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X 射線管包含有陽極和陰極兩個電極，分別用于用于接受電子轟擊的靶材和發射電子的燈絲。兩級均被密封在高真空的玻璃或陶瓷外殼內。X 射線管供電部分至少包含有一個使燈絲加熱的低壓電源和一個給兩極施加高電壓的高壓發生器。當鎢絲通過足夠的電流使其產生電子云，且有足夠的電壓（千伏等級）加在陽極和陰極間，使得電子云被拉往陽極。此時電子以高能高速的狀態撞擊鎢靶，高速電子到達靶面，運動突然受到阻止，其動能的一小部分便轉化為輻射能，以 X 射線的形式放出，以這種形式產生的輻射稱為軔致輻射。改變燈絲電流的大小可以改變燈絲的溫度和電子的發射量，從而改變管電流和 X 射線強度的大小。改變 X 光管激發電位或選用不同的靶材可以改變入射 X 射線的能量或在不同能量處的強度。由于受高能電子轟擊，X 射線管工作時溫度很高，需要對陽極靶材進行強制冷卻。雖然 X 射線管產生 X 射線的能量效率十分低下，但是在目前，X 射線管依然是最實用的 X 射線發生器件，已經......閱讀全文
一、X-射線熒光光譜儀（XRF) 簡介 X-射線熒光光譜儀（XRF）是一種較新型可以對多元素進行快速同時測定的儀器。在X射線激發下，被測元素原子的內層電子發生能級躍遷而發出次級X射線（即X-熒光）。波長和能量是從不同的角度來觀察描述X射線所采用的兩個物理量。 波長色散型X射線熒光光譜儀（
一．X射線熒光分析儀簡介 X射線熒光分析儀是一種比較新型的可以對多元素進行快速同事測定的儀器。在X射線激發下，被測元素原子的內層電子發生能級躍遷而發出次級X射線（X-熒光）。波長和能量是從不同的角度來觀察描述X射線所采用的兩個物理量。波長色散型X射線熒光光譜儀（WD-XRF）。是用晶
X射線探傷簡介 射線探傷是利用射線可以穿透物質和在物質中有衰減的特性來發現其中缺陷的一種無損探傷方法。它可以檢查金屬和非金屬材料及其制品的內部缺陷，如焊縫中的氣孔、夾渣、未焊透等體積性缺陷。這種無損探傷方法有獨特的優越性，即檢驗缺陷的直觀性、準確性和可靠性，而且，得到的射線底片可用于缺陷
分析測試百科網訊 芯片已經超過原油，成為我國第一進口商品大類，年進口超3000億美元，芯片對于我國的重要性不言而喻。芯片數量如此之多，面積越做越小，如何快速、精確測定芯片表面納米級厚度的鍍層？難度可想而知。今年2月，日立推出FT160 XRF分析儀，專門針對晶片級封裝檢測。近日，分析測試百科網小