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透射電子顯微鏡(Transmission electron microscopy，TEM)，簡稱透射電鏡，是把經加速和聚集的電子束投射到非常薄的樣品上，電子與樣品中的原子碰撞而改變方向，從而產生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度相關，因此可以形成明暗不同的影像。通常，透射電子顯微鏡的分辨率為0.1～0.2nm，放大倍數為幾萬～百萬倍，適于觀察超微結構。透射電子顯微鏡在材料科學、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。......閱讀全文
透射電子顯微鏡(Transmission electron microscopy，TEM)，簡稱透射電鏡，是把經加速和聚集的電子束投射到非常薄的樣品上，電子與樣品中的原子碰撞而改變方向，從而產生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度相關，因此可以形成明暗不同的影像。通常，透射電子顯微鏡的分辨率為
透射電子顯微鏡(Transmission electron microscopy，TEM)，簡稱透射電鏡，是把經加速和聚集的電子束投射到非常薄的樣品上，電子與樣品中的原子碰撞而改變方向，從而產生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度相關，因此可以形成明暗不同的影像。通常，透射電子顯微鏡的分辨率為
透射電子顯微鏡是電子顯微鏡的原始類型，它的主要原理是將高壓電子束引導至樣品以照亮樣品并產生樣品的放大圖像。由于透射電鏡具有原位觀察、高分辨顯像等功能，適宜觀察光學顯微鏡觀察不到的細微結構。比如：細胞、組織分析、晶體結構等。透射電鏡顯微成像原理是：通過鎢絲電極的陰極發射電子束，再用陽極加速電子束，當電
電子顯微鏡，簡稱電鏡，英文名Electron Microscope（簡稱EM），經過五十多年的發展已成為現代科學技術中不可缺少的重要工具。電子顯微鏡技術的應用是建立在光學顯微鏡的基礎之上的，光學顯微鏡的分辨率為0.2μm，透射電子顯微鏡的分辨率為0.2nm，也就是說透射電子顯微鏡在光學顯微鏡的基
因電子束穿透樣品后，再用電子透鏡成像放大而得名。它的光路與光學顯微鏡相仿，可以直接獲得一個樣本的投影。通過改變物鏡的透鏡系統人們可以直接放大物鏡的焦點的像。由此人們可以獲得電子衍射像。使用這個像可以分析樣本的晶體結構。在這種電子顯微鏡中，圖像細節的對比度是由樣品的原子對電子束的散射形成的。由于電子需
1、基本原理在光學顯微鏡下無法看清小于0.2μm的細微結構，這些結構稱為亞顯微結構（submicroscopic structures）或超微結構（ultramicroscopic structures；ultrastructures）。要想看清這些結構，就必須選擇波長更短的光源，以提高顯微鏡的分辨
1、基本原理 在光學顯微鏡下無法看清小于0.2μm的細微結構，這些結構稱為亞顯微結構（submicroscopic structures）或超微結構（ultramicroscopic structures；ultrastructures）。要想看清這些結構，就必須選擇波長更短的光源，
【掃描電子顯微鏡】簡稱“`SEM`”。一種超高分辨的具表面測試技術的分析儀器。可用于微粒、金屬薄片等表面性質的研究。主要是利用電子束在樣品表面上逐點掃描，通過電子束與樣品相互作用，從樣品上激發出與樣品性質有關的各種信息（如二次電子、背射電子、`X`射線等），通過分別收集這些從樣品上激發出的信息，經
【掃描電子顯微鏡】簡稱“`SEM`”。一種超高分辨的具表面測試技術的分析儀器。可用于微粒、金屬薄片等表面性質的研究。主要是利用電子束在樣品表面上逐點掃描，通過電子束與樣品相互作用，從樣品上激發出與樣品性質有關的各種信息（如二次電子、背射電子、`X`射線等），通過分別收集這些從樣品上激發出的信息，經電
掃描電子顯微鏡(SEM) 是一種介于透射電子顯微鏡和光學顯微鏡之間的一種觀察手段。其利用聚焦的很窄的高能電子束來掃描樣品, 通過光束與物質間的相互作用, 來激發各種物理信息, 對這些信息收集、放大、再成像以達到對物質微觀形貌表征的目的。新式的掃描電子顯微鏡的分辨率可以達到1nm；放大倍數可以達到