TXRF8全反射X射線熒光分析儀
產品介紹 全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了EDXRF方法的優越性。它突出的優點是檢出限低（pg、ng/mL級以下）、用樣量少（μL、ng級）、準確度高（可用內標法）、簡便、快速，而且可進行無損分析，成為一種不可替代的全新的元素分析方法。國際上每兩年召開一次TXRF分析技術國際討論會，該技術被譽為在分析領域是最具有競爭力的分析手段、在原子譜儀領域內處于領先地位。 在X熒光譜儀范圍內，與波長色散譜儀（WDXRF）方法比較，由于TXRF分析技術用樣量很少，也不需要制作樣品的煩瑣過程，又沒有本底增強或減弱效應，不需要每次對不同的基體做不同的基體校準曲線。另外由于使用內標法，對環境溫......閱讀全文
TXRF8全反射X射線熒光分析儀
產品介紹 全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了ED
TXRF8全反射X射線熒光分析儀
全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了EDXRF方法的優越
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產品介紹 全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了ED
全反射X射線熒光分析儀原理及特點
全反射X熒光光譜儀原理是基于X熒光能譜法，但與X射線能譜形成對比的是“傳統能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以zui大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生，同時減小了載體
全反射X射線熒光(TXRF)應用簡介
全反射X射線熒光(TXRF)具有優異的檢出限（低至ppt或pg），與其它具有類似元素檢出限的檢測手段相比，具有基體效應小、樣品需求量小、操作相對簡單、運行成本低等優勢。 TXRF一次可以對70多種元素進行同時分析，這是原子吸收ETAAS和FAAS方法難以完成的。與質譜儀中的ICP-MS和GDM
X射線熒光光譜儀的全反射熒光
如果n1>n2，則介質1相對于介質2為光密介質，介質2相對于介質1為光疏介質。對于X射線，一般固體與空氣相比都是光疏介質。所以，如果介質1是空氣，那么α1>α2，即折射線會偏向界面。如果α1足夠小，并使α2=0，此時的掠射角α1稱為臨界角α臨界。當α1
全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)組成結構
反射X射線熒光光譜儀(TXRF)主要包括：X射線源、光路系統、進樣系統、探測器、數據處理系統及其他附件，下文主要介紹前四部分。 一、X射線源：由高壓發生器及射線管組成。提供初級X射線，對樣品中待測元素進行激發得到X射線熒光，其強度正比于初級X射線的強度。通常，XRD或XRF發生器便可滿足TXR
全反射X射線熒光光譜儀技術相關介紹
全反射現象由Compton于1923年發現，1971年Yoneda等首次提出利用全反射現象來激發被測元素的特征譜線。這是一種超衡量檢測XRF技術。 XRF于1981年在德國問世,實質上是EDXRF的拓展,與常規EDXRF所具有的關鍵區別就在于其反射系統：TXRF通常有一級、二級或三級反射系
什么是全反射X射線熒光光譜儀技術？
全反射現象由Compton于1923年發現，1971年Yoneda等首次提出利用全反射現象來激發被測元素的特征譜線。這是一種超衡量檢測XRF技術。 XRF于1981年在德國問世,實質上是EDXRF的拓展,與常規EDXRF所具有的關鍵區別就在于其反射系統：TXRF通常有一級、二級或三級反射系統
TXRF全反射X射線熒光光譜儀的相關介紹
