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    美國開發出不依賴半導體的微電子器件

    美國加州大學圣地亞哥分校的一個研究團隊開發出一款基于納米結構的、不依賴半導體傳導的光控微電子器件,在低電壓和低功率激光激發的條件下可將電導率比現有半導體器件提高近10倍。這一成果發表在11月4日的《自然·通訊》雜志上。 傳統的半導體器件受到材料本身的限制,在頻率、功耗等方面存在極限,而利用自由電子替代半導體材料通常需要高電壓、大功率激光或高溫激發。該團隊在硅片上用金加工出一種類似蘑菇形狀的納米結構(稱為“超材料”結構),在10伏以下的直流電壓和低功率紅外激光激發下,即可釋放自由電子,從而極大地提高器件的電導率。 這一器件不可能完全替代半導體器件,但可能在特殊需求下得到最佳應用,如超高頻器件或大功率器件。未來不同的超材料表面結構可能適用于不同類型的微電子器件,應用于光化學、光催化、光伏轉化等領域。......閱讀全文

    美國開發出不依賴半導體的微電子器件

       美國加州大學圣地亞哥分校的一個研究團隊開發出一款基于納米結構的、不依賴半導體傳導的光控微電子器件,在低電壓和低功率激光激發的條件下可將電導率比現有半導體器件提高近10倍。這一成果發表在11月4日的《自然·通訊》雜志上。   傳統的半導體器件受到材料本身的限制,在頻率、功耗等方面存在極限,而利用

    美國開發出不依賴半導體的微電子器件

      美國加州大學圣地亞哥分校的一個研究團隊開發出一款基于納米結構的、不依賴半導體傳導的光控微電子器件,在低電壓和低功率激光激發的條件下可將電導率比現有半導體器件提高近10倍。這一成果發表在11月4日的《自然·通訊》雜志上。   傳統的半導體器件受到材料本身的限制,在頻率、功耗等方面存在極限,而利用自

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      日前,中國科學院微電子研究所將先進的原子層沉積技術應用于高光效半導體發光器件的研究取得顯著進展。   上世紀80年代,原子層沉積(Atomic Layer Deposition,ALD)最初由芬蘭科學家提出并應用于平板顯示器件中Al2O3絕緣膜的沉積。2007年英特爾公司將原子層沉積技術引

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