另辟蹊徑！非線性效應助力TEM厚樣品實現高分辨成像
高分辨透射電子顯微鏡是研究微觀結構的有力工具。獲得可解釋的高分辨像，樣品厚度要滿足苛刻的要求-弱相位物體近似。可以選擇在Scherzer欠焦下觀察，但有時不得不在大欠焦下拍攝圖像提高圖像襯度，比如在冷凍電鏡中通常拍攝的離焦量為1-2μm，通過扣除成像過程中的襯度傳遞函數來獲得樣品的投影結構。實際中，很難獲得如此薄的樣品（冷凍電鏡中樣品厚度通常在100nm左右），此時高分辨成像過程中電子束之間會發生強烈的相互作用。高分辨電子顯微像包含線性成像信息、非線性成像信息，而已有的像襯理論通常以線性信息為研究對象，難以滿足定量化的要求，因此有必要對非線性信息進行更加深入的研究。 在以往研究中，中國科學院物理研究所/北京凝聚態物理國家實驗室（籌）軟物質物理實驗室常云杰等結合透射交叉系數理論和贗弱相位物體近似理論，獲得了衍射圖中線性信息和非線性信息的解析表達式，并提出線性、非線性分離的方法。對分離后結果的研究發現，晶體厚度增大后，即使在S......閱讀全文
室溫非線性霍爾效應
最新Nature Nanotechnology：室溫非線性霍爾效應 幾何相位和拓撲之間的緊密聯系使得基于霍爾效應的現象已成為現代材料和物理學的主要研究重點之一，這促使了人們對物質拓撲態的探索和許多相應實際應用的開發。在線性響應方式下，霍爾電導率需要通過磁化或外部磁場來打破時間反演對稱性。但最近
高分辨透射電鏡中非線性效應可應用性的研究
高分辨透射電子顯微鏡是研究微觀結構的有力工具。要獲得可解釋的高分辨像，樣品厚度要滿足苛刻的要求-弱相位物體近?似。在這種情況下可以選擇在Scherzer欠焦下觀察，但有時不得不在大欠焦下拍攝圖像提高圖像襯度，比如在冷凍電鏡中通常拍攝的離焦量為1-2μm，此時通常通過扣除成像過程中的襯度傳遞函數來獲得
非線性自聚焦效應 RP Fiber Power
首先計算了大模場面積的基模隨非線性自聚焦效應的收縮。模式求解中通常會忽略非線性效應。然而，編寫數行程序代碼，即可設置折射率分布及其非線性的變化，繼而重復計算光纖模式，直至出現自洽解。該程序也說明了光束傳輸的應用，可模擬高功率下光束分布的變化。用戶可以采用LP01（低功率）與LP11模式的疊加
科學家觀察到室溫三階非線性霍爾效應
近日，南洋理工大學教授高煒博和新加坡科技設計大學教授楊聲遠課題組在II型外爾（Weyl）半金屬TaIrTe4（碲化銥鉈）中觀察到了顯著的室溫三階非線性霍爾效應，為其在新型量子材料中的應用提供了可能。相關成果發表在《國家科學評論》（NSR）上。 霍爾效應一直是凝聚態物理研究的一個主流方向。近年
另辟蹊徑！非線性效應助力TEM厚樣品實現高分辨成像
高分辨透射電子顯微鏡是研究微觀結構的有力工具。獲得可解釋的高分辨像，樣品厚度要滿足苛刻的要求-弱相位物體近似。可以選擇在Scherzer欠焦下觀察，但有時不得不在大欠焦下拍攝圖像提高圖像襯度，比如在冷凍電鏡中通常拍攝的離焦量為1-2μm，通過扣除成像過程中的襯度傳遞函數來獲得樣品的投影結構。實際
科學家在集成光子芯片上實現人工合成非線性效應
中國科學技術大學郭光燦院士團隊在集成光子芯片量子器件的研究中取得新進展。該團隊鄒長鈴、李明研究組提出人工合成光學非線性過程的通用方法，在集成芯片微腔中實驗觀測到高效率的合成高階非線性過程，并展示了其在跨波段量子糾纏光源中的應用潛力。相關成果10月20日在線發表于《自然—通訊》。 自激光問世以來
復旦大學制備首個石墨烯三階非線性效應電光器件
復旦大學吳施偉課題組實現了石墨烯中三階非線性效應的電學調控并揭示了其機理。近日，該成果以長文形式在線發表于《自然—光子學》雜志。圖片來源網絡 石墨烯具有強烈的三階非線性效應。這使其在微納光子學、激光產業、生物成像等領域具有巨大的應用潛力。然而，過去的實驗報道無法對石墨烯三階非線性系數形成統一
復旦大學制備首個石墨烯三階非線性效應電光器件
復旦大學吳施偉課題組實現了石墨烯中三階非線性效應的電學調控并揭示了其機理。近日，該成果以長文形式在線發表于《自然—光子學》雜志。 石墨烯具有強烈的三階非線性效應。這使其在微納光子學、激光產業、生物成像等領域具有巨大的應用潛力。然而，過去的實驗報道無法對石墨烯三階非線性系數形成統一的觀點，不同實驗
復旦大學制備首個石墨烯三階非線性效應電光器件
復旦大學吳施偉課題組實現了石墨烯中三階非線性效應的電學調控并揭示了其機理。近日，該成果以長文形式在線發表于《自然—光子學》雜志。石墨烯具有強烈的三階非線性效應。這使其在微納光子學、激光產業、生物成像等領域具有巨大的應用潛力。然而，過去的實驗報道無法對石墨烯三階非線性系數形成統一的觀點，不同實驗結果甚
物理所電子顯微學圖像像襯理論研究獲進展
透射電鏡高分辨成像是材料等研究領域的重要分析手段，然而高分辨像像襯度（簡稱像襯）與晶體結構之間的關系并不是顯而易見的：像襯除了會受成像條件（如欠焦量）的影響，還隨著樣品厚度的變化而變化，像差校正電鏡中尤其嚴重。所以為了解釋高分辨像襯需要理解成像條件和樣品厚度對像襯的影響。 從物理過程上講，透射