WIKI資訊
俄歇電子能譜(AES)是目前用于固體最表層原子元素標識的一種方法,對于許多先進電子設備的研發至關重要,而且也廣泛應用于從氣相化學到納米結構表征等多個領域。現有AES硬件仍存在著笨重、昂貴、速度慢等問題,而且需要超高真空環境來實現分析功能。英國約克大學研制的分析儀可在一秒鐘內捕捉到全部俄歇光譜。......閱讀全文
本文嘗試了以CHF3、CH4／CHF3和C2H2／CHF3為源氣體，利用微波ECR等離子體源離子注入技術和等離子增強化學氣相沉積技術來制備氟化類金剛石膜的方法，并對DLC薄膜和FDLC薄膜的結構和性能進行了分析和比較。 研究了源氣體的種類及流量比、微波功率、高壓脈沖寬度、工作時間、工作溫度、沉積偏壓
鉛鋅硫硫化礦的分離一直是選礦界研究的熱點,其難點在于這些礦物性質相似,可浮性相近,礦物彼此間相互活化和相互影響的現象比較嚴重,硫化礦電位調控浮選技術的出現較成功地解決了這個難題。本論文以廣西大廠礦區的錫石型鉛銻鋅鐵多金屬硫化礦為研究對象,全面詳細地考察了磁黃鐵礦、脆硫銻鉛礦、鐵閃鋅礦的無捕收劑浮選(
通過卷積法和最小二乘法,處理Ga-Mo／HZSM-5催化劑上形成碳的XAES數據。同時,建立了光滑XAES數據點的數學模型。由碳的KVV俄歇光譜數據一階(dN／dE)和二階(d2N／dE2)導數結果表明,二階導數光譜的特征峰能與碳的理論態密度關聯,獲得相關碳的精細結構信息與催化劑的性能相符。
GaN基半導體作為光電子材料領域極為重要的材料,其異質結構在器件開發領域得到十分廣泛的應用,目前,影響其未來發展的有幾大關鍵性難題,本質上都與應力場有關,深受大家關注且亟待解決。本論文通過實驗研究和計算模擬,全面深入地考察了GaN基半導體異質結構中應力場的相關效應,分析其復雜性質、闡明其物理機制,進
1 引 言 金屬鍍層在電子設備產品中的應用已經越來越普遍和重要【1】， 在電子設備的電路板中， 鍍有稀有金屬的連接觸頭是各種模塊互連的關鍵部件， 如PCB金手指就是內存處理單元的所有數據流、電子流與內存插槽的連接點。因此， 其鍍層的化學成分及鍍層元素的縱向深度剖面分布與電路板的耐蝕
1 引 言 金屬鍍層在電子設備產品中的應用已經越來越普遍和重要【1】， 在電子設備的電路板中， 鍍有稀有金屬的連接觸頭是各種模塊互連的關鍵部件， 如PCB金手指就是內存處理單元的所有數據流、電子流與內存插槽的連接點。因此， 其鍍層的化學成分及鍍層元素的縱向深度剖面分布與電路板的耐蝕
雖然貴金屬的物理化學性能都很穩定,但在日常復雜的佩戴、收藏環境,依舊會受到腐蝕和磨損,使其表面變得暗淡,粗糙。本文在離子注入相關理論的分析基礎上,制定了在銀基體的首飾表面進行離子注入鈦碳的方案。利用離子注入技術在銀表面注入鈦碳形成表面改性層,并對改性層的形貌、注入元素的分布和相結構分別進行顯微照相、
現用自偏壓輔助的射頻磁控濺射在硅基片上生長氮化硼薄膜,用傅里葉變換紅外光譜和俄歇電子能譜測定薄膜中立方結構的含量以及氮硼的組分比。分別研究了工作氣體中氮氣的含量、基片的溫度和基片的偏壓對立方結構生長的影響。實驗結果顯示:薄膜組分是否達到氮硼比為1的化學配比條件是立方結構能否生長的關鍵;通過選擇工作氣
利用三維視頻顯微鏡、掃描電鏡、X射線熒光光譜、俄歇電子能譜等實驗手段,分析了重慶大足千手觀音造像多層金箔的成分。實驗結果發現,千手觀音曾歷代貼金,而歷代保留下來的金箔含金量是不同的。
