X射線光電子能譜儀
X-射線光電子能譜儀，是一種表面分析技術，主要用來表征材料表面元素及其化學狀態。其基本原理是使用X-射線，如AlKa=1486.6eV，與樣品表面相互作用，利用光電效應，激發樣品表面發射光電子，利用能量分析器，測量光電子動能(K.E)，根據B.E=hv-K.E-W.F，進而得到激發電子的結合能(B.E)。
設備組成
光電子能譜儀主要由激發源、電子能量分析器、探測電子的檢測器和真空系統等幾個部分組成。
工作原理
由激發源發出的具有一定能量的x射線、電子束、紫外光、離子束或中子束作用于樣品表面時，可將樣品表面原子中不同能級的電子激發出來，產生光電子或俄歇電子等，這些自由電子帶有樣品表面信息，并具有特征動能，通過能量分析收集和研究它們的能量分布，經檢測記錄電子信號強度和電子嫩倆的關系曲線，即為光電子能譜。
X射線光電子能譜儀的應用
XPS：固體樣品的表面組成分析，化學狀態分析，取樣訊息深度為～10nm以內.功能包括:
1.表面定性與定量分析.可得到小於10um空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊.
2.可進行樣品的原位處理AES：1.可進行樣品表面的微區選點分析(包括點分析，線分析和面分析)2.可進行深度分析適合：納米薄膜材料，微電子材料，催化劑，摩擦化學，高分子材料的表面和界面研究
3.線掃瞄或面掃瞄以得到線或面上的元素或化學態分布.
4.成像功能.
5.維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學態的深度分析(角分辨方式,,氬離子或團簇離子刻蝕方式)
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