半導體用水設備的處理系統及工藝流程

　半導體用水是一種介于導體和絕緣體之間的材料，在半導體加工過程中需要使用水進行處理，該水質的要求比較高，不能含有任何離子雜質。半導體行業用超純水設備采用先進的制水技術，有效去除水中雜質，保證設備的出水水質。
 

　　半導體用水主要用于高技術的工業生產過程，尤其是半導體這種要求較高的技術行業，對水質要求非常嚴格。半導體用水中K+、Na+、Cu2+、Zn2+、Fe2+、Cr6+、Mn2+等金屬離子含量都要在ppb級以下，總硅小于3ppb，TOC小于50ppb，電阻率在18M?·cm以上，水質中及其微量的雜質原子都會對產品造成極大的影響。
 

　　半導體用水制備之預處理系統：一般水源水都難以滿足超純水的要求，在超純水的和制備過程中，預處理是非常必要的。絮凝沉淀、氧化、吸附是常用的預處理工藝流程。原水中加入絮凝劑或采用電解絮凝方式，可以去除懸浮物、膠體和少部分有機物。氧化主要是去除易生物降解的有機物和氨氮。吸附同樣去除水中的懸浮物和膠體。
 

　　半導體用水工藝：
 

　　1、預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象
 

　　2、預處理-一級反滲透-加藥機-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象
 

　　3、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象
 

　　4、 預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象
 

　　半導體用水設備特點：
 

　　1、進口零部件組裝，更加耐用。
 

　　2、可以隨時增加膜的數量以增加處理量。
 

　　3、自我保護系統，故障急停。
 

　　4、復合膜擁有更高的分離率和透過率。
 

　　5、水利用高，能產生更多的可飲用水。
 

　　6、體積更小，使用工地面積小。
 

　　7、淡水即可沖洗符合膜。
 

　　8、部件更加耐用，長期無需維修。
 

　　9、電子半導體用水設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。