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  • 發布時間:2010-03-24 00:00 原文鏈接: X'Pert3Powder多功能粉末X射線衍射儀

    X'Pert3 Powder多功能粉末X射線衍射儀
    X'Pert3 Powder多功能粉末X射線衍射儀
    馬爾文帕納科
    馬爾文帕納科

    X'Pert3 Powder

    新一代高性價比的多功能X射線衍射平臺

    X'Pert3 Powder 是帕納科zei新基于全面更新的X'Pert平臺開發的X射線衍射系統。隨著zei新電控系統的就緒,符合zei新和zei嚴格的X射線安全規范,安全可靠的X'Pert3 Powder已為未來做好準備。該系統為高通量,高品質的物相鑒定和定量分析、殘余應力分析、掠入射衍射、X射線反射、小角度X射線散射、對分布函數分析和非常溫環境衍射,均提供了一個高性價比的解決方案。

    儀器簡介:

      X'Pert Powder,配置超能陣列探測器,速度與強度的理想組合,滿足各種粉末應用要求,具有無限擴展性。


    超高頻X射線發生器

    采用第二代陶瓷X光管專利技術,通過精密機械加工使陽極靶材三維高精度定位,用戶在更換X光管后無需重新校準路

    立式測角儀,采用DOPS直接光學位置編碼專利技術


    技術參數:

    1. 功率:3kW

    2. 測角儀重現性:0.0001度

    3. 設備尺寸:1975×1132×1371 mm (H×D×W)


    主要特點:

    靈活——無論是工業生產控制還是深入的材料研究,均可根據單獨的帶藥求進行定制。從未知物相鑒定和混合物定量,到諸如殘余應力和晶粒擇優取向的微觀結構屬性測定,系統的應用不受任何限制,在所有領域都體現出高性能。在常溫或非環境溫度條件下,均可對塊狀材料以及薄膜進行分析。

    快速——得益于帕納科榮獲專利的光學部件和平臺PreFIX-即預校準光路的安裝方法,只需幾分鐘即可完成重新配置并執行不同類型的分析。

    前瞻性——如果出現新的應用,只需增加必要的模塊即可。開放式硬件設計結構確保了X'Pert Powder與將來X射線衍射方面的開發兼容。



      技術參數:

      1,功率:3kW

      2,測角儀重現性:0.0001度

      3,設備尺寸:1975×1132×1371 mm (H×D×W)


    參考招標參數:

    5包:X射線衍射儀

    一、X射線光源

    1.1 X射線發生器部分。

    *1.1.1 zei大輸出功率:3kW 。

    1.1.2 額定電壓:60kV。

    1.1.3 額定電流:80mA。

    1.2 X射線光管部分。

    1.2.1 X射線光管:Cu靶,陶瓷X光管,2.2 kW,國際標準尺寸。

    1.2.2焦斑大小:0.4 x 12 mm。

    1.3 電流電壓穩定度:優于±0.005% (外電壓波動10%)時。

    1.4 X射線防護:安全連鎖機構、劑量符合國標;防護罩外任何一點的計量1mSv/h。

    二、測角儀部分

    2.1 測角儀:采用光學編碼器技術與步進馬達雙重定位。

    2.2 掃描方式:q/q測角儀,測角儀垂直放置。

    2.3 2q轉動范圍:-10°~168°。

    2.4 測角儀半徑:≥200 mm,測角圓直徑可連續改變。

    2.5 可讀zei小步長:0.0001°,角度重現性:0.0001°。

    三、探測器部分

    *3.1 zei大計數:≥2 x 106 cps。

    3.2 背景:<0.1 cps。

    *3.3 能量分辨率:≤8.5%,完全能夠分辨Ka,Kb射線,測量時無需在光路上使用濾波片。

    3.4 提供探測器必須同時適合常規物相分析也適合薄膜反射率測量,不需要更換其他探測器。

    四、光路部分

    4.1 所有光學附件均采用模塊化設計,采用無工具安裝、拆卸方式。

    4.2 所有光學附件智能芯片識別、自動精確定位。

    4.4 采用全光路自動狹縫系統:包括自動防散射狹縫、自動發散狹縫、自動接受狹縫。

    五、自動進樣裝置

    *5.1 提供大于6位(含6位)的自動進樣器。

    5.2 自動進樣器同時滿足反射和透射測量模式。

    5.3 自動進樣器可編程自動控制。

    六、儀器控制和數據采集系統

    6.1 雙核主頻3..0GHz以上,2G內存,160GHD,CD-RW,19寸液晶顯示器,網卡。

    6.2儀器控制和數據采集軟件。

    七、其它應用軟件

    7.1 物相檢索軟件:含原始數據直接檢索功能。

    7.2 物相定量分析:可編程定量分析軟件。

    7.3 無標樣晶粒大小分析及微觀應力分析。

    7.4 粉末數據指標化、結構精修、從頭結構解析以及無標樣定量分析軟件。

    *7.5 數據庫:配備正版數據庫,可在線更新。

    八、循環水冷系統:

