我國納米光刻技術研究取得突破
日前，中科院光電技術研究所微光刻技術與微光學實驗室首次提出基于微結構邊際的LSP超分辨光刻技術。該技術利用微納結構邊際作為掩模圖形，對表面等離子體進行有效激發，其采用普通I-line、G-line光源獲得了特征尺寸小于30納米的超分辨光刻圖形。 據相關負責人介紹，傳統的微光刻工藝采用盡可能短的曝光波長，期望獲得百納米甚至幾十納米級別的光刻分辨率。然而，隨著曝光波長的縮短，整個光刻裝備的成本也急劇上升。以目前主流的193光刻機為例，其售價為幾千萬美元。如此高昂的成本嚴重限制了短波長光源光刻技術的應用。 近年來，表面等離子體光學的提出為微光刻技術的發展提供了新的選擇。利用表面等離子體波的短波長，通過合理的設計掩模圖形和工藝參數，超分辨的納米光刻技術有望形成。 在此背景下，該所研究員提出了基于微結構邊際的LSP超分辨光刻技術。理論研究表明，該技術可獲得特征尺寸小于1/10曝光波長的納米結構，并利用365納米光源從實驗上獲......閱讀全文
光刻技術與納米光刻簡介
距離理查德·菲利普斯·費曼著名的演講“There’s plenty of room at the bottom”有將近60年歷史。在他的論文中，他曾問到：“我們怎么樣寫小？”在今天的科學技術研究中，仍有同樣的問題。雖然自上世紀60年代以來，科研技術已經大大進步，半導體行業中使用的線寬已經大幅度下
光刻技術與納米光刻簡介
距離理查德·菲利普斯·費曼著名的演講“There’s plenty of room at the bottom”有將近60年歷史。在他的論文中，他曾問到：“我們怎么樣寫小？”在今天的科學技術研究中，仍有同樣的問題。雖然自上世紀60年代以來，科研技術已經大大進步，半導體行業中使用的線寬已經大幅度下
光刻技術與納米光刻簡介
距離理查德·菲利普斯·費曼著名的演講“There’s plenty of room at the bottom”有將近60年歷史。在他的論文中，他曾問到：“我們怎么樣寫小？”在今天的科學技術研究中，仍有同樣的問題。雖然自上世紀60年代以來，科研技術已經大大進步，半導體行業中使用的線寬已經大幅度下
光刻技術首次繪出銀納米結構
德國柏林亥爾姆茨材料和能源研究中心與聯邦材料測試與研究機構合作，首次在銀材料底層上完成光刻納米結構，為未來光計算機數據處理、新型電子器件制造開辟了新的途徑。這項成果刊登在美國化學學會的《應用材料和界面》雜志上。 要想在材料表面獲得精細結構圖樣，最佳選擇是采用電子顯微鏡掃描技術，利用電子束在其
美開發出熱蘸筆納米光刻技術
據美國物理學家組織網11月7日報道，美國科學家首次厘清了溫度在蘸筆納米光刻技術中的作用，據此研制出的熱蘸筆納米光刻技術能在物質表面構造大小為20納米的結構。借助這一技術，科學家們能廉價地在多種材料表面構造和種植出納米結構，用以制造電路和化學傳感器，或者研究藥物如何依附于蛋白質和病
我國納米光刻技術研究取得突破
日前，中科院光電技術研究所微光刻技術與微光學實驗室首次提出基于微結構邊際的LSP超分辨光刻技術。該技術利用微納結構邊際作為掩模圖形，對表面等離子體進行有效激發，其采用普通I-line、G-line光源獲得了特征尺寸小于30納米的超分辨光刻圖形。 據相關負責人介紹，傳統的微光刻工藝采用盡可能
巧用沾筆納米光刻技術獲得超材料
沾筆納米光刻工藝示意圖 你或許沒有想過將堅硬的金屬或半導體與柔軟的有機物或生物產品結合起來會是何種情景，不過美國科學家可以告訴你的是，他們獲得了自然界從沒有見過的混合材料，而這些混合材料在醫學和制造業中將具有驚人的應用前景。 美國佛羅里達州立大學綜合納米研究所（INSI）的科學家
歐盟納米壓印光刻技術實現低成本批量生產感應薄膜
納米結構傳感器陣列（NSA），以其在單一檢測裝置有效檢測樣品中分子或分子一部分的大面積多參數傳感優勢，而在制藥業、環保等其它行業得到廣泛應用。但直到目前，其實驗室規模小批量生產導致相對較高的制造成本，一定程度上限制了新興技術在更大范圍內的商業化推廣應用。歐盟第七研發框架計劃（FP7）提供490
微納3D打印，更精準更宏觀
飛秒激光直寫無機納米結構的光場分布示意圖。（鄭美玲提供） ? 飛秒激光被用于眼科手術治療近視，已經為人熟知。 但它能做得遠不止于此。飛秒激光直寫作為一種有效的三維微納精細加工技術，可以在多種透明光學材料中實現微小型
電工所科技前沿論壇“微光刻與電子束光刻技術”開講
從1958年世界第一塊平面集成電路到2012年04月24日英特爾在北京天文館正式發布核心代號為Ivy Bridge的第三代酷睿處理器—英特爾首款22納米工藝處理器，短短五十多年，微電子技術一直遵循著摩爾定律，發展勢頭迅猛。 針對微光刻與電子束光刻技術發展圖譜，7月6日，中科院微電子所陳