關于透射電子顯微鏡的電子能量損失技術的介紹
通過使用采用電子能量損失光譜學這種先進技術的光譜儀，適當的電子可以根據他們的電壓被分離出來。這些設備允許選擇具有特定能量的電子，由于電子帶有的電荷相同，特定能量也就意味著特定的電壓。這樣，這些特定能量的電子可以與樣品發生特定的影響。例如，樣品中不同的元素可以導致射出樣品的電子能量不同。這種效應通常會導致色散，然而這種效應可以用來產生元素成分的信息圖像，根據原子的電子-電子作用。 電子能量損失光譜儀通常在光譜模式和圖像模式上操作，這樣就可以隔離或者排除特定的散射電子束。由于在許多圖像中，非彈性散射電子束包含了許多操作者不關心的信息，從而降低了有用信息的可觀測性。這樣，電子能量損失光譜學技術可以通過排除不需要的電子束有效提高亮場觀測圖像與暗場觀測圖像的對比度。......閱讀全文
關于透射電子顯微鏡的電子能量損失技術的介紹
通過使用采用電子能量損失光譜學這種先進技術的光譜儀，適當的電子可以根據他們的電壓被分離出來。這些設備允許選擇具有特定能量的電子，由于電子帶有的電荷相同，特定能量也就意味著特定的電壓。這樣，這些特定能量的電子可以與樣品發生特定的影響。例如，樣品中不同的元素可以導致射出樣品的電子能量不同。這種效應通
簡述透射電子顯微鏡電子能量損失
通過使用采用電子能量損失光譜學這種先進技術的光譜儀，適當的電子可以根據他們的電壓被分離出來。這些設備允許選擇具有特定能量的電子，由于電子帶有的電荷相同，特定能量也就意味著特定的電壓。這樣，這些特定能量的電子可以與樣品發生特定的影響。例如，樣品中不同的元素可以導致射出樣品的電子能量不同。這種效應通
關于電子能量損失譜法的性質介紹
由于低原子序數元素的非彈性散射幾率相當大，因此EELS技術特別適用于薄試樣低原子序數元素如碳、氮、氧、硼等的分析。它的特點是：分析的空間分辨率高，僅僅取決于入射電子束與試樣的互作用體積；直接分析入射電子與試樣非彈性散射互作用的結果而不是二次過程，探測效率高。一般來說，X射線波譜儀（XWDS）的接
關于電子能量損失譜法的原理介紹
當電子穿過樣品時，它們會與固體中的原子相互作用。許多電子在穿過薄樣品時不會損失能量。一部分在與原子相互作用時會發生非彈性散射并損失能量。這會讓樣品處于激發態。材料可通過分析通常以可見光子、X 射線或俄歇電子形式存在的能量實現去激發。 入射電子與樣品相互作用時，能量和動量都會發生改變。您可以在分
關于電子能量損失譜法的簡介
電子能量損失譜 (EELS) 是測量電子在與樣品相互作用后的動能變化的一系列技術。該技術用于確定樣品的原子結構和化學特性，包括：元素的種類及數量、元素的化學狀態以及元素與近鄰原子的集體相互作用。部分技術包括：光譜、能量過濾透射電子顯微術 (EFTEM) 和DualEELS
電子能量損失譜
電子能量損失譜（ Electron energy-loss spectroscopy, EELS）入射電子穿透樣品時，與樣品發生非彈性相互作用，電子將損失一部分能量。如果對出射電子按其損失的能量進行統計計數，便得到電子的能量損失譜。由于非彈性散射電子大都集中分布在一個頂角很小的圓錐內，適當地放置探頭
電子能量損失TEM
電子能量損失????????通過使用采用電子能量損失光譜學這種先進技術的光譜儀，適當的電子可以根據他們的電壓被分離出來。這些設備允許選擇具有特定能量的電子，由于電子帶有的電荷相同，特定能量也就意味著特定的電壓。這樣，這些特定能量的電子可以與樣品發生特定的影響。例如，樣品中不同的元素可以導致射出樣品的
電子能量損失譜－的簡介
電子能量損失譜 (EELS)?是測量電子在與樣品相互作用后的動能變化的一系列技術。該技術用于確定樣品的原子結構和化學特性，包括：元素的種類及數量、元素的化學狀態以及元素與近鄰原子的集體相互作用。
關于透射電子顯微鏡電子源的介紹
