原子層沉積
原子層沉積(ALD)是一種真正的"納米"技術，以精確控制的方式沉積幾個納米的超薄薄膜。 原子層沉積的兩個限定性特征--自約束的原子逐層生長和高度保形鍍膜--給半導體工程，微機電系統和其他納米技術應用提供了許多好處。 原子層沉積的優點 因為原子層沉積工藝在每個周期內精確地沉積一個原子層，所以能夠在納米尺度上對沉積工藝進行完全控制 即使在非常高的縱橫比和復雜結構的條件下，保形鍍膜也能夠實現 可實現無針孔和顆粒的沉積 很多種類的材料都可以采用原子層沉積: 氧化物：包括HfO2, HfSiO, Al2O3, Ta2O5, TiO2, La2O3, SiO2, ZnO 氮化物，包括TiN, TaN, AlN, SiNx, HfN 金屬，包括Ru, Cu, W, Mo 原子層沉積周期 1. TMA源 遠程等離子體原子層沉積的優點 除了具有熱原子層沉積的優點，遠程等離子......閱讀全文
原子層沉積
原子層沉積(ALD)是一種真正的"納米"技術，以精確控制的方式沉積幾個納米的超薄薄膜。 原子層沉積的兩個限定性特征--自約束的原子逐層生長和高度保形鍍膜--給半導體工程，微機電系統和其他納米技術應用提供了許多好處。 原子層沉積的優點 因為原子層沉積工藝在每個周期內精確地沉積一個原子層，所以能
原子層沉積的研究
原子層沉積（ALD）的自限制性和互補性致使該技術對薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制備的薄膜保形性好、純度高且均勻，因而引起了人們廣泛的關注。原子尺度上的ALD過程仿真對深入了解沉積機理，改進和優化薄膜生長工藝，提高薄膜質量，改善薄膜性質具有重要意義。在深入了解ALD的工藝特點及工藝過程后，針
PICOSUN－原子層沉積系統共享
儀器名稱：PICOSUN 原子層沉積系統儀器編號：16041497產地：中國生產廠家：PICOSUN型號：R200 Advanced出廠日期：201709購置日期：201612所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：微電子所新所一樓109固定電話：固定手機：固定email：聯系人：曹
原子層沉積系統（ALD）的介紹
是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。
原子層沉積系統（ALD）的原理
原子層沉積是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應器并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種方法（技術）。當前驅體達到沉積基體表面，它們會在其表面化學吸附并發生表面反應。在前驅體脈沖之間需要用惰性氣體對原子層沉積反應器進行清洗。由此可知沉積反應前驅體物質能否在被沉積材料表面化學吸附是實現原子層
原子層沉積系統（ALD）的應用
原子層沉積技術由于其沉積參數的高度可控型（厚度、成份和結構） 原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD），最初稱為原子層外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也稱為原子層化學氣相沉積（Atomic Layer Chemical Vapor Depo
BENEQ－原子層沉積系統共享應用
儀器名稱：BENEQ 原子層沉積系統儀器編號：09016504產地：芬蘭生產廠家：BENEQ型號：TFS200-106出廠日期：200810購置日期：200910所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：微電子所新所一層微納平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：曹秉軍（010
對于原子層沉積系統（ALD）的研究
原子層沉積（ALD）的自限制性和互補性致使該技術對薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制備的薄膜保形性好、純度高且均勻，因而引起了人們廣泛的關注。原子尺度上的ALD過程仿真對深入了解沉積機理，改進和優化薄膜生長工藝，提高薄膜質量，改善薄膜性質具有重要意義。在深入了解ALD的工藝特點及工藝過程后
PICOSUN－原子層沉積系統共享應用
