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X射線是高速運動的電子在與物質相互作用中產生的。在X射線管中，從陰極發射的電子，經陰極、陽極間的電場加速后，轟擊X射線管靶（Target），將其動能傳遞給靶上的原子。其中約有1%左右的能量轉化為X射線，并從X射線照射窗（Output Window）中射出。在MFX中，陰極發射的電子會被聚焦到靶上的一個點，稱為X射線焦點（X-ray Focal Spot） ；MFX所發出的X射線均從X射線焦點以一個特定的發射角（Beam Angle） 射出，一般作為X-射線光源應用于工業或科研無損檢測/成像之中。 為了給電子加速到足夠轟擊產生X射線的能量，X射線管中陰陽極之間所加的管電壓一般高達幾十KV到幾百KV；所以除了X射線管（如圖1左）之外，MFX還需要配套的高壓電源以及控制器單元。為了避免高壓線接口插拔所導致的高壓放電故障（這在工業無損檢測應用中尤其關鍵），市場上主流的MFX均采用一體化設計——不僅能夠增加穩定性，降低返修率；而......閱讀全文
X射線是高速運動的電子在與物質相互作用中產生的。在X射線管中，從陰極發射的電子，經陰極、陽極間的電場加速后，轟擊X射線管靶（Target），將其動能傳遞給靶上的原子。其中約有1%左右的能量轉化為X射線，并從X射線照射窗（Output Window）中射出。在MFX中，陰極發射的電子會被聚焦到靶上
如果讓一束連續X射線照到一薄片晶體上，而在晶體后面放一黑紙包著的照相底片來探測X射線，則將底片顯影、定影以后，可以看到除了連續的背景和透射光束造成的斑點以外，還可以發現有其他許多斑點存在。這些斑點的存在表明有部分X射線遇到晶體后，改變了其前進的方向，與原來的入射方向不一致了，這些X射線實際上是晶體中
X射線能譜儀為掃描電鏡附件，其原理為電子槍發射的高能電子由電子光學系統中的兩級電磁透鏡聚焦成很細的電子束來激發樣品室中的樣品，從而產生背散射電子、二次電子、俄歇電子、吸收電子、透射電子、X射線和陰極熒光等多種信息。若X射線光子由Si（Li）探測器接收后給出電脈沖訊號，由于X射線光子能量不同（對某一元
X射線衍射儀分為單晶衍射儀和多晶衍射儀兩種。單晶衍射儀的被測對象為單晶體試樣，主要用于確定未知晶體材料的晶體結構。基本原理：在一粒單晶體中原子或原子團均是周期排列的。將X射線(如Cu的Kα輻射)射到一粒單晶體上會發生衍射，由對衍射線的分析可以解析出原子在晶體中的排列規律，也即解出晶體的結構。&nb
X射線衍射儀XRD是利用X射線在晶體物質中的衍射效應進行物質結構分析的技術。每一種結晶物質，都有其特定的晶體結構，包括點陣類型、晶面間距等參數，用具有足夠能量的X射線照射試樣，試樣中的物質受激發，會產生二次熒光X射線（標識X射線），晶體的晶面反射遵循布拉格定律。通過測定衍射角位置（峰位）可以進行
X射線熒光分析儀基本原理： 當能量高于原子內層電子結合能的高能X射線與原子發生碰撞時，驅逐一個內層電子而出現一個空穴，使整個原子體系處于不穩定的激發態，激發態原子壽命約為10-12-10-14s，然后自發地由能量高的狀態躍遷到能量低的狀態。這個過程稱為馳豫過程。馳豫過程既可以是非輻射躍遷，
X射線衍射儀XRD是利用X射線在晶體物質中的衍射效應進行物質結構分析的技術。每一種結晶物質，都有其特定的晶體結構，包括點陣類型、晶面間距等參數，用具有足夠能量的X射線照射試樣，試樣中的物質受激發，會產生二次熒光X射線（標識X射線），晶體的晶面反射遵循布拉格定律。通過測定衍射角位置（峰位）可以進行化
X射線是一種電磁輻射，其波長介于紫外線和γ射線之間。它的波長沒有一個嚴格的界限，一般來說是指波長為0.001-50nm的電磁輻射。對分析化學家來說，最感興趣的波段是0.01-24nm，0.01nm左右是超鈾元素的K系譜線，24nm則是最輕元素Li的K系譜線。1923年赫維西(Hevesy,
粉末x射線衍射儀的基本原理X射線同無線電波、可見光、紫外線等一樣,本質上都屬于電磁波,只是彼此之間占據不同的波長范圍而已。X射線的波長較短,大約在10-8～10-10cm之間。粉末x射線衍射儀上通常使用的X射線源是X射線管,這是一種裝有陰陽極的真空封閉管,在管子兩極間加上高電壓,陰極就會發射出高速電
X射線光子的能量在1000～1500ev之間，不僅可使分子的價電子電離而且也可以把內層電子激發出來，內層電子的能級受分子環境的影響很小。 同一原子的內層電子結合能在不同分子中相差很小，故它是特征的。光子入射到固體表面激發出光電子，利用能量分析器對光電子進行分析的實驗技術稱為光電子能譜。XPS的原理是