一文了解微區XRF，及基于SEM的微區XRF技術
X射線熒光（XRF）是一種用于測定材料元素和涂層系統特性的分析方法，具有悠久的歷史，在許多實驗室都有應用。傳統上，XRF分析大面積或體積的樣品。在制備過程中，往往需要對樣品材料進行變形和破壞，即制備過程是破壞性的。但很多樣品需要在無損的情況下進行檢測。這意味著需要將完整的樣品放置在儀器中，不可能通過均質或拋光來獲得平坦的樣品區域。在這種情況下，可以使用微區X 射線熒光 (μ-XRF)，因為這種方法只對小面積的樣品進行研究。 微 X 射線熒光 (μ-XRF)也稱為空間分辨 X 射線熒光技術，在50多年前首次被描述。從那時起，盡管它在一些工業和學術應用領域相當普遍，但多年來一直是一項針對特定客戶群的專用技術。早期論文指出了μ-XRF技術的分析優勢，這些優勢至今仍然適用，例如可以對較大樣品中的特定小區域進行非破壞性樣品分析，從而更好地描述化學性質不均勻的材料。此外，由于幾乎不需要樣品制備，該技術還具有快速、主要和痕量元素靈敏度高......閱讀全文
一文了解微區XRF，及基于SEM的微區XRF技術
X射線熒光（XRF）是一種用于測定材料元素和涂層系統特性的分析方法，具有悠久的歷史，在許多實驗室都有應用。傳統上，XRF分析大面積或體積的樣品。在制備過程中，往往需要對樣品材料進行變形和破壞，即制備過程是破壞性的。但很多樣品需要在無損的情況下進行檢測。這意味著需要將完整的樣品放置在儀器中，不可能
掃描電子顯微術－SEM
分析原理：用電子技術檢測高能電子束與樣品作用時產生二次電子、背散射電子、吸收電子、X射線等并放大成象 譜圖的表示方法：背散射象、二次電子象、吸收電流象、元素的線分布和面分布等 提供的信息：斷口形貌、表面顯微結構、薄膜內部的顯微結構、微區元素分析與定量元素分析等
積極響應國家設備更新政策丨布魯克電子顯微分析儀器更新和升級指南
近期，國家連續推出多項政策，科學儀器行業均受到了不同程度的拉動。3月1日，國務院常務會議審議通過《推動大規模設備更新和消費品以舊換新行動方案》（后簡稱《行動方案》）。一時間在行業中又激起千層浪，將近期的政策利好推向了高潮。作為優異的科學實驗儀器制造廠商，布魯克納米分析部電子顯微分析技術基于電子顯微鏡
電子掃描顯微鏡（SEM）的工作原理
SEM通過電子來使樣本放大50萬倍，相當于將1毫米放大到500米。同時，SEM也可以分析樣品的組成元素。SEM產生電子束撞擊樣品原子的電子層，產生X射線，釋放不同程度的能力，從而判斷原子的種類。這項技術也被稱為X射線微探技術，對于分析槍擊痕跡非常有用。
什么是掃描電子顯微鏡－SEM？
掃描電鏡的應用較為普遍，掃描電子顯微鏡原理是：通過光柵掃描技術來產生標本的放大圖像。它引導聚焦的電子束穿過樣品的矩形區域，當電子束通過時會產生能量損失。該能量會被轉換成熱、光、二次電子等能量同時反向散射電子。此時通過軟件系統進行翻譯轉換后得到清晰的標本圖像信息。從成像原理分析，掃描電子顯微鏡的分辨率
掃描電子顯微鏡(Scanningelectron－microscopy,－SEM)
