沃特世ACQUITY UPLC BEH
Amide色譜柱系統故障排除的第一步是將當前狀態下的色譜柱同正確運行的色譜柱進行對比。塔板數測量方法是關鍵性首要步驟。該技術將檢測填充床的物理變化和鍵合相表面的化學變化。采用糖蛋白性能測試標準品中的核糖核酸酶A和B糖型進行的功能測試可揭示表面填料中的更多微小變化，這些微小變化會對應用造成影響。
下面列出了色譜柱發生變化的幾個常見的征兆。
1、應用中壓力增大通常與性能降低相關。
診斷的第一步是確保增高的壓力源于色譜柱而不是系統的其它地方。這可以通過測量色譜柱連接和不連接到儀器時的壓力來進行鑒定。如果系統出現堵塞，應確定堵塞物并將其移除。如果壓力增加源于色譜柱，則有必要了解此問題與單次進樣相關還是發生在一系列進樣中。如果壓力逐漸增加，則可以按推薦方法清洗色譜柱。為實現更好的穩定性，可以在清洗時添加更強的再生步驟。如果是單個樣品引起壓力增加，則可能表明是顆粒物質或不溶性組分造成的。用戶仍可進行清洗，但需要使用更為積極的清洗方法。壓力突然增高表明用戶應考慮采用一些樣品制備步驟，如高速離心。
2、保留損失反映出色譜柱的表面填料發生了變化。進行診斷性或糾正性測量前，請確保流動相已正確配制，并且選擇了正確的方法。然后重復塔板數測試并重復分離糖蛋白性能測試標準品。如果塔板數和糖蛋白測試均出現保留損失，則所測的色譜柱可能已經失去了大部分鍵合相，需要進行更換。如果變化較小且只出現在一些糖基上，則一種清洗步驟就可以達到效果。
3、峰形、分離度或峰的相對保留出現變化。請參照與保留損失中相同的步驟。
4、殘留和記憶效應定義為在下個梯度分析中出現某個樣品成分。首先確定殘留來源于色譜柱還是系統。定義一種包括“內部梯度”的梯度方法。即，分析梯度在單個方法中重復。如果兩個梯度中均出現殘留成分的色譜峰，且每個峰均在梯度開始后的相同時間出現，則殘留來源于色譜柱，且通常稱作“記憶效應”。如果這類色譜峰僅在進樣后出現，則殘留可能來源于對一些系統組分的吸收。在這種情況下，請參照儀器制造商的建議。用戶可以通過幾種方法降低或消除殘留導致的記憶效應。首先，提高分離溫度可降低非特異性吸附出現的可能性。其次，在陡峭梯度中記憶效應可能更明顯。使梯度斜率保持在每色譜柱體積1%或更低。最后，明顯的記憶效應可切實反映出樣品在流動相中的溶解性。降低進樣量可消除該效應。