    滿足相應系統連續滿功率運行(國內供貨)。

    九、工作條件

    9.1 電力供應:單相220V(±10%),50Hz。

    9.2 工作溫度:10°C-40°C。

    9.3 相對濕度:≤75%。

    9.4 儀器運行的持久性:能夠滿足長時間連續工作。

    十、儀器及生產商必須滿足的相關國際安全標準

    10.1 質量標準:ISO9001 & EN29002認證。

    10.2 歐洲安全標準:CE 認證。

    10.3 射線防護標準:DIN 54113認證。

    十一、售后服務

    1、儀器廠家有專業完整的售后服務團隊,確保儀器故障和及時修復。

    2、儀器自安裝之日起至少一年的質保期,質保期內廠家完全保證儀器的正常使用。

    3、每套儀器保證安裝是現場培訓,不限人數,保證操作人員具有分析測試,日常維護和應用開發的能力。

    4、生產廠家在國內設有持有證書的合法培訓機構,每套儀器保證2人或更多人次到廠家培訓。


    參考招標參數:

    河南師范大學 2016 化學優勢學科第一批進口設備   招標編號:豫財招標采購-2017-981  

    包 B 設備二、 X 射線粉末衍射儀招標參數  

    本設備已做進口產品審批 

    1.設備主要用途、功能以及特點: 

    功能:儀器要能夠支持化學學院對衍射儀的zei新需求,能代表目前衍射儀的zei高水平和zei新技術,儀器功能具有前瞻性。 研究對象包括:標準粉末樣品、微量粉末樣品、固體樣品、薄膜樣品,包括小角散射功能模塊,薄膜分析功能模塊,變溫分析模塊。 

    2.技術參數及指標: 

    2.1.  射線光源與光管 

    *2.1.1 zei大輸出功率:≥3kW 

    *2.1.2 zei大電壓:≥52kV 

    *2.1.3 zei大電流:≥55mA 

    2.1.4 安全防護: X 射線防護:安全連鎖機構、劑量優于國標,輻射量小于 1 Sv/h。提

    供 2 套獨立的安全電路,符合 CE 及 DIN54113 認證。 

    *2.1.5 超高頻電壓固態發生器, 高壓穩定度:0.0006%  

    2.2.  金屬陶瓷 X 光管: 

    2.2.1 靶材及功率:Cu 靶 2.2kW 

    2.2.2 zei大電壓:60kV 

    2.2.3 zei大電流:≥50mA 

    2.2.4 保證壽命:二年 

    *2.2.5 材料:全金屬陶瓷(可精密加工); 更換 X 光管后無需重新校準 

    2.3.  測角儀: 

    2.3.1 轉動方式:Theta / Theta 模式 

    2.3.2 定位方式: 光學編碼盤,直接光學定位系統。光學編碼盤直接安裝在測角儀軸上 

    2.3.3 驅動方式:直流馬達驅動 

    2.3.4 角度重現性:+/- 0.0001 度,zei小步長:0.0001 度 

    2.3.5 測角儀半徑:≥200 mm,測角圓直徑可連續改變。 

    2.4.  基本光學系統 

    2.4.1 提供聚焦光路,平行光路兩套入射光路系統,用于薄膜,測試的平行光與用于粉末測試的聚焦光采用軟件控制自動切換,無需人工干預,瞬時完成,無需更換陣列探測器至 0 維探測器。重現性保證,聚焦光 theta=±0.001 度,平行光 theta=±0.0025 度,提供原版蓋章彩頁佐證。 

    2.4.2 發散狹縫一套 

    2.4.3 防反射狹縫一套 

    2.4.4 索拉狹縫 0.04rad  

    2.4.5 所有光學附件均采用模塊化設計,安裝、拆卸方便快捷。 

    2.4.6 所有光學附件智能芯片識別、自動精確定位。 

    2.5.樣品裝樣裝置 

    2.5.1 標準粉末裝樣裝置 

    2.5.2 微量粉末裝樣裝置 

    2.5.3 固體樣品裝樣裝置 

    2.5.4 小角散射裝樣裝置 

    2.6.  探測器 

    *2.6.1. 子探測器數量:必須大于 250 陣列點數, 適合高分辨率、高速度物相分析,保

    證每個子通道完好,隨機帶保證書,支持固定模式掃描以及原位分析,可用于驗收,提

    供原版蓋章彩頁佐證。 

    2.6.2. 工作模式:電腦控制 0 維,1 維工作方式轉換,支持定點測量模式,二維模式

    (面探測器)測薄膜由聚焦光路到平行光路不需要切換探測器,軟件控制實現 0 維模

    式,并且保證重現性; 