掃描電鏡分析可以提供從數納米到毫米范圍內的形貌像，觀察視野大，其分辯率一般為6納米，對于場發射掃描電子顯微鏡，其空間分辯率可以達到0.5納米量級。其提供的信息主要有材料的幾何形貌，粉體的分散狀態，納米顆粒大小及分布以及特定形貌區域的元素組成和物相結構。掃描電鏡對樣品的要求比較低，無論是粉體樣品還是大
電子掃描顯微鏡（SEM）的工作原理
掃描電鏡是用聚焦電子束在試樣表面逐點掃描成像。試樣為塊狀或粉末顆 粒，成像信號可以是二次電子、背散射電子或吸收電子。其中二次電子是最主要的成像信號。由電子槍發射的能量為 5 ～ 35keV 的電子，以其交 叉斑作為電子源，經二級聚光鏡及物鏡的縮小形成具有一定能量、一定束流強度和束斑直徑的微細電子束，
掃描電子顯微鏡SEM工作原理
透射電鏡原理 目前，主流的透射電鏡鏡筒是電子槍室和由6～8 級成像透鏡以及觀察室等組成。陰極燈絲在燈絲加熱電流作用下發射電子束，該電子束在陽極加速高壓的加速下向下高速運動，經過*聚光鏡和第二聚光鏡的會聚作用使電子束聚焦在樣品上，透過樣品的電子束再經過物鏡、*中間鏡、第二中間鏡和投影鏡四級放大后在熒
布魯克發布全球首個多層分析電鏡軟件包XMethod
分析測試百科網訊 近日，布魯克公司在2017顯微鏡和微觀分析會議上展示了世界上第一個用于分析單層或多層組成和厚度的軟件包X-Method，可以通過XTrace微焦X射線源掃描電子樣本激發獲得的電子顯微鏡圖像。該軟件能夠對厚度范圍從幾納米到40微米的薄膜和多層結構進行表征，而不需要對樣品進行橫截面
掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備詳解
一、樣品處理的要求掃描電子顯微鏡的優勢為可以直接觀察非常粗糙的樣品表面，參差起伏的材料原始斷口。但其劣勢為樣品必須在真空環境下觀察，因此對樣品有一些特殊要求,籠統的講：干燥，無油，導電。1、形貌形態，必須耐高真空。例如有些含水量很大的細胞，在真空中很快被抽干水分，細胞的形態也發生了改變，無法對各類型
采用激光共聚焦顯微鏡可以獲取媲美SEM的顯微圖像
激光共聚焦顯微鏡可用來觀察樣品表面亞微米級別的三維輪廓形貌, 也可以測量多種微幾何尺寸, 像晶粒度、體積、膜深、膜厚、深度、長寬、線粗糙度、面粗糙度等。激光共聚焦相比于其他測量手段有其獨特的優勢, 它提高了圖片的清晰度, 有很好的景深, 提高了分辨率, 可以進行無接觸的三維輪廓測試。在金屬材料研發方
采用激光共聚焦顯微鏡可以獲取媲美SEM的顯微圖像
激光共聚焦顯微鏡可用來觀察樣品表面亞微米級別的三維輪廓形貌, 也可以測量多種微幾何尺寸, 像晶粒度、體積、膜深、膜厚、深度、長寬、線粗糙度、面粗糙度等。激光共聚焦相比于其他測量手段有其獨特的優勢, 它提高了圖片的清晰度, 有很好的景深, 提高了分辨率, 可以進行無接觸的三維輪廓測試。在金屬材料研發方
MINI掃描電鏡SEM與光學顯微鏡的區別
電子顯微鏡是以電子束為照明源，通過電子流對樣品的透射或反射及電磁透鏡的多級放大后在熒光屏上成像的大型儀器，電子顯微鏡由電子流代替可見光，由磁場代替透鏡，讓電子的運動代替，是利用了波長比普通可見光短得多的X射線成像，具備很高的分辨率。而光學顯微鏡則是利用可見光照明，將微小物體形成放大影像的光學儀器。概
桌上型掃描電子顯微鏡（SEM）基礎