TXRF全反射X射線熒光光譜儀快速多元素痕量分析可對固體、粉末、液體、懸浮物、過濾物、大氣飄塵、薄膜樣品等進行定性、定量分析，元素范圍13Al-92U。 需要樣品量少，液體及懸浮物樣品1-50微升，粉末樣品10微克以內。 便攜式全反射熒光儀，設備小巧，一體化結構設計，不需要任何輔助設備及氣體
全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)原理及結構簡述
X射線熒光(XRF)是當原級X射線照射樣品時，受激原子內層電子產生能級躍遷所發射的特征二次X射線。該二次X射線的能量及強度可被探測，與樣品內待測元素的含量相關，此為XRF光譜儀的理論依據。 根據分光系統的不同，XRF光譜儀主要有波長色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)兩種，二者結構示
X射線熒光分析儀的優點
對于已壓鑄好的機械零件可以做到無損檢測，而不毀壞樣品。 測試速率高，可以在較少時間內進行大量樣品測試，分析結果可以通過計算機直接連網輸出。 分析速度較快。 對于純金屬可采用無標樣分析，精度能達分析要求。 不需要專業實驗室與操作人員，不引入其它對環境有害的物質。
X射線熒光分析儀的缺點
關于非金屬和界于金屬和非金屬之間的元素很難做到精確檢測。在用基本參數法測試時，如果測試樣品里含有C、H、O等元素，會出現誤差。 不能作為仲裁分析方法，檢測結果不能作為國家認證根據，不能區分元素價態。 對于鋼鐵等含有非金屬元素的合金，需要代表性樣品進行標準曲線繪制，分析結果的精確性是建立在標樣
X射線熒光分析儀的優點
對于已壓鑄好的機械零件可以做到無損檢測，而不毀壞樣品。 測試速率高，可以在較少時間內進行大量樣品測試，分析結果可以通過計算機直接連網輸出。 分析速度較快。 對于純金屬可采用無標樣分析，精度能達分析要求。 不需要專業實驗室與操作人員，不引入其它對環境有害的物質。
X射線熒光分析儀的缺點
關于非金屬和界于金屬和非金屬之間的元素很難做到精確檢測。在用基本參數法測試時，如果測試樣品里含有C、H、O等元素，會出現誤差。 不能作為仲裁分析方法，檢測結果不能作為國家認證根據，不能區分元素價態。 對于鋼鐵等含有非金屬元素的合金，需要代表性樣品進行標準曲線繪制，分析結果的精確性是建立在標樣
X射線熒光分析儀的介紹
X射線熒光分析儀主要由激發、色散（波長和能量色散）、探測、記錄和測量以及數據處理等部分組成。X射線光譜儀與X射線能譜儀兩類分析儀器有其相似之處，但在色散和探測方法上卻完全不同。在激發源和測量裝置的要求上，兩類儀器也有顯著的區別。X射線熒光分析儀按其性能和應用范圍，可分為實驗室用的X射線熒光光譜儀
全反射X射線熒光光譜儀的技術指標和功能
全反射X射線熒光光譜儀是一種用于材料科學領域的分析儀器，于2016年11月28日啟用。 一、技術指標 可分析元素范圍：Al~U（靶元素和與靶元素干擾嚴重的元素除外） 濃度范圍：10-9~100% 檢出限：Ni≤2pg 激發源：最大功率≥30W；最大激發電壓≥50kV，最大激發電流≥1mA 探
X射線熒光（XRF）：理解特征X射線
什么是XRF？ X射線熒光定義：由高能X射線或伽馬射線轟擊激發材料所發出次級（或熒光）X射線。這種現象廣泛應用于元素分析。 XRF如何工作？ 當高能光子（X射線或伽馬射線）被原子吸收，內層電子被激發出來，變成“光電子”，形成空穴，原子處于激發態。外層電子向內層躍遷，發射出能量等于兩級能
理學推出全反射X射線熒光光譜儀－鎘元素檢測有優勢
近日，日本理學宣布推出新一代理學NANOHUNTER II臺式全反射X射線熒光（TXRF）光譜儀，液體或固體表面高靈敏度痕量元素分析達到ppb水平。全反射X射線熒光光譜通過一種途徑使X射線入射光束剛好擦過樣品，來實現低背景噪音、高靈敏度的超微量元素測量。NANOHUNTER II臺式全反射X射線
選擇X射線熒光分析儀的誤區
強調“熒光”，許多用戶誤認為只有用X光管作為激發源的管激發儀器才是X熒光儀，一味地強調所謂“熒光”。事實上，如前所述，無論是采用X光管還是采用放射性同位素源作為激發源，只要是由X射線激發、通過測定被測樣品發出的熒光X射線得出其化學成分及含量的儀器，都是X熒光分析儀。 源激發和管激發各有優缺點。
