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    能斯特方程的方程內容

    通過熱力學理論的推導,可以找到上述實驗結果所呈現出的離子濃度比與電極電勢的定量關系。對下列氧化還原反應:E=E(標準)-(RT)/(nF)ln([Zn2+]/[Cu2+])對于任一電池反應:aA+bB=cC+dDE=E(標準)-(RT)/(nF)ln(([C]c·[D]d)/([A]a·[B]b))……………………⑴⑴這個方程就叫做能斯特(Nernst,W.H.1864~1941)方程 [2] 。它指出了電池的電動勢與電池本性(E)和電解質濃度之間的定量關系。當溫度為298K時,能斯特方程為:E=E(標準)-(0.0257/n)ln(([C]c·[D]d)/([A]a·[B]b))……………………⑵當溫度為298K時,Cu-Zn原電池反應的能斯特方程為:E=E(標準)-(0.0592/n)ln([Zn2+]/[Cu2+])……………………⑶該方程的圖形應為一直線,其截距為E=1.10V,斜率為-0......閱讀全文

    能斯特方程的方程內容

    通過熱力學理論的推導,可以找到上述實驗結果所呈現出的離子濃度比與電極電勢的定量關系。對下列氧化還原反應:E=E(標準)-(RT)/(nF)ln([Zn2+]/[Cu2+])對于任一電池反應:aA+bB=cC+dDE=E(標準)-(RT)/(nF)ln(([C]c·[D]d)/([A]a·[B]b))

    能斯特方程的方程用途

    化學反應實際上經常在非標準狀態下進行,而且反應過程中離子濃度也會改變。例如,實驗室氯氣的制備方法之一,是用二氧化錳與濃鹽酸反應;在加熱的情況下,氯氣可以不斷發生。但是利用標準電極電勢來判斷上述反應的方向,卻會得出相反的結論。MnO2+4HCl=MnCl2+Cl2+2H2O還原劑的電極反應:2Cl--

    能斯特方程的方程應用

    一、離子濃度改變時電極電勢的變化根據能斯特方程可以求出離子濃度改變時電極電勢變化的數值二、離子濃度改變對氧化還原反應方向的影響非標準狀態下對于兩個電勢比較接近的電對,僅用標準電勢來判斷反應方向是不夠的,應該考慮離子濃度改變對反應方向的影響。三、介質酸度對氧化還原反應的影響及pH電勢圖

    什么是能斯特方程

    化學反應實際上經常在非標準狀態下進行,而且反應過程中離子濃度也會改變。例如,實驗室氯氣的制備方法之一,是用二氧化錳與濃鹽酸反應;在加熱的情況下,氯氣可以不斷發生。但是利用標準電極電勢來判斷上述反應的方向,卻會得出相反的結論。能斯特方程中的參數MnO2+4HCl=MnCl2+Cl2+2H2O  還原劑

    能斯特方程是什么

    能斯特方程電對的標準電極電勢是在298K下,反應物的濃度為1mol·L-1(反應物為氣態時,其分壓為101kPa)時測得的,如果反應物的濃度和溫度發生改變,則電對的電極電勢也隨著發生變化,它們之間的關系可以用能斯特方程表示.假定反應為:氧化型+ne還原型式中E——某一定濃度下的電極電勢;E——標準電

    ?什么是能斯特方程?

    能斯特方程,是指用以定量描述某種離子在A、B兩體系間形成的擴散電位的方程表達式。在電化學中,能斯特方程用來計算電極上相對于標準電勢而言的指定氧化還原對的平衡電壓。能斯特方程只有在氧化還原對中兩種物質同時存在時才有意義。這一方程把化學能和原電池電極電位聯系起來,在電化學方面有重大貢獻,故以其發現者德國

    計算的電化學電池的電壓電化學能斯特方程計算。

    能斯特方程是用于計算的電化學電池的電壓或找到的濃度的細胞的組件之一。這里看看能斯特方程和如何將它應用到解決問題的一個例子。?能斯特方程??電池?= E?0?細胞?- (RT / NF)LNQ??細胞?=非標準條件下的電池電勢(V)ê?0?細胞?=標準條件下的細胞的潛力R =氣體常數,為8.31(伏庫

    范第姆特方程解析

    范第姆特方程范第姆特方程(Van Deemter equation)是對塔板理論的修正,用于解釋色譜峰擴張和柱效降低的原因。塔板理論從熱力學出發,引入了一些并不符合實際情況的假設,Van Deemter方程則建立了一套經驗方程來修正塔板理論的誤差。范第姆特方程將峰形的改變歸結為理論塔板高度的變化,理

    阿倫尼烏斯方程式定律定義

    在1889年,阿倫尼烏斯在總結了大量實驗結果的基礎上,提出下列經驗公式:微分形式,k——溫度T時的反應速度常數;A——指前因子,也稱為阿倫尼烏斯常數,單位與k相同;Ea——稱為實驗活化能,一般可視為與溫度無關的常數,其單位為J·mol-1或·kJ·mol-1;T——絕對溫度,單位K;R——摩爾氣體常

    光柵方程

    光柵方程反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細的刻槽,一系列平行刻槽的間隔與波長相當,光柵表面涂上一層高反射率金屬膜。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產生衍射和干涉。對某波長,在大多數方向消失,只在一定的有限方向出現,這些方向確定了衍射級次。如圖1所示,光柵刻槽垂直輻射入射平面,輻射與光柵法線入射

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