氮化銦的應用特點
氮化銦是一種新型的三族氮化物材料。這種材料的引人之處在于它的優良的電子輸運性能和窄的能帶，有望應用于制造新型高頻太拉赫茲通信的光電子器件。氮化銦(InN)是氮化物半導體材料的一種。常溫常壓下的穩定相是六方纖鋅礦結構,是一種直接帶隙半導體材料。......閱讀全文
氮化銦的應用特點
氮化銦是一種新型的三族氮化物材料。這種材料的引人之處在于它的優良的電子輸運性能和窄的能帶，有望應用于制造新型高頻太拉赫茲通信的光電子器件。氮化銦(InN)是氮化物半導體材料的一種。常溫常壓下的穩定相是六方纖鋅礦結構,是一種直接帶隙半導體材料。
氮化銦的結構特點
氮化銦是一種新型的三族氮化物材料。這種材料的引人之處在于它的優良的電子輸運性能和窄的能帶，有望應用于制造新型高頻太拉赫茲通信的光電子器件。氮化銦納米結構是研制相關量子器件的基礎。然而，一直以來，InN納米材料的生長往往要利用銦的氧化物或氯化物，這會在氮化銦納米材料中引入許多雜質，致使材料的光學、電學
氮化銦應用與制備方法
應用氮化銦(InN)發展成為新型的半導體功能材料，在所有Ⅲ族氮化物半導體材料中，氮化銦具有良好的穩態和瞬態電學傳輸特性，它有最大的電子遷移率、最大的峰值速率、最大的飽和電子漂移速率、最大的尖峰速率和有最小的帶隙、最小的電子有效質量等優異的性質，這些使得氮化銦相對于氮化鋁(AlN)和氮化鎵(GaN)等
氮化銦－用途簡介
氮化銦(InN)發展成為新型的半導體功能材料，在所有Ⅲ族氮化物半導體材料中，氮化銦具有良好的穩態和瞬態電學傳輸特性，它有最大的電子遷移率、最大的峰值速率、最大的飽和電子漂移速率、最大的尖峰速率和有最小的帶隙、最小的電子有效質量等優異的性質，這些使Chemicalbook得氮化銦相對于氮化鋁(AlN)
氮化銦制備方法
步驟S1、提供一襯底，在所述襯底上沉積一層介電薄膜；步驟S2、對所述介電薄膜進行圖案化，得到均勻排列的多個介電凸臺；步驟S3、提供一反應室，將所述形成有介電凸臺的襯底放入反應室中并將所述反應室抽真空；步驟S4、在所述介電凸臺及襯底上Chemicalbook生長緩沖層，在介電凸臺的阻擋下，所述緩沖層的
氮化銦的基本特性
利用金屬有機化學氣相淀積生長的氮化銦薄膜的光致發光特性，由于氮化銦本身具有很高的背景載流子濃度，費米能級在導帶之上，通過能帶關系圖以及相關公式擬合光致發光圖譜可以得到生長的氮化銦的帶隙為0.67cV,并且可以計算出相應的載流子濃度為 n = 5.4×10cm，從而找到了一種聯系光致發光譜與載流子濃度
氮化銦－用途與制備方法
應用氮化銦(InN)發展成為新型的半導體功能材料，在所有Ⅲ族氮化物半導體材料中，氮化銦具有良好的穩態和瞬態電學傳輸特性，它有最大的電子遷移率、最大的峰值速率、最大的飽和電子漂移速率、最大的尖峰速率和有最小的帶隙、最小的電子有效質量等優異的性質，這些使得氮化銦相對于氮化鋁(AlN)和氮化鎵(GaN)等
氮化鎵的的結構和應用特點
氮化鎵是一種無機物，化學式GaN，是氮和鎵的化合物，是一種直接能隙（direct bandgap）的半導體，自1990年起常用在發光二極管中。此化合物結構類似纖鋅礦，硬度很高。氮化鎵的能隙很寬，為3.4電子伏特，可以用在高功率、高速的光電元件中，例如氮化鎵可以用在紫光的激光二極管，可以在不使用非線性
銅銦硒電池的特點
銅銦硒CuInSe2簡稱CIC.CIS材料的能降為1.leV，適于太陽光的光電轉換，另外，CIS薄膜太陽電池不存在光致衰退問題。因此，CIS用作高轉換效率薄膜太陽能電池材料也引起了人們的注目。
氮化鋁的應用歷史
氮化鋁于1877年首次合成。至1980年代，因氮化鋁是一種陶瓷絕緣體(聚晶體物料為70-210W?m?1?K?1，而單晶體更可高達275W?m?1?K?1)，使氮化鋁有較高的傳熱能力，至使氮化鋁被大量應用于微電子學。與氧化鈹不同的是氮化鋁無毒。氮化鋁用金屬處理，能取代礬土及氧化鈹用于大量電子儀器。氮
銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽能電池的特點和應用
銅銦鎵硒（CIGS）薄膜太陽能電池由Cu（銅）、In（銦）、Ga（鎵）、Se（硒）四種元素構成最佳比例的黃銅礦結晶薄膜太陽能電池，是組成電池板的關鍵技術。由于薄膜太陽能電池具有光吸收能力強、發電穩定性好、能源回收周期短等諸多優勢，CIGS太陽能電池逐漸成為太陽能電池行業的重要發展方向，可以與傳統的晶
氮化鋁的用途和應用
用途氮化鋁是良好的耐熱沖擊材料，是熔鑄純鐵、鋁或鋁合金理想的坩堝材料。用途導熱性好，熱膨脹系數小，是良好的耐熱沖擊材料。抗熔融金屬腐蝕的能力強，是熔鑄純鐵、鋁和鋁合金理想的坩堝材料。應用如下：1、導熱硅膠和導熱環氧樹脂超高導熱納米復合硅膠具有良好的導熱性，良好的電絕緣性，較寬的電絕緣性和使用溫度（工
氮化鋁的特性和應用
特性(1)熱導率高(約320W/m·K)，接近BeO和SiC，是Al2O3的5倍以上；(2)熱膨脹系數(4.5×10-6℃)與Si(3.5~4×10-6℃)和GaAs(6×10-6℃)匹配；(3)各種電性能(介電常數、介質損耗、體電阻率、介電強度)優良；(4)機械性能好，抗折強度高于Al2O3和Be