類金剛石薄膜的電子結構及光學性質
以直流磁控濺射制備了類金剛石薄膜,采用原子力顯微鏡(AFM)觀察薄膜的表面形貌,采用俄歇電子能譜(AES)分析薄膜的化學鍵和電子結構。將參數D定義為俄歇電子能譜(AES)中最大正峰和最低負峰之間的距離,用俄歇電子能譜中的D值求得不同沉積氣壓條件下制備的薄膜的sp2鍵的百分含量和sp2鍵與sp3鍵比率。采用紫外可見光透射光譜(UV-Vis)分析了薄膜的光吸收特性和光學帶隙。結果表明:沉積氣壓低于0.8 Pa時,sp2鍵的百分含量隨沉積氣壓的增大而減小;薄膜的光學性質受光學帶隙的直接影響。......閱讀全文
類金剛石薄膜的電子結構及光學性質
以直流磁控濺射制備了類金剛石薄膜,采用原子力顯微鏡(AFM)觀察薄膜的表面形貌,采用俄歇電子能譜(AES)分析薄膜的化學鍵和電子結構。將參數D定義為俄歇電子能譜(AES)中最大正峰和最低負峰之間的距離,用俄歇電子能譜中的D值求得不同沉積氣壓條件下制備的薄膜的sp2鍵的百分含量和sp2鍵與sp3鍵比
金剛石的光學性質
(1) 亮度（Brilliance）金剛石因為具有極高的反射率，其反射臨界角較小，全反射的范圍寬，光容易發生全反射，反射光量大，從而產生很高的亮度。(2) 閃爍（Scintillation）金剛石的閃爍就是閃光，即當金剛石或者光源、 觀察者相對移動時其表面對于白光的反射和閃光。無色透明、結晶良好的八
N摻雜對非晶C薄膜的電子結構與光學性質的影響
用直流磁控濺射法制備了非晶C薄膜及N摻雜非晶C(a-C∶N)薄膜,用紫外-可見分光光譜儀、橢圓偏振儀、俄歇電子能譜(AES)等對薄膜進行了檢測。結果表明:隨源氣體中N氣含量的增加,透過率和折射率變小,而光學帶隙先增大后減小;當薄膜中N的含量很少,N的摻入對sp3雜化C起穩定作用,使得薄膜光學帶隙Eg
金剛石的結構性質
金剛石結構分為等軸晶系四面六面體立方體與六方晶系。在金剛石晶體中，碳原子按四面體成鍵方式互相連接，組成無限的三維骨架，是典型的原子晶體。每個碳原子都以SP3雜化軌道與另外4個碳原子形成共價鍵，構成正四面體。由于金剛石中的C-C鍵很強，所以所有的價電子都參與了共價鍵的形成，沒有自由電子，所以金剛石不僅
蘭州化物所類金剛石薄膜的潤滑研究取得新進展
中國科學院蘭州化學物理研究所固體潤滑國家重點實驗室空間潤滑材料研究組在類金剛石（DLC）薄膜材料潤滑應用方面取得了系列進展。 研究發現，DLC薄膜材料具有優異的減摩和抗磨性能，但傳統摩擦副用潤滑劑并不適合DLC摩擦副，或者說，傳統潤滑油并不能顯示DLC類摩擦副的優越性。課題組合
氟化類金剛石膜的制備、結構和性能的研究
本文嘗試了以CHF3、CH4／CHF3和C2H2／CHF3為源氣體，利用微波ECR等離子體源離子注入技術和等離子增強化學氣相沉積技術來制備氟化類金剛石膜的方法，并對DLC薄膜和FDLC薄膜的結構和性能進行了分析和比較。 研究了源氣體的種類及流量比、微波功率、高壓脈沖寬度、工作時間、工作溫度、沉積偏壓
高真空環境類金剛石碳基薄膜摩擦機理研究獲進展
中國科學院蘭州化學物理研究低維材料摩擦學課題組在高真空環境下類金剛石碳基薄膜摩擦機理研究方面取得新進展。研究工作相繼發表在近期出版的ACS Appl. Mater. Interfaces (2013, 5, 5889–5893)和Carbon ( 2014, 66, 259-266) 。
高真空環境下氟化類金剛石碳基薄膜研究獲進展
中國科學院蘭州化學物理研究所研究員王立平和副研究員魯志斌帶領的研究小組近期在高真空環境氟化非晶碳基薄膜的失效本質和延壽方面取得新的突破。 目前，我國空間機械裝備對運動機構提出了比以往更加苛刻的高精度、高可靠、長壽命等方面的性能要求。由于其在高真空環境下優異的摩擦學性能，氟化非晶碳基薄膜是高真空
唐永炳團隊利用顏色快速分辨類金剛石薄膜的新方法
近日，中國科學院深圳先進技術研究院集成所功能薄膜材料研究中心研究員唐永炳及其團隊成員通過對類金剛石（DLC）薄膜顏色和微結構的系統分析，并結合理論計算，揭示了不同種類DLC薄膜的顏色產生機理，成功發展出利用DLC薄膜顏色快速分析DLC薄膜種類和結構的新方法。相關研究成果以Colorful dia
蘭州化物所二硫化鉬/類金剛石碳復合薄膜研究取得進展
隨著航空航天、先進核能等領域的迅速發展，其機械運動部件服役工況也愈加多變、復雜、苛刻，對表面潤滑與防護薄膜材料抗輻照、多特性等方面提出愈來愈高的要求，致使傳統過渡金屬二硫化物薄膜（TMD）及類金剛石碳膜（DLC）等單一組分的潤滑薄膜材料面臨嚴峻挑戰。 中國科學院蘭州化學物理研究所固體潤滑國家重