機臺功能
In-line SEM主要用途為線上產品線寬量測，又稱CD-SEM，其特點為WAFER無須經過切片或鍍金屬膜等預處理步驟，即可觀察及量測光阻、絕緣層及金屬層等之圖案，本量測設備屬于非壞性檢測，量測完成之WAFER可以繼續進行下一制程步驟，因此稱為線上型電子顯微鏡。
本機臺僅能量測線寬，由于試片無法傾斜，因此無法觀察試片斷面，本機臺主要規格如下：
1. 加速電壓：0.7～1.3kv
2. 放射電流：3～20mA
3. 電子槍：冷陰極場發射電子源（CCFE）
4. 解析度：6 nm（GOLD）
5. 放大倍率：100X～150000X
6. 試片尺寸：6"晶圓 （平邊）
7. 影像旋轉：-50°～95°
8. 真空度：≦1×10-7Pa（電子源）
機臺的限制（材料，參數范圍等）
特殊注意事項：
1. 試片必須合于規定的尺寸及材質，試片底材：Si，試片尺寸：6 inch,具有單一平邊。
2. 試片須完整，不可有缺角或裂紋。
3. 因電子腔內為高度真空，故試片不得為揮發性物質、不得為在電子束掃描時具揮發性之物質。
4. 試片若含光阻，必須先做完硬烤（HARD BAKE），才可將試片送入。
5. 試片不得含有磁性物質。
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