X射線能譜微區分析中出射角對X射線強度的影響
利用SEM-EDS研究了硅襯底上Au、Cu薄膜發射的不同線系特征X射線相對強度間比值隨出射角的變化規律,探討了影響其變化的原因。結果顯示:隨著出射角變大,同一元素不同線系X射線相對強度間比值具有一定變化規律。低能量譜線的強度相對高能量譜線逐漸變大,這種變化主要是受X射線被基體吸收效應的影響所致。在低角度下,特別是在特征X射線全反射臨界角附近,實際測得的低能量特征譜線的相對強度比預期要小,這是因為這些低能量譜線的波長較長,相對于這些譜線的全反射臨界角較大,由膜內產生的低能量譜線,探測器無法探測到而引起。此項研究為X射線薄膜微區分析的定量計算提供依據。 ......閱讀全文
X射線能譜微區分析中出射角對X射線強度的影響
利用SEM-EDS研究了硅襯底上Au、Cu薄膜發射的不同線系特征X射線相對強度間比值隨出射角的變化規律,探討了影響其變化的原因。結果顯示:隨著出射角變大,同一元素不同線系X射線相對強度間比值具有一定變化規律。低能量譜線的強度相對高能量譜線逐漸變大,這種變化主要是受X射線被基體吸收效應的影響所致。在低
微區成分的X射線能譜無標樣定量分析簡化模型
本文對作者建立的微區成分無標樣定量分析法進行了簡化,使原有的計算量大為減少。用簡化模型對Cu-Si,FeS2,NaCl,GaAs試樣和多元鋼樣原實驗數據進行了定量計算,并與原模型多元程序計算結果進行比較。結果表明,這種簡化是合理的。?
X 射線能譜
X 射線能譜（ Energy-dispersive X-ray spectroscopy, EDS）是微區成分分析最為常用的一種方法，其物理基礎是基于樣品的特征 X 射線。當樣品原子內層電子被入射電子激發或電離時，會在內層電子處產生一個空缺，原子處于能量較高的激發狀態，此時外層電子將向內層躍遷以填補
電子探針X射線微區分析能譜儀分析特點
具有以下優點（與波譜儀相比） 能譜儀探測X射線的效率高。 在同一時間對分析點內所有元素X射線光子的能量進行測定和計數，在幾分鐘內可得到定性分析結果，而波譜儀只能逐個測量每種元素特征波長。 結構簡單，穩定性和重現性都很好（因為無機械傳動），不必聚焦，對樣品表面無特殊要求，適于粗糙表面分析。
微區X射線衍射儀
微區X射線衍射儀是一種用于物理學、化學、材料科學、考古學領域的分析儀器，于2015年1月12日啟用。 技術指標 采用新一代的陶瓷X光管技術，焦斑位置穩定，衰減小，壽命長 ； 全自動可變狹縫，可以自由選擇固定狹縫大小或固定測量面積模式；高精度立式測角儀，樣品水平放置，最小步長及角度重復性皆為0
PVC/PP共混體系的X射線能譜微區分析
用Ｘ射線能譜微區分析方法對ＰＶＣ／ＰＰ共混物進行了研究，得到了共混物斷面氯元素的面分布圖，并對面分布圖像進行了相分析，從亞微觀層次揭示了ＰＶＣ／ ＰＰ共混物的相結構．將面分布圖像與掃描電鏡（ＳＥＭ） 對ＰＶＣ／ＰＰ共混物的形態照片進行了比較．結果表明，元素面分布圖像比形態照片具有更清晰、直觀的特點，
X射線能譜定量分析
隨著探頭制造技術水平的提高、電子學技術的發展,以及對脈沖處理技術和重疊峰處理方法的改進,能譜定量分析的精度得到不斷提高。目前,對原子序數在11～30之間的常用元素,其分析精度大體上可以達到波長譜儀的水平。由于能譜定量分析的方法簡單、操作方便,它既能進行大試樣的平均成份分析,也能進行微粒、薄板、鍍層、
X射線能譜分析對口腔種植界面微區元素的動態檢測
觀察種植界面微區元素在種植界面形成中的作用。用電子探針X射線能譜分析方法對界面進行百分含量測定。結果表明,鈦合金種植體植入后,12周內,鈣元素與磷元素逐漸增加并達到峰值,以后趨于平穩,鈦元素含量植入后2周較高,以后逐漸減少。種植體與機體組織之間只有極薄的一層纖維膜,已達到骨結合標準。鈣元素與磷元素
軟X射線能譜儀
本文描述了一個用于托卡馬克雜質譜線精細測量的高分辨軟X射線譜儀。譜儀采用Johann型彎晶衍射結構,以多絲正比室作探測器件。其測量范圍為2—8keV(1—6),能量分辨為4.1eV(在6.4keV處)。多絲正比室采用陽極絲逐絲讀出法,位置讀出精度2mm。譜儀配有自動數據記錄系統。?
X射線能譜儀簡介
能譜儀是利用X射線能譜分析法來對材料微區成分元素種類與含量分析的儀器，常常配合掃描電子顯微鏡與透射電子顯微鏡的使用。