1 什么是掃描電子顯微鏡（SEM）????Scanning Electron Microscope(SEM)掃描型電子顯微鏡是由真空系統、??? 高壓電源、高靈敏度增幅器獲取樣品表面圖像的科學儀器。2 SEM的工作原理????3 SEM與光學顯微鏡相比，SEM的優點有哪些？????比光學顯微鏡多10
掃描電子顯微鏡SEM的結構及原理
一、電子光學系統包括電子槍，聚光鏡（*、第二聚光鏡和物鏡），物鏡光闌和掃描系統。其作用是產生直徑為幾十埃的掃描電子束，即電子探針，使其在樣品表面作光柵狀掃描電子槍與透射電鏡的電子槍基本相同，只是加速電壓較低，一般在40kV以下。磁透鏡有*、二聚光鏡和物鏡，其作用與透射電鏡的聚光鏡相同：縮小電子束的直
掃描電子顯微鏡SEM的結構及原理
掃描電鏡主要由電子光學系統，顯示系統，真空及電源系統組成。一、電子光學系統包括電子槍，聚光鏡（*、第二聚光鏡和物鏡），物鏡光闌和掃描系統。其作用是產生直徑為幾十埃的掃描電子束，即電子探針，使其在樣品表面作光柵狀掃描電子槍與透射電鏡的電子槍基本相同，只是加速電壓較低，一般在40kV以下。磁透鏡有*、二
MINI掃描電鏡SEM與光學顯微鏡的區別
電子顯微鏡與光學顯微鏡的區別電子顯微鏡是以電子束為照明源，通過電子流對樣品的透射或反射及電磁透鏡的多級放大后在熒光屏上成像的大型儀器，電子顯微鏡由電子流代替可見光，由磁場代替透鏡，讓電子的運動代替，是利用了波長比普通可見光短得多的X射線成像，具備很高的分辨率。而光學顯微鏡則是利用可見光照明，將微小物
掃描電子顯微鏡（SEM）之樣品制備篇
一、樣品處理的要求 掃描電子顯微鏡的優勢為可以直接觀察非常粗糙的樣品表面，參差起伏的材料原始斷口。但其劣勢為樣品必須在真空環境下觀察，因此對樣品有一些特殊要求,籠統的講：干燥，無油，導電。 1 形貌形態，必須耐高真空。 例如有些含水量很大的細胞，在真空中很快被抽干水分，細胞的形態也發生了改
XRF
能量色散X熒光光譜儀，簡稱XRF，是一種物理的元素分析方法，具有快速、無損、多種元素同時分析、分析成本低等特殊技術優勢，在電子、電器、珠寶、玩具、服裝、皮革、食品、建材、冶金、地礦、塑料、石油、化工、醫藥等行業廣泛應用。可應用于：1、歐盟RoHS指令限定有害元素檢測： 鉛Pb、汞Hg、鎘Cd、六價鉻
掃描電子顯微鏡（SEM）和電子探針顯微分析裝置（EPMA）
掃描電子顯微鏡和電子探針顯微分析儀基本原理相同，但很多人分不清其差異，實際上需要使用電子探針領域比較少，而掃描電鏡相對普遍。掃描電子顯微鏡（SEM），主要用于固體物質表面電子顯微高分辨成像，接配電子顯微分析附件，可做相應的特征信號分析。 最常用的分析信號是聚焦電子束和樣品相互作用區發射出的元素特征X
SEM特點
特點（一）?能夠直接觀察樣品表面的結構，樣品的尺寸可大至120mm×80mm×50mm。（二）?樣品制備過程簡單，不用切成薄片。（三）?樣品可以在樣品室中作三度空間的平移和旋轉，因此，可以從各種角度對樣品進行觀察。（四）?景深大，圖象富有立體感。掃描電鏡的景深較光學顯微鏡大幾百倍，比透射電鏡大幾十倍
SEM結構
