近日,復旦大學公開了2022年8月政府采購意向,本次預算總金額超3500萬元,采購內容包括原子層薄膜氣相沉積系統、超高空間分辨電子束誘導電流譜、高分辨晶體衍射儀、傅立葉紅外光譜儀、紅外探測器高精度測試表征系統、II-VI族化合物半導體分子束外延系統等儀器設備。
采購項目名稱 | 采購品目 | 采購需求概況 | 預算金額(萬元) |
II-VI族化合物半導體分子束外延系統 | A02052402真空應用設備 | 分子束外延(MBE)系統包含外延Ⅱ-Ⅵ材料生長的襯底處理,生長過程的控制和后道工藝。進樣室和過渡室的極限真空度可以達到10-10Torr,生長室極限真空能到10-11 Torr;最大可容納4英寸襯底;預除氣可達800℃;在MBE裝置中可附有四極質譜儀、電離計(束流規)高能電子衍射(RHEED)、原位橢偏儀等,可以隨時監控外延層的成份和結構的完整性。 | 1280 |
液氮真空管路系統 | A02052402真空應用設備 | 從大型液氮貯槽到室內分子束外延系統的真空液氮管道系統,包含氮氣管道。 | 240 |
原子層薄膜氣相沉積系統 | A02052402真空應用設備 | 原子層沉積設備主要用于沉積出薄膜材料,滿足沉積Al2O3、HfO2、ZrO2等薄膜材料的需要。 | 175 |
鈍化層專用低溫反應離子刻蝕機 | A032103電子工業專用生產設備 | 主要用于刻蝕氧化物、半導體、金屬等。ICP源功率:0 - 3000 W;RIE源功率:0 - 600 W;基底溫度:-120oC - 80oC 可調;刻蝕均勻性:±5% ( 4英寸 );裝片:一片4英寸,向下兼容任意規格樣品;刻蝕氣體:BCl3,HBr,SF6,CF4,C4F8,CHF3,Ar,O2 | 400 |
寬譜光電探測低頻噪聲分析系統 | A02110204半導體器件參數測量儀 | 最大頻率: 44 GHz ,配有混頻器時可達到 1.1 THz;最大分析帶寬達到1 GHz; DANL:174dB;相位噪聲:135dBc/Hz;最大實時帶寬:510 MHz | 140 |
超高空間分辨電子束誘導電流譜 | A02110203電子元件參數測量儀 | 系統包括掃描電鏡、納米機械手及控制模塊。掃描電鏡參數:電子槍:高穩定度肖特基場發射電子槍;電子束流:1 pA ~ 50 nA連續可調;高真空模式分辨率優于0.5nm;放大倍率達到1000000倍。 | 300 |
高分辨晶體衍射儀 | A02100402物理特性分析儀器及校準儀器 | X射線發生器最大輸出功率:≥9kW;管電壓:≥20-45kV;管電流:≥10-200mA;X射線防護標準:≤1μSievert/h(10cm)。 | 240 |
傅立葉紅外光譜儀 | A02100304光學測試儀器 | 提供從紫外/可見光(50000 cm-1) 到遠紅外/太赫茲(5 cm-1)的廣泛光譜范圍、極高的光譜和時間分辨率;優于 0.2cm-1的標點光譜分辨率,具有兩個可選的外接檢測器端口可安裝輻射熱測量計和/或熱電子檢測器的液氦杜瓦。 | 205 |
紅外探測器高精度測試表征系統 | A02100304光學測試儀器 | 能夠實現多種紅外探測器的器件級測試,單色儀光譜范圍可定制,最大可擴展到0.4-20μm,波長覆蓋短、中、長波,規模覆蓋點源、線列和面陣。系統噪聲<100μV。包含高精度差分黑體,分辨率0.001℃。 | 200 |
高精度光刻機 | A032103電子工業專用生產設備 | 紫外光波長:350nm~450nm; 光強均勻性:2% ; 正面套準精度:0.2 μm; 基片尺寸:支持6英寸以下.用于微納器件加工中曝光微米級結構圖型。 | 330 |
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