X射線熒光分析儀的發展歷程
1895年倫琴發現X射線； 1910年特征X射線光譜的發現，為X射線光譜學的建立奠定了基礎； 20世紀50年代商用X射線發射與熒光光譜儀的問世，使得X射線光譜學技術進入了實用階段； 60年代能量色散型X射線光譜儀的出現，促進了X射線光譜學儀器的迅速發展，并使現場和原位X射線光譜分析成為可能
選購X射線熒光分析儀的誤區
聽別人多，看自己少。用戶在設備選型時經常會開展一些調研考察，一方面了解一些各種儀器及廠家的基本情況，作一些相互比較；另一方面會去一些與自己情況類似的用戶那里考察。這當然是必要的。但最重要的還是要根據自己的實際情況和具體需求來選擇。比如:以全廠質量控制為主要目的，樣品種類多，需要做全分析，準確度要
X射線熒光分析儀的主要分類
根據分光方式的不同，X射線熒光分析可分為能量色散和波長色散兩類，也X射線熒光分析就是通常所說的能譜儀和波譜儀，縮寫為EDXRF和WDXRF。通過測定熒光X射線的能量實現對被測樣品的分析的方式稱之為能量色散X射線熒光分析，相應的儀器稱之為能譜儀，通過測定熒光X射線的波長實現對被測樣品分析的方式稱之為波
簡述X射線熒光分析儀的產品特點
1、在測定微量成分時，由于X射線管的連續X射線所產生的散射線會產生較大的背景，致使目標峰的觀測比較困難。為了降低或消除背景和特征譜線等的散射X射線對高靈敏度分析的影響，此熒光分析儀配置了4種可自動切換的濾光片，有效地降低了背景和散射X射線的干擾，調整出最具感度的輻射，進一步提高了S/N的比值，從
選購X射線熒光分析儀的注意點
重價格輕服務。價格當然是選購商品的重要因素，但不應當是決定性因素。分析儀器各部件質量及其價格懸殊極大，并且直接決定了儀器的售價，單純追求價格便宜，很難保證質量。對于X熒光分析儀這樣的設備來說，服務往往更為重要。這里所說的服務不僅指安裝調試、備品備件供應、維修服務等，更重要的是應用技術服務。對于大
質子激發X射線熒光分析的X－射線譜
在質子X 射線熒光分析中所測得的X 射線譜是由連續本底譜和特征X 射線譜合成的疊加譜。樣品中一般含有多種元素，各元素都發射一組特征X 射線譜，能量相同或相近的譜峰疊加在一起，直觀辨認譜峰相當困難，需要通過復雜的數學處理來分解X 射線譜。解譜包括本底的扣除、譜的平滑處理、找峰和定峰位、求峰的半高寬
全反射X熒光光譜儀的基本介紹
全反射熒光光譜儀是一種用于環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，于2014年12月1日啟用。 1、技術指標 檢出限可以達到 ppb 和 ppm 級別，S2 PICOFOX 非常適用于痕量元素分析。在樣品數量較少、液體樣品含有高基質以及樣品種類經常變化的情況下，優勢十分明顯。 2、主要功
全反射X熒光光譜儀的特點介紹
1、單內標校正，有效簡化了定量分析，無基體影響； 2、對于任何基體的樣品可單獨進行校準和定量分析； 3、多元素實時分析，可進行痕量和超痕量分析； 4、不受樣品的類型和不同應用需求影響； 5、的液體或固體樣品的微量分析，分析所需樣品量小； 6、優良的檢出限水平，元素分析范圍從鈉覆蓋到钚；
全球與中國X射線熒光分析儀市場現狀
亞太地區是最大的市場，約占37%的市場份額。其次是北美和歐洲，約占55%的市場份額。主要的生產廠商有AMETEK, Thermo Fisher, Shimadzu, Rigaku, Oxford-Instruments, HORIBA, Hitachi High-tech, Olympus Inno
X射線熒光分析儀的基本信息介紹
X 射線熒光光譜儀的不斷完善和發展所帶動的X 射線熒光分析技術已被廣泛用于冶金、地質、礦物、石油、化工、生物、醫療、刑偵、考古等諸多部門和領域。X 射線熒光光譜分析不僅成為對其物質的化學元素、物相、化學立體結構、物證材料進行試測，對產品和材料質量進行無損檢測，對人體進行醫檢和微電路的光刻檢驗等的