結構1．鏡筒鏡筒包括電子槍、聚光鏡、物鏡及掃描系統。其作用是產生很細的電子束（直徑約幾個nm），并且使該電子束在樣品表面掃描，同時激發出各種信號。2．電子信號的收集與處理系統在樣品室中，掃描電子束與樣品發生相互作用后產生多種信號，其中包括二次電子、背散射電子、X射線、吸收電子、俄歇（Auger）電子
四大顯微設備SEM、TEM、AFM、STM工作原理匯總
四大顯微設備：SEM、TEM、AFM、STM，相信大家并不陌生，特別是學材料的小伙伴們。那它們的工作原理呢？下面，讓您輕松了解它們的工作原理，跟枯燥乏味的各種分析說拜拜啦！01.掃描電子顯微鏡（SEM）SEM是利用細聚焦電子束在樣品表面掃描時激發出來的各種物理信號來調制成像的。SEM是采用逐點成像的
美國IXRF公司來天美安裝及培訓能譜
??????? 2010年12月14-16日，美國IXRF公司副總裁Rich Lamb先生和Kenny Witherspoon先生來天美北京電鏡應用實驗室安裝IXRF能譜并培訓相關人員。該能譜為10mm2的電制冷型，能量分辨率為126ev，將放在天美電鏡應用實驗室做演示。目前，天美公
XRF測試
XRF測試若干問題： XRF中文稱為X射線熒光光譜儀，它包括能量色散型X射線熒光光譜儀（EDXRF）和波長色散型X射線熒光光譜儀(WDXRF)，WDXRF在精度和準確度方面要比EDXRF好，價格也較高。目前市場上使用較多的是EDXRF。無論是哪種X射線熒光光譜儀，它都是利用熒光散射的原理探測樣品中是
SEM相關應用
掃描電鏡是一種多功能的儀器、具有很多優越的性能、是用途最為廣泛的一種儀器．它可以進行如下基本分析：?1、觀察納米材料：其具有很高的分辨率，可以觀察組成材料的顆粒或微晶尺寸在0.1-100nm范圍內，在保持表面潔凈的條件下加壓成型而得到的固體材料。2、材料斷口的分析：其景深大，圖象富立體感，具有三維形
SEM燈絲選擇
01.電子源大小電子源大小為電子槍發射出電子后經韋氏帽匯聚后所形成的電子束斑，六硼化鑭和六硼化鈰燈絲明顯小于鎢燈絲，更有利于經過聚光鏡和物鏡匯聚后形成更小的電子束斑，從而得到更好的分辨率；?02.亮度亮度為燈絲單位面積內的電子流強度，亮度越高，越有利于得到更充足的信號，提高圖片的信噪比和清晰度。六硼
SEM工作程序
工作程序（1）開啟試樣室進氣閥控制開關（CHAMB VENT），將試樣放入試樣室后將試樣室進氣閥控制開關（CHAMB VENT）關閉抽真空。（2）開啟鏡筒真空隔閥。（3）加高壓（ACCELERATION POTENTIAL）至25KV.（4）加燈絲電流（FILAMENT）至7.5-8.（5）調節顯示
SEM關機程序
關機程序（1）關燈絲電流（FILAMENT）。（2）關高壓（ACCELERATION POTENTIAL）。（3）反時針調節顯示器對比度（CONTRAST）、亮度（BRIGHTNESS）到底.（4）關閉鏡筒真空隔閥。（5）關主機電源開關。（6）關真空開關。（7）20分鐘后，關循環水和電子交流穩壓器開
SEM真空系統
SEM真空系統?不同的燈絲，SEM真空系統的設計有所不同。在鎢燈絲系統中，燈絲的真空度受到運行狀態影響。例如，每次加載或卸載樣品時，都會有空氣進入真空柱，影響燈絲的使用壽命。觀察不導電樣品時，通常需要低真空，也會縮短燈絲壽命。對于CeB6系統，比如飛納電鏡，內置渦輪分子泵，采用分級真空系統，通過壓差