LB膜分析儀的技術參數
1.槽體材質:固體燒結，無孔PTFE材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口2.框體特性:33 mm槽體高度調節，天平可XYZ三維定位調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口3.系統設計:模塊化設計，可獨立進行表面壓測量和鍍膜實驗，可原位進行表面紅外、表面電勢、布魯斯特角圖像、界面剪切等測試4.槽體表面積: 273 cm5.槽體內部尺寸:364 x 75 x 4 mm(長 x 寬 x高)6.滑障速度: 0.1-270 mm/min7.滑障速度精度: 0.1 mm/min8.測量范圍:0-150 mN/m9.天平最大負荷: 1 g10.天平定位調節: 360° x 110mm x 45 mm(XYZ)11.傳感精度: 4 μN/m12.表面壓測試元件: 標準Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004國際標準。其他選項......閱讀全文
LB膜分析儀軟件
?軟件?5.1 操作軟件是在Windows系統下運行，功能強大。軟件具有控制、校準、實驗程序設置、測量、數據采集和分析、在線顯示、數據的輸出和輸入等功能。?5.2 標準實驗程序：?等溫壓縮/松弛曲線：能夠獲得表面壓/mma曲線，表面壓/時間曲線，或表面壓/任意可測參數的曲線。壓縮方式：Constan
LB膜分析儀的特點
主要特點： 1.三鍍槽室設計，可對基片鍍同種/不同種膜 2.鍍槽結構簡單，操作方便；組合式設計，升級方便 3.反饋控制的對稱膜壓縮，確保膜均勻一致 4.系統可帶有各種在線膜表征設備 5.計算機控制, 軟件數據處理功能強大
LB膜分析儀的特點
1、極高的檢測器精度，高于0.01mN/m 2、模塊化設計，有表面勢能測量、Brewster角顯微鏡等多種功能配件選擇 3、對震動不敏感，實驗重復性優異 4、可沉積多層膜，并可做交替 5、在研究動力學過程中，可選配磁力攪拌系統 6、樣品需要量少，測量表面張力最少液體需要量只需300ul
LB膜分析儀的參數
1、膜天平測量范圍：0-130mN/m 2、膜天平分辨率：10μN/m 3、誤差小于0.1% 4、壓縮速度：1mm-200mm/min 5、表面位能測試精度：1mv 6、試片尺寸(長x寬)：40x26mm 7、主機尺寸：33x14x6(h)cm(13x5.5x2.4inches)
LB膜分析儀的簡介
LB膜分析儀可用于對相分離、相變、微區形成、成核過程和在單層膜組裝密度精確控制中酶的作用的實時熒光成像。它也十分適用于兩親性單層膜的Brewster角顯微鏡和X-射線反射的測量。也可被當作一個張力計使用，監控在非常低的亞相體積下所期望得到組成的脂質單層和藥物/肽等物質的相互作用。
KSV NIMA LB膜分析儀
KSV NIMA Langmuir及Langmuir-Blodgett膜分析儀（以下簡稱?KSV NIMA?LB膜分析儀）是在Langmuir薄膜的制備、表征（包括顯微鏡）和Langmuir-Blodgett膜的沉積領域方面應用最廣泛的一款全球領先儀器。KSV NIMA Langmuir 及Lang
LB膜分析儀的應用
LB膜技術應用研究領域分布很廣，主要集中在以下幾個學科方面，具體分類又可以分為生物膜的化學模擬、電子學領域、光電子學領域、傳感器及相關領域。 LB膜分析儀可用于對相分離、相變、微區形成、成核過程和在單層膜組裝密度精確控制中酶的作用的實時熒光成像。它也十分適用于兩親性單層膜的Brewster角顯
KSV NIMA LB膜分析儀
KSV NIMA LB膜分析系統是由計算機控制的高性能的LB鍍膜系統，其應用廣泛、操作靈活。 系統結構模塊化，可擴展升級的硬件和軟件；整個系統框架型結構，允許添加其它附屬裝置，例如：可以與布魯斯特角顯微鏡BAM聯用；高質量的硬質熔結槽體；可進行膜的熒光和光譜分析，測量pH值和表面勢能等。?KSV N
LB膜分析儀的介紹
LB(Langmuir-Blodgett)膜分析儀為一款單分子層膜的制備和表征設備，是LB膜的沉積領域應用最廣泛的一款全球領先設備。LB膜分析儀配備了鍍膜井和鍍膜頭，在所需的堆積密度下，鍍膜頭可以用來將Langmuir膜轉移到固體基材上，鍍膜井可以在Langmuir膜下為固體樣品提供空間。將Lang
交替型LB膜分析儀
?工作原理位于氣-液或液-液界面處不可溶的功能性分子、納米顆粒、納米線或微粒所形成的單分子層可定義為Langmuir膜。這些分子能夠在界面處自由移動，具有較強的流動性，易于控制其堆積密度，研究單分子層的行為。將材料沉積在淺池（稱頂槽）中的水亞相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，單分子層