分子束外延碲鎘汞薄膜中VOID缺陷的研究
HgCdTe薄膜中的Void缺陷嚴重影響面陣器件的有效元數。對用分子束外延法在GaAs襯底上生長的HgCdTe薄膜中的Void缺陷進行了形貌、剖面觀測和能譜分析。襯底表面狀況和HgCdTe生長過程中的Hg/Te束流比及襯底溫度決定了Void缺陷的密度和尺寸。在比較優化的條件下，可將Void缺陷密度降到5×102cm－2以下。 ......閱讀全文
X 射線能譜
X 射線能譜（ Energy-dispersive X-ray spectroscopy, EDS）是微區成分分析最為常用的一種方法，其物理基礎是基于樣品的特征 X 射線。當樣品原子內層電子被入射電子激發或電離時，會在內層電子處產生一個空缺，原子處于能量較高的激發狀態，此時外層電子將向內層躍遷以填補
軟X射線能譜儀
本文描述了一個用于托卡馬克雜質譜線精細測量的高分辨軟X射線譜儀。譜儀采用Johann型彎晶衍射結構,以多絲正比室作探測器件。其測量范圍為2—8keV(1—6),能量分辨為4.1eV(在6.4keV處)。多絲正比室采用陽極絲逐絲讀出法,位置讀出精度2mm。譜儀配有自動數據記錄系統。?
X射線能譜儀簡介
能譜儀是利用X射線能譜分析法來對材料微區成分元素種類與含量分析的儀器，常常配合掃描電子顯微鏡與透射電子顯微鏡的使用。
X射線機重過濾X射線能譜的測量
本文報道了用 NaI(Tl)閃爍譜儀對國產 F34-Ⅰ型 X 射線機的重過濾 X 射線能譜的測量和解譜方法,給出一組測量結果,并對測量結果進行了比較和討論。
軟X射線源上X射線能譜與X射線能量的測量
本文介紹了國內首次利用針孔透射光柵譜儀對金屬等離子體Ｚ箍縮Ｘ射線源能譜的測量結果及數據處理方法。同時用量熱計對該源的單脈沖Ｘ射線能量進行了測量并討論了其結果。
DPF脈沖X射線能譜測量
采用濾光法對ＤＰＦ脈沖Ｘ射線源裝置的Ｘ射線能譜進行了測量，取得了較好的結果，為輻射效應環境測量提供了一種手段。?
高能脈沖X射線能譜測量
給出了高能脈沖X射線能譜測量的基本原理及實驗結果.采用Monte-Carlo程序計算了高能光子在能譜儀中每個靈敏單元內的能量沉積,利用能譜儀測量了"強光Ⅰ號"加速器產生的高能脈沖X射線不同衰減程度下的強度,求解得到了具有時間分辨的高能脈沖X射線能譜,時間跨度57ns,時間步長5ns,光子的最高能量3
X射線能譜測量與模擬
1895年,德國科學家倫琴發現了X射線,開辟了一個嶄新的、廣闊的物理研究領域。其中,針對電子打靶產生的韌致輻射X射線的研究,是X射線研究領域的一個重要課題。本文在國內外針對X射線能譜測量與解析的基礎上,利用高純鍺(HPGe)探測器使用直接測量法與間接測量法對鎢靶X射線與鉬靶X射線能譜進行了測量。工作
Si(Li)X射線能譜儀
Si(Li)x射線能譜儀于一九六八午首次應川在電子探針,成為一種x射線微分析的工具。此后,在能量分辨率、計數率和數據分析等方面作了許多改進,目前已經成為電子探針和掃描電鏡的一種受歡迎的附件,甚至在透射電子顯微鏡上也得到應用。
X射線能譜儀應用范圍
1、金屬材料的相分析、成分分析和夾雜物形態成分的鑒定；2、高分子、陶瓷、混凝土、生物、礦物、纖維等無機或有機固體材料分析；3、可對固體材料的表面涂層、鍍層進行分析，如：金屬化膜表面鍍層的檢測；4、金銀飾品、寶石首飾的鑒別，考古和文物鑒定，以及刑偵鑒定等領域；5、進行材料表面微區成分的定性和定量分析，