用 Ｍ ｏｎｔｅ Ｃａｒｌｏ 方法模擬球對稱客體系統的閃光照相中 Ｘ 光光子的輸運過程。分別在單客體情況和全系統情況下，給出了記錄平面上各種光子譜及其在記錄平面上的空間分布。結果表明：記錄區邊緣的譜形與源光子譜形很相似；深穿透區各點之間的譜形差別不大，譜平均光子能量近似相同，并且位于使高 Ｚ材料的光子線吸收系數最小的能量范圍內。結果還表明，高能閃光照相的光子能譜會因客體中光子的光程不同而有較大的差別。
1、金屬材料的相分析、成分分析和夾雜物形態成分的鑒定；2、高分子、陶瓷、混凝土、生物、礦物、纖維等無機或有機固體材料分析；3、可對固體材料的表面涂層、鍍層進行分析，如：金屬化膜表面鍍層的檢測；4、金銀......
當X射線光子進入檢測器后，在Si（Li）晶體內激發出一定數目的電子空穴對。產生一個空穴對的最低平均能量ε是一定的（在低溫下平均為3.8ev），而由一個X射線光子造成的空穴對的數目為N=△E/ε，因此，......
本文提出一個直接利用薄膜和襯底的X射線能譜來同時測定薄膜的成分和厚度的新方法,利用薄膜發出的各元素的標識X射線強度比確定其成分,利用NaCl襯底的Nak_α和Clk_α標識X射線的強度隨膜厚增大而衰減......
本文通過在EM400T透射電鏡上用一些標準成分的樣品進行薄膜無標樣成份分析實驗,檢驗了EDAX9100能譜儀的分析準確度。在本試驗所用的樣品范圍內,其準確度為:近鄰元素同一X光線系分析相對誤差為5～1......
本文利用薄膜對入射電子束流的衰減作用和薄膜對襯底的x射線的吸收,提出了一種直接利用襯底的x射線的強度比來測量薄膜厚度的方法。并在各種實驗條件下,對Cu薄膜的厚度進行了測量,得到了較為滿意的結果。&nb......
隨著探頭制造技術水平的提高、電子學技術的發展,以及對脈沖處理技術和重疊峰處理方法的改進,能譜定量分析的精度得到不斷提高。目前,對原子序數在11～30之間的常用元素,其分析精度大體上可以達到波長譜儀的水......
本文利用EM400T透射電子顯微鏡和EDAX9100能譜儀研究微量元素在晶界的偏聚。通過本文采用的電子束直徑小到40A的微探針,低背底樣品臺,沿晶界拉長束斑,分段積分等措施,明顯地提高了分析靈敏度。用......
本文就鋇-稀土氟碳酸鹽礦物的研究提出了一種簡單的X射線能譜定量分析方法,對其可靠性作了檢驗。并指出,此法可能有助于今后發現這個系列礦物的新成員。 ......
本文對作者建立的微區成分無標樣定量分析法進行了簡化,使原有的計算量大為減少。用簡化模型對Cu-Si,FeS2,NaCl,GaAs試樣和多元鋼樣原實驗數據進行了定量計算,并與原模型多元程序計算結果進行比......
能量色散譜儀(EDS)原來是一種核物理分析設備。由于半導體檢測器制造和微信號低噪聲電子學技術的進步,EDS的分辨率(譜線半高寬)由60年代的300ev提高到70年代的150ev,能對Al、Si這類較輕......
