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    MnSi1.7薄膜熱電性能研究

    本文對n型和p型MnSi1.7薄膜進行了俄歇譜分析,研究了化學位移和薄膜電學性能之間的關系。和純Mn相比,p型和n型MnSi1.7薄膜樣品的Mn[MVV]峰分別有+2.0和+7.0 eV的化學位移。與純Mn [LMM]的峰位在545、592、638 eV處相比,p型和n型MnSi1.7薄膜的545 eV的峰位都沒有改變;592 eV的峰位都有-0.5 eV的化學位移;p型MnSi1.7薄膜的638 eV的峰位有+0.5 eV的位移,而n型MnSi1.7薄膜的638 eV的峰位沒有位移。在用磁控濺射制備的兩個樣品中,出現了Mn[MVV]譜中50 eV、Mn [LMM]譜中600、654、705 eV的新的峰位,這些峰在n型樣品中更強,這可能與薄膜中含有Fe雜質有關。與純Si相比,n型和p型樣品的Si[LVV]峰均有+1.0 eV的化學位移。利用磁控濺射鍍膜的方法對n型MnSi1.7薄膜進行了C摻雜,摻雜后樣品還是n型。但是,樣品的......閱讀全文

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