儀器名稱：PICOSUN 原子層沉積系統儀器編號：16041497產地：中國生產廠家：PICOSUN型號：R200 Advanced出廠日期：201709購置日期：201612所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：微電子所新所一樓109固定電話：固定手機：固定email：聯系人：曹
原子層沉積系統（ALD）－跟熱蒸鍍沉積有什么區別？
原子層沉積是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應器并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種方法（技術）。當前驅體達到沉積基體表面，它們會在其表面化學吸附并發生表面反應。在前驅體脈沖之間需要用惰性氣體對原子層沉積反應器進行清洗。由此可知沉積反應前驅體物質能否在被沉積材料表面化學吸附是實現原子層
Picosun－Oy真空互聯原子層沉積系統共享應用
儀器名稱：真空互聯-原子層沉積系統儀器編號：21029113產地：芬蘭生產廠家：Picosun Oy型號：R-200 Advanced出廠日期：購置日期：2021-11-25所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>真空互聯放置地點：微電子學研究所南平房實驗室108號固定電話：01062784044固定
清華大學儀器共享平臺Ultratech－原子層沉積系統
儀器名稱：原子層沉積系統儀器編號：17016605產地：美國生產廠家：Ultratech型號：Savannah S100出廠日期：購置日期：2017-06-25所屬單位：電子系>納米光電子綜合測試平臺放置地點：羅姆樓B1-304室固定電話：62796594固定手機：固定email：haosun@ts
原子層沉積技術可用于合金提升態密度有效質量
中國科學院院士、西安交通大學材料學院材料強度組孫軍教授，材料強度組丁向東教授、武海軍教授與深圳大學合作，在探究相界面工程作用于ZrNiSn基半哈斯勒熱電材料取得進展。該工作鑒于現有研究中相界面引發的載流子遷移率降低問題，以及單一能量勢壘無法在全溫度范圍內提升態密度有效質量的局限性，團隊創新性地將原子
芬蘭PICOSUN公司將在波士頓舉行原子層沉積系統展覽
歡迎您參加2011年6月27-29在波士頓舉行的芬蘭PICOSUN公司的原子層沉積系統展覽。具體內容如下： Thanks to our excellent ALD systems, we are happy report profitable 100% growth during th
1185萬!－南京大學采購非靶向篩選質譜儀和原子層沉積設備
原子層沉積（ALD）設備項目所在采購意向：南京大學企業信息2023年7至9月政府采購意向采購單位：南京大學企業信息采購項目名稱：原子層沉積（ALD）設備預算金額：700.000000萬元(人民幣)采購品目：A02052402 真空應用設備采購需求概況 ：南京大學企業信息擬采購原子層沉積（ALD）設備
山西煤化所原子層沉積設計新型納米催化劑研究獲進展
氫能作為一種環境友好的清潔能源被認為是可替代化石燃料的重要能源。光催化分解水制氫是一種非常有前景的綠色制氫途徑。影響光催化制氫效率的一個主要因素是電子和空穴的分離效率低。在半導體材料表面負載產氫或/和產氧助劑(例如，Pt，Pd，CoOx，NiO)可有效提高電子和空穴的分離效率，尤其是含雙助劑的光
原子層沉積技術開發者獲2018年“千年技術獎”
?? 芬蘭技術學會２２日宣布，將２０１８年“千年技術獎”授予芬蘭物理學家圖奧莫·松托拉，以表彰他研發了在信息技術領域發揮重要作用的原子層沉積技術。 原子層沉積技術可以將物質以單原子膜形式一層一層鍍在基底表面，在許多高科技領域發揮著重要作用。目前，所有的計算機和智能手機都使用以原子層沉積技術制成的
清華大學深圳國際研究生院330.00萬元采購原子層沉積
項目概況 高通量原子層沉積儀的潛在投標人應在（本公告附件中）獲取招標文件，并于2023年12月8日9：30（北京時間）前網上遞交投標文件。 一、項目基本情況 （一）項目編號：SZDL2023002328（CLF0123SZ21ZC72） （二）項目名稱：高通量原子層沉積儀 （三）預算金
ald－工藝－怎么保證－單個原子沉積
原子層沉積（Atomic layer deposition)是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。單原子層沉積（atomic layer
