時光刻機中的一項核心技術，應用于對半導體襯底進行成像的光刻技術，主要用來確定位置。
在目前高端光刻機晶圓臺的亞納米級定位需求中，光柵干涉測量具有較大優勢，測量分辨率可達17pm，長期測量穩定性可達0.22nm，采用先進的二維平面光柵可以實現空間六自由度測量，是14nm及以下光刻工藝制程的重要技術路線。
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
“正是有了無數個一絲不茍的攻關，才促成了我國首臺IC光刻機的問世。”5月10日，華中科技大學（以下簡稱華科大）“科學家精神進校園”系列活動新聞發布會上，中國工程院院士、華科大教授陳學東在回答《中國科學......
荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）的監事會周四宣布，擬任命現任公司首席商務官和管理委員會成員ChristopheFouquet為下一任總裁兼CEO。該任命需要在明年4月24日召開的年度股東大會上獲得批準......
光刻機作為先進封裝必要設備之一，芯片算力升級正帶來其需求爆發。據外媒周四報道稱，芯片制造大廠三星計劃進口更多ASML的EUV光刻設備，未來ASML將在五年內提供總共50套設備，總價值可達10萬億韓元（......
據日經新聞報道，佳能計劃投資500億日元提高光刻機產量，將其在日本的半導體制造設備產量翻一番。報道稱，佳能將在日本東部栃木縣新建一座半導體設備廠，目標將當前產能提高一倍，總投資額超過500億日元（約3......
近日，清華大學發布雙面對準光刻機采購項目，詳情如下：項目編號：清設招第2022114號（0873-2201HW3L0236）項目名稱：清華大學企業信息雙面對準光刻機采購項目預算金額：800.00000......
當前，芯片問題廣受關注，而半導體工業皇冠上的明珠——以極紫外（EUV）光刻機為代表的高端光刻機，則是我國集成電路（IC）產業高質量發展必須邁過的“如鐵雄關”。如何在短期內加快自主生產高端光刻機的步伐，......
近年來，財政科技投入日漸增高，科研設施與儀器規模持續增長，但高校院所中，卻有部分儀器設備利用率并不高。一名高校教授向記者吐槽，其所在學院光刻機就有四五臺。如果拉通共享，一臺足夠。另一邊，中小微企業特別......
科技的快速發展，現在已經是一個技術至上的時代，掌握核心技術就相當于在科技領域占據主導地位。因此芯片領域現在是這個時代的重要部分，芯片是電子技術的核心組織。近年來由于美國的打壓，我國勉強走上了自主研發芯......
據悉，全球最先進的光刻機廠商ASML正在開發一款新版本的EUV光刻機，研制成功后它將是世界上最先進的芯片制造設備。該光刻機名為HighNA，目前第一臺機器正在研發之中，預計搖到2023年才會提供先行體......
全球光刻機龍頭阿斯麥將在當地時間周三午后舉行投資者日。在事前發布的聲明中，公司明確表示對高端光刻機業務前景和“錢”景持續樂觀的立場。作為向芯片制造業提供關鍵生產工具的龍頭企業，阿斯麥預期這一輪電子行業......