從上至下，TEM包含有一個可能由鎢絲制成也可能由六硼化鑭制成的電子發射源。對于鎢絲，燈絲的形狀可能是別針形也可能是小的釘形。而六硼化鑭使用了很小的一塊單晶。通過將電子槍與高達10萬伏-30萬伏的高電壓源相連，在電流足夠大的時候，電子槍將會通過熱電子發射或者場電子發射機制將電子發射入真空。該過程通
電子能量損失譜法的性質
由于低原子序數元素的非彈性散射幾率相當大，因此EELS技術特別適用于薄試樣低原子序數元素如碳、氮、氧、硼等的分析。它的特點是：分析的空間分辨率高，僅僅取決于入射電子束與試樣的互作用體積；直接分析入射電子與試樣非彈性散射互作用的結果而不是二次過程，探測效率高。一般來說，X射線波譜儀（XWDS）的接收效
電子能量損失譜儀的簡介
中文名稱電子能量損失譜儀英文名稱electronic energy loss spectrometer定 義測量試樣非彈性散射電子能量的電子能譜儀。應用學科機械工程（一級學科），分析儀器（二級學科），能譜和射線分析儀器-能譜和射線分析儀器儀器和附件（三級學科）
關于透射電子顯微鏡的應用介紹
透射電子顯微鏡在材料科學、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于
關于透射電子顯微鏡的電子槍的介紹
（1）陰極 陰極是產生自由電子的源頭，一般有直熱式和旁熱式2種，旁熱式陰極是將加熱體和陰極分離，各自保持獨立。在電鏡中通常由加熱燈絲（filament）兼做陰極稱為直熱式陰極，材料多用金屬鎢絲制成，其特點是成本低，但亮度低，壽命也較短。燈絲的直徑約為0.10～0.12mm，當幾安培的加熱電流流過
簡述電子能量損失譜法的定義
電子能量損失譜分析簡稱EELS（Electron Energy Loss Spectroscopy）是利用入射電子束在試樣中發生非彈性散射，電子損失的能量DE直接反映了發生散射的機制、試樣的化學組成以及厚度等信息，因而能夠對薄試樣微區的元素組成、化學鍵及電子結構等進行分析。
關于透射電子顯微鏡的物鏡的介紹
處于樣品室下面，緊貼樣品臺，是電鏡中的第1個成像元件，在物鏡上產生哪怕是極微小的誤差，都會經過多級高倍率放大而明顯地暴露出來，所以這是電鏡的一個最重要部件，決定了一臺電鏡的分辨本領，可看作是電鏡的心臟。 （1）特點 物鏡是一塊強磁透鏡，焦距很短，對材料的質地純度、加工精度、使用中污染的狀況等工
關于透射電子顯微鏡的光闌的介紹
為限制電子束的散射，更有效地利用近軸光線，消除球差、提高成像質量和反差 ，電鏡光學通道上多處加有光闌，以遮擋旁軸光線及散射光。 光闌有固定光闌和活動光闌2種，固定光闌為管狀無磁金屬物，嵌入透鏡中心，操作者無法調整（如聚光鏡固定光闌）。活動光闌是用長條狀無磁性金屬鉬薄片制成，上面縱向等距離排列有
簡述透射電子顯微鏡的相襯技術介紹
晶體結構可以通過高分辨率透射電子顯微鏡來研究，這種技術也被稱為相襯顯微技術。當使用場發射電子源的時候，觀測圖像通過由電子與樣品相互作用導致的電子波相位的差別重構得出。然而由于圖像還依賴于射在屏幕上的電子的數量，對相襯圖像的識別更加復雜。然而，這種成像方法的優勢在于可以提供有關樣品的更多信息。
關于透射電子顯微鏡的成像原理介紹
透射電子顯微鏡的成像原理可分為三種情況： 吸收像：當電子射到質量、密度大的樣品時，主要的成相作用是散射作用。樣品上質量厚度大的地方對電子的散射角大，通過的電子較少，像的亮度較暗。早期的透射電子顯微鏡都是基于這種原理。 衍射像：電子束被樣品衍射后，樣品不同位置的衍射波振幅分布對應于樣品中晶體各
關于透射電子顯微鏡的發現歷史介紹
恩斯特·阿貝最開始指出，對物體細節的分辨率受到用于成像的光波波長的限制，因此使用光學顯微鏡僅能對微米級的結構進行放大觀察。通過使用由奧古斯特·柯勒和莫里茨·馮·羅爾研制的紫外光顯微鏡，可以將極限分辨率提升約一倍。然而，由于常用的玻璃會吸收紫外線，這種方法需要更昂貴的石英光學元件。當時人們認為由于
關于透射電子顯微鏡的照相室的介紹