分別介紹了用于鍍鋅板鈍化膜層形貌、厚度測試的掃描電鏡顯微測試技術、原子力顯微測試技術、橢圓偏振光譜測試技術,以及用于成分分析測試的X射線光電子能譜測試技術、能譜和俄歇電子能譜測試技術、紅外光譜測試技術的特點和應用情況,揭示了鍍鋅板鈍化劑未來研究發展方向。
介紹了電鍍錫薄鋼板氧化膜和鈍化膜的分析檢測方法,包括傳統的化學分析方法、電化學分析方法和現代表面分析技術,如X射線光電子能譜(XPS)、俄歇電子能譜(AES)、輝光放電光譜(GDS)以及電子探針微區分析(EPMA)等。
Ti-4Al-2V和Ti-2Al-2.5Zr合金是近年我國開發的兩種新型α鈦合金,具有低強度、高塑性、耐腐蝕、抗氧化、易焊接以及高低溫性能好等特點,主要以管材形式用作航空、艦船以及核反應堆等領域熱交換器中的管路系統。由于工作介質為高溫、高壓、水蒸汽,并且要求能長時間安全運行,詳細而系統地研究地這兩種
采用磁控濺射制備Co（200nm）/6H-SiC異質結,在500-1000℃下退火,通過X-射線衍射（XRD）、俄歇電子能譜散射（AES）、拉曼光譜散射（Raman）研究接觸界面的化學反應。研究表明高溫下反應易生成穩定的化合物Co2Si,反應生成的C單質經擴散會富集于界面的最表面,并呈現晶態石墨和無
PHI的700Xi掃描俄歇電子能譜儀(AES) 提供高性能的掃描俄歇電子(AES) 頻譜分析，俄歇成像和濺射深度分析的復合材料包括：納米材料，催化劑，金屬和電子設備。維持基于PHI CMA的核心俄歇儀器性能，和響應了用戶所要求以提高二次電子（SE）成像性能和高能量分辨率光譜。PHI的同軸鏡
采用俄歇電子能譜 ( AES)和傅里葉紅外光譜 ( FTIR)分析低溫 PECVD法形成納米級 Si Ox Ny 介質膜的微觀組分結構及其與制膜工藝間關系 ,通過橢圓偏振技術測試該薄膜的物理光學性能。研究結果表明 :該介質膜中氮、氧等元素均勻分布 ,界面處元素含量變化激烈 ;高、低反應氣壓變化對膜內
尊敬的客戶，您好! 隨著科學技術的日新月異，分子光譜技術有著很多突飛猛進的發展。賽黙飛世爾科技作為分析儀器行業的領導者，分子光譜產品不斷推出了新的技術與應用。最新推出的Thermo Scientific DXR顯微拉曼光譜儀，突破了傳統拉曼光譜儀對使用人員專業程度要求的瓶頸，是專門
尊敬的老師，您好! 隨著科學技術的飛速發展，分析儀器智能化不斷升級，拉曼光譜儀在各種分析中有著越來越廣泛的應用。為了更好的服務于廣大的客戶，使客戶了解拉曼的最新技術及應用，賽黙飛世爾科技將舉辦一場拉曼技術專場交流會，熱忱歡迎廣大分析工作者光臨! 時間：2011年3月18日(星期五)
采用金屬有機化學氣相沉積法在Si（111）襯底上生長了AlN外延層。高分辨透射電子顯微鏡顯示在AlN/Si界面處存在非晶層,俄歇電子能譜測試表明Si有很強的擴散,拉曼光譜測試表明存在Si-N鍵,另外光電子能譜分析表明非晶層中存在Si3N4。研究認為MOCVD高溫生長造成Si的大量擴散是非晶層存在的主
用金屬有機化學氣相沉積法在Si（111）襯底上生長了AlN外延層。高分辨透射電子顯微鏡顯示在AlN/Si界面處存在非晶層,俄歇電子能譜測試表明Si有很強的擴散,拉曼光譜測試表明存在Si-N鍵,另外光電子能譜分析表明非晶層中存在Si3N4。研究認為MOCVD高溫生長造成Si的大量擴散是非晶層存在的主要
近年來國內外對于材料表面問題的研究非常活躍。材料表面深度剖面分析方法不僅能像均質材料的分析方法那樣獲得表面元素含量的信息,而且能夠用來表征從表面到基體各元素成份的縱深分布情況。為了解當前材料表面深度剖面分析技術及發展狀況,文章從各類高能粒子入射樣品表面的分析機理入