了解三重四極桿 ICP-MS 在高純材料和新興分析中的應用 —— 技術解讀 8900 ICP-MS/MS
來自 Agilent ICP-MS 工廠的 Ed McCurdy 和 Naoki Sugiyama 繼續為您解讀 Agilent 8900 ICP-MS/MS。
準確分析 二氧化硅 (SiO2) 納米粒子 (NP)的新興應用展示出 Agilent 8900 ICP-MS/MS 強大的新功能。在環境領域、食品安全和 NP 對人類健康的影響中， NP 的表征非常重要。NP 還廣泛用于工業生產過程、制成品和消費品中。
為了表征 NP，一種方法就是當 NP 通過 ICP 并被原子化和離子化后，測定每個單獨 NP 的信號。這要求儀器具有非常快速的檢測器響應，而 Agilent 8900 ICP-MS/MS 使用一種新型的檢測器，具有快速 TRA 功能，可以使用 0.1 ms 的駐留時間。配合使用納米粒子專用軟件，可對 NP 信號進行處理，表征 NP 粒徑大小和分布。
二氧化硅 NP 采用 ICP-MS 分析時存在一個特殊問題，因為 Si 的主要同位素質量數 28 會受到 N2 和 CO 的多原子離子干擾。 Agilent 8900 使用 MS/MS 模式， H2 反應池氣體來去除 N2 和 CO的干擾，可實現低濃度 Si 的準確測定。這確保了小粒徑（50nm 或更小）的信號能夠與背景區分開，實現了 SiO2 NP 分析無與倫比的準確度，如圖 1所示。
圖 1. A：時間分辨譜圖（原始數據）；B：信號分布，以及 C：粒徑分布， 50nm SiO2 納米粒子 (40 ng/L)
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