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磁致濺射儀是應用于各種金屬薄膜的濺射蒸鍍儀器，在惰性氣體或者活性氣體中在陽極和陰極蒸發材料間加上幾百伏的直流電壓，使之產生輝光放電，放電中的離子碰撞到陰極的蒸發材料靶上，靶材的原子就會由其表面蒸發出來，蒸發原子被惰性氣體冷卻而凝結或與活性氣體反應而形成納米顆粒。......閱讀全文
磁致濺射儀是應用于各種金屬薄膜的濺射蒸鍍儀器，在惰性氣體或者活性氣體中在陽極和陰極蒸發材料間加上幾百伏的直流電壓，使之產生輝光放電，放電中的離子碰撞到陰極的蒸發材料靶上，靶材的原子就會由其表面蒸發出來，蒸發原子被惰性氣體冷卻而凝結或與活性氣體反應而形成納米顆粒。
濺射法的原理是在惰性氣體或者活性氣體中在陽極和陰極蒸發材料間加上幾百伏的直流電壓，使之產生輝光放電，放電中的離子碰撞到陰極的蒸發材料靶上，靶材的原子就會由其表面蒸發出來，蒸發原子被惰性氣體冷卻而凝結或與活性氣體反應而形成納米顆粒。濺射是一個復雜的過程。濺射過程是建立在氣體輝光放電基礎上的。當兩電
不僅可以得到很高的濺射速率，而且在濺射金屬時還可以避免二次電子轟擊而使基板保持接近冷態，這對單晶和塑料基板具有重要的意義。磁控濺射可以用DC和RF放電工作，故能制備金屬膜和介質膜。但是它的缺點是：不能實現強磁性材料的低溫高速濺射，因為幾乎所有的磁通都通過磁性靶子，所以在靶面附近不能外加強磁場；絕
真空系統：真空系統由機械泵、分子泵和各種閥門組成。低真空下，由熱偶型規管來測定真空度高真空下由電離型規管來測量。系統的最高真空度可以達到數量級。 輸氣系統：濺射中需要通入高純氫氣作為濺射氣體。有時需要通入、等進行反應濺射。系統現有兩路質量流量計，所用的氣體可以選擇合適的流量進入真空室。 加熱
這種類型形成過程的特點是，到達基片上的原子首先凝聚成核，后續飛來的原子不斷集聚在核的附近使核在三維方向不斷成長，最終形成薄膜。大部分薄膜的形成過程都屬于這種類型。核生長型的薄膜其生長過程可以分為如下四個階段。 (l)成核階段碰撞到基片上的原子，其中一部分與基片原子交換的能量很少，仍具有相當大的
這種生長類型的特點是，蒸發原子首先在基片表面以單原子層的形式均勻地翟蓋一層，然后再在三維方向上生長更多的層。這種生長方式多數發生在基片原子與蒸發原子間的結合能接近于蒸發原子間的結合能的情況下。層生長型的過程大致如下:入射到基片表面的原子，經過表面擴散并與其它原子碰撞后形成二維的核，二維核捕捉周圍
在基體和薄膜原子相互作用特別強的情況下，才容易出現層核生長型。首先在基片表面生長1-2層單原子層，這種二維結構強烈地受基片晶格的影響，晶格常數有較大的畸變。然后再在這原子層上吸附入射原子，并以核生長方式生成小島，最終形成薄膜。
磁致伸縮液位計由三部分組成：探測桿，電路單元和浮子組成。測量時，電路單元產生電流脈沖，該脈沖沿著磁致伸縮線向下傳輸，并產生一個環形的磁場。在探測桿外配有浮子，浮子沿探測桿隨液位的變化而上下移動。由于浮子內裝有一組永磁鐵，所以浮子同時產生一個磁場。當電流磁場與浮子磁場相遇時，產生一個“扭曲”脈沖，
磁致伸縮液位計的傳感器工作時，傳感器的電路部分將在波導絲上激勵出脈沖電流，該電流沿波導絲傳播時會在波導絲的周圍產生脈沖電流磁場。 應用場合 磁致伸縮液位計用于石油、化工原料儲存、工業流程、生化、醫藥、食品飲料、罐區管理和加油站地下庫存等各種液罐的液位工業計量和控制，大壩水位，水庫水位監測與污
測量地磁場強度和方向的相對磁力儀。磁通門探頭有一個在弱磁場中就能達到飽和磁化的由高磁導率合金制成的磁芯。最基本的做法是在兩個平行的磁芯上分別繞以初級和次級線圈，兩個初級線圈串聯起來通以50～1000赫的激勵磁場，使磁芯達到飽和狀態，次級線圈與差動放大器相連。在外磁場為零時，磁芯中所感應的交流磁通