    2.6.3. 物相分析時測量范圍:從 0.3°起 

    *2.6.4. 探測器動態響應范圍(cps):≥1 X 10 10  

    2.6.5. 線性范圍(cps/m2): ≥4 X 10 7  

    2.6.6. 效率(對 Cu 靶):94% 

    *2.6.7. zei大背景噪聲: < 0.1cps 全探測器 

    *2.6.8  驗收精度:國際標準樣品 NIST 1976 剛玉標樣現場檢測,全譜范圍內所有峰的

    角度偏差不超過±0.01 度(20 度到 140 度),隨機帶保證書 

    2.6.9  能量色散陣列探測器:相對與常規點探測器強度提高 450 倍,比一維探測器提高

    三倍,靈敏度提高一個數量級。 

    2.6.10 能量分辨率:8.5% (680ev/8000ev)完全能夠分辨 Ka, K β 射線,并去銅靶測試

    鐵鈷鎳樣品產生的熒光,而無需任何單色器即可達到此分辨率。可完全去除 Kbeta, 提供

    原版蓋章彩頁佐證 

    2.7.薄膜分析模塊: 

    2.7.1 平板準直器; 

    2.7.2 薄膜厚度分析軟件 

    *2.8. 小角散射模塊: 

    *2.8.3 小角散射分析軟件 

    *2.8.4 小角散射參考樣品 

    *2.8.5 小角散射樣品裝樣裝置 

    *2.8.6 具備納米粒度分布測定,納米孔分布測定功能 

    2.9  高溫附件 

    2.9.1 對樣品進行變溫條件下的物相變化等研究工作。  

    2.9.2 溫度范圍:室溫-1200 度;加熱方式:環境加熱 

    2.9.3 序控制升溫,分別可以在真空、空氣、氧化和保護氣氛下使用。 

    2.9.4 樣品臺高度調整計算機控制。 

    2.10 中低溫附件 

    2.10.1 zei低溫度為液氮溫度-180 度,zei高溫度為 450 度。 

    2.10.2 液氮自動填充,溫度程序控制,精度 0.1 度。 

    2.10.3 樣品臺高度調整計算機控制。 

    2.11 計算機系統: 

    計算機:計算機控制系統: 不低于:Windows 7 操作系統, Intel core i5-

    4590CPU@3.30GHz, 8 GB RAM, 2 TB hard drive, 23“ LCD monitor, 鍵盤,鼠標,網卡。 

    3.輔助設備: 

    3.1.水冷系統: 分體式循環水冷系統,穩定性能好。 

    工作要求:連續工作 

    控溫精度:優于±1℃ 

    供水流量:滿足發生器要求 

    水的溫度:可調 

    具有過熱保護系統。 

    3.2 空氣壓縮機:無油靜音空壓機,220V;流量≥135L/min; 壓力:0.6-0.8Mpa(可

    調);儲氣罐:≥35L 

    4.軟件要求: 

    *4.1.軟件為 Win XP 或 Win 7 操作平臺,可進行設備控制,數據采集,授權安裝在 5 臺

    計算機上 

    4.2.能進行下列圖形處理方式:峰形擬合功能;合并、加減、移位任何數量的掃描數據;三種背景確定/扣除方式;能夠剝離 Kα2;快速傅立葉變換或平滑多項式平滑處理,支持多數據自動背景處理。 

    4.3.掃描校正:樣品位移,溫度或壓力影響,步長內插;可以自動進行或手動進行。 

    4.4.對原始數據進行自動物相鑒定及打印結果報告,RIR 參考強度法直接給出半定量結果;3 維圖形顯示功能。 

    4.5.能進行全譜線形分析計算,晶粒尺寸和微應力計算 

    4.6.能對多個上數據自動進行差異和歸類分析,給出分析報告,能支持其他儀器數據類型 

    4.7 軟件能夠進行結構精修 

    5. 其他資質要求: 

    *5.1 提供國家環保部門所頒發的輻射安全豁免許可證 

    *5.2 制造廠家必須提供 ISO9001 和 ISO14001 認證證明. 

    5.3 在中國國內具有完善維修服務體系,提供備件供應,具有保稅庫。 

    5.4 投標產品應具有在中國國內有成熟的用戶群,提供用戶清單。 

    注: *指標為產品關鍵指標。 


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