水合物沉積層地球物理響應特征研究獲進展
8月19日，記者中國地質調查局廣州海洋地質調查局獲悉，該局天然氣水合物工程技術中心勘查團隊基于我國南海神狐海域水合物勘查鉆探航次獲取的巖心樣品、測井和三維地震等資料，深入研究水合物沉積層的測井曲線響應、地震反射及氣體運移等特征，發現了水合物新的發育和運移形式。相關研究發表于Frontiers in
單原子層薄金片首次制成
科學家首次成功制造出只有單原子層厚度的金片。這種材料被稱為“Goldene”。瑞典林雪平大學的研究人員稱，這賦予了黃金新的特性，使其可應用于二氧化碳轉化、制氫和生產高附加值化學品等領域。研究結果發表在16日出版的《自然·合成》雜志上。長期以來，科學家一直試圖制造單原子厚度的薄金片，但由于金容易結塊而
單原子層薄金片首次制成
林雪平大學薄膜物理學教授拉爾斯·霍特曼和材料設計部研究員順柏屋。科學家首次成功制造出只有單原子層厚度的金片。這種材料被稱為“Goldene”。瑞典林雪平大學的研究人員稱，這賦予了黃金新的特性，使其可應用于二氧化碳轉化、制氫和生產高附加值化學品等領域。研究結果發表在16日出版的《自然·合成》雜志上。長
研究評估大灣區沉積層厚度、古河道分布及災害風險
近日，中國科學院廣州地球化學研究所聯合廣東省地震局和浙江海洋大學，在國家重點研發計劃、國家自然科學基金等項目的資助下，研究評估了粵港澳大灣區沉積層厚度、古河道分布及災害風險。相關成果發表于《美國地震學會公報》（Bulletin of the Seismological Society of Amer
我國成功研制一維鉻原子沉積納米光柵樣板
由中國計量科學研究院、同濟大學和國防科技大學聯合組成的研究小組，經過3年科技攻關，在國內首次成功研制出一維鉻原子沉積納米光柵樣板。日前，該課題通過了國家質檢總局科技司組織的驗收鑒定。 近年來，我國納米技術產業發展迅速。與此同時，納米產業對計量基標準的需求也日益突顯。我國每年進口的近萬
美首次研制出穩定的單原子層鍺
據物理學家組織網4月10日報道，60年前，鍺被用來做成了第一塊晶體管，但隨后被硅取代，現在，美國科學家首次成功制造出了單原子厚度的鍺——單鍺(germanane)，其電子遷移率是硅的10倍，因而有望取代硅用于制造更好的晶體管。研究發表在最新一期的美國化學會《納米》雜志上。 單鍺的結構同由單
研究發現基于單原子層的新型單光子源
中國科學技術大學教授潘建偉、陸朝陽等與來自華盛頓大學的許曉棟、香港大學的姚望合作，首次在類石墨烯單原子層半導體材料中發現非經典單光子發射器，從而將量子光學和二維材料這兩個重要領域連接起來，打開了一條通往新型光量子器件的道路。相關成果日前在線發表于《自然—納米技術》雜志。同期“新聞視角”欄目撰文評
石墨烯原子級層間剪切作用研究獲進展
近日，中國科學院國家納米科學中心納米系統與多級次制造重點實驗室研究員張忠、劉璐琪和清華大學教授徐志平合作，設計和發展了微納鼓泡力學實驗技術，精確表征了雙層石墨烯層間的范德華剪切作用，相關研究成果Measuring Interlayer Shear Stress in Bilayer Graphe
原子層組裝技術實現多重納米結構的精準調控加工
利用各種納米加工技術制備的納米結構和器件在微納光子學、微納電子學、生物學及納米能源等領域發揮了重要作用，但同時也對納米加工的尺寸、形狀、空間排列和組裝等工藝控制提出了越來越高的要求。現有的傳統納米加工技術（如電子束曝光、聚焦離子束直寫、陽極氧化和自組裝技術）通常在實現無序、雜化、不規則及變徑等特
原子吸收法測定土壤和沉積物汞的測定方法原理
樣品在高溫催化劑的條件下,各形態汞被還原為單質汞,隨載氣進入混合器被金汞齊選擇性吸附,其他分解產物隨載氣排出,混合器快速加溫,將汞齊吸附的汞解吸,形成汞蒸氣,汞蒸氣隨載氣進入原子吸收光譜儀,在253.7nm下測定其吸光率,吸光率與汞含量呈函數關系。
其他薄膜沉積設備的薄膜沉積技術分類
薄膜沉積技術可以分為化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）。對于CVD工藝，這包括原子層沉積（ALD）和等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）。PVD沉積技術包括濺射，電子束和熱蒸發。CVD工藝包括使用等離子體將源材料與一種或多種揮發性前驅物混合以化學相互作用并使源材料分解。該工藝使用較