認為這將有利于打破存儲器芯片生產技術被國外公司壟斷的局面。   目前靜態隨機存儲技術、

    制造芯片的水會被浪費嗎

    主要看廢水中主要成分是什么,對環境的危害等級是什么等等。廢水處理方法,包括如下步驟:接收來自于芯片生產線的廢水,所述廢水中包含納米級懸浮顆粒物;在廢水中加入懸浮物污泥物質,以吸附廢水中的納米級顆粒物,形成微米級以上的懸浮顆粒物;對所述廢水進行膜生物反應器處理,以去除廢水中的懸浮顆粒物。

    日本馬桶蓋確系國產 日本標準中國制造還算國產?

    日本馬桶蓋確系國產 陶小莫/圖  事件回放  春節期間,有多達45萬中國游客赴日購物,消費近60億人民幣,馬桶蓋成為今年熱銷品。家住杭州的王先生赴日本旅行,在大阪的電器商場,王先生驚奇 地發現,馬桶蓋的外包裝上赫然印著“Made in China”,產地竟是杭州下沙。另有消息稱,有盤錦網友發帖,中國

    我國集成電路裝備有希望了,清華團隊再破卡脖子難題!

      近日,由清華大學機械系路新春教授帶領清華大學成果轉化項目公司華海清科研發的首臺12英寸超精密晶圓減薄機(Versatile-GP300)正式出機,發往國內某集成電路龍頭企業。該裝備是路新春教授團隊與華海清科股份有限公司(以下簡稱“華海清科”)繼解決我國集成電路拋光裝備“卡脖子”問題后的又一突破性

    首款國產太赫茲成像芯片發布

      一枚米粒大小的太赫茲芯片,卻能在人體安檢儀中發揮出巨大功能。記者23日從中國電子科技集團獲悉,由中國電科13所研制的首款國產太赫茲成像芯片在首屆數字中國建設峰會上正式發布。  這款芯片可以探測出人體自身輻射的微弱太赫茲波,并通過儀器內部算法,對檢測到的信號進行分析,即可對人體進行成像,幫助安檢人

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     一枚米粒大小的太赫茲芯片,卻能在人體安檢儀中發揮出巨大功能。記者23日從中國電子科技集團獲悉,由中國電科13所研制的首款國產太赫茲成像芯片在首屆數字中國建設峰會上正式發布。   這款芯片可以探測出人體自身輻射的微弱太赫茲波,并通過儀器內部算法,對檢測到的信號進行分析,即可對人體進行成像,幫助安

    首款國產太赫茲成像芯片發布

      ?? 一枚米粒大小的太赫茲芯片,卻能在人體安檢儀中發揮出巨大功能。記者23日從中國電子科技集團獲悉,由中國電科13所研制的首款國產太赫茲成像芯片在首屆數字中國建設峰會上正式發布。以往,安檢儀中的核心成像芯片技術一直被國外控制。中國電科13所副所長王強介紹,這款太赫茲芯片,在材料生長、工藝制造、仿

    化學機械平坦CMP設備優勢

      初半導體基片大多采用機械拋光的平整方法,但得到的表面損傷極其嚴重,基于淀積技術的選擇淀積、濺射玻璃SOG(spin-on-glass)、低壓CV D(chemicalvaporde-posit)、等離子體增強CVD、偏壓濺射和屬于結構的濺射后回腐蝕、熱回流、淀積-腐蝕-淀積等方法也曾在IC工藝中

    化學機械平坦CMP設備概述

      化學機械拋光(英語:Chemical-Mechanical Polishing,縮寫CMP),又稱化學機械平坦化(英語:Chemical-Mechanical Planarization),是半導體器件制造工藝中的一種技術,用來對正在加工中的硅片或其它襯底材料進行平坦化處理。  CMP工藝的基本

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