在觀察中電子束長時間轟擊生物醫學樣品標本，必會使樣品污染或損傷。所以對有診斷分析價值的區域，若想長久地觀察分析和反復使用電鏡成像結果，應該盡快把它保留下來，將因為電子束轟擊生物醫學樣品造成的污染或損傷降低到最小。此外，熒光屏上的粉質顆粒的解像力還不夠高，尚不能充分反映出電鏡成像的分辨本領。將影像
關于透射電子顯微鏡的樣品室的介紹
樣品室處在聚光鏡之下，內有載放樣品的樣品臺。樣品臺必須能做水平面上X、Y方向的移動，以選擇、移動觀察視野，相對應地配備了2個操縱桿或者旋轉手輪，這是一個精密的調節機構，每一個操縱桿旋轉10圈時，樣品臺才能沿著某個方向移動3mm左右。現代高檔電鏡可配有由計算機控制的馬達驅動的樣品臺，力求樣品在移動
透射電子顯微鏡的電子的相關介紹
理論上，光學顯微鏡所能達到的最大分辨率，d，受到照射在樣品上的光子波長λ以及光學系統的數值孔徑，NA，的限制： 二十世紀早期，科學家發現理論上使用電子可以突破可見光光波波長的限制（波長大約400納米-700納米）。與其他物質類似，電子具有波粒二象性，而他們的波動特性意味著一束電子具有與一束電磁
關于透射電子顯微鏡的基本信息介紹
透射電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope，簡稱TEM)，可以看到在光學顯微鏡下無法看清的小于0.2um的細微結構，這些結構稱為亞顯微結構或超微結構。要想看清這些結構，就必須選擇波長更短的光源，以提高顯微鏡的分辨率。1932年Ruska發明了以電子束為光源的
關于透射電子顯微鏡制備樣品要求的介紹
1．粉末樣品基本要求 （1）單顆粉末尺寸最好小于1μm； （2）無磁性； （3）以無機成分為主，否則會造成電鏡嚴重的污染，高壓跳掉，甚至擊壞高壓槍； 2．塊狀樣品基本要求 （1）需要電解減薄或離子減薄，獲得幾十納米的薄區才能觀察； （2）如晶粒尺寸小于1μm，也可用破碎等機械方法制成
關于透射電子顯微鏡的聚光鏡的介紹
聚光鏡處在電子槍的下方，一般由2～3級組成，從上至下依次稱為第1、第2聚光鏡（以C1 和C2表示）。關于電磁透鏡的結構和工作原理已經在上一節中介紹，電鏡中設置聚光鏡的用途是將電子槍發射出來的電子束流會聚成亮度均勻且照射范圍可調的光斑，投射在下面的樣品上。C1和C2的結構相似，但極靴形狀和工作電流
關于透射電子顯微鏡的消像散器的介紹
像散（指軸上像散）的產生除了前面介紹的材質、加工精度等原因以外，實際上在使用過程中，會因為各部件的疲勞損耗、真空油脂的擴散沉積、以及生物醫學樣品中的有機物在電子束照射下的熱蒸發污染等眾多因素逐漸積累，使得像散也在不斷變化。所以像散的消除在電鏡制造和應用之中都成了必不可少的重要技術。 早期電鏡中
透射電子顯微鏡的應用介紹
透射電子顯微鏡在材料科學?、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于液
透射電子顯微鏡的功能介紹
透射電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope，簡稱TEM)，可以看到在光學顯微鏡下無法看清的小于0.2um的細微結構，這些結構稱為亞顯微結構或超微結構。要想看清這些結構，就必須選擇波長更短的光源，以提高顯微鏡的分辨率。1932年Ruska發明了以電子束為光源的透射
透射電子顯微鏡的應用介紹
透射電子顯微鏡在材料科學 、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于液
透射電子顯微鏡的功能介紹
因電子束穿透樣品后，再用電子透鏡成像放大而得名。它的光路與光學顯微鏡相仿，可以直接獲得一個樣本的投影。通過改變物鏡的透鏡系統人們可以直接放大物鏡的焦點的像。由此人們可以獲得電子衍射像。使用這個像可以分析樣本的晶體結構。在這種電子顯微鏡中，圖像細節的對比度是由樣品的原子對電子束的散射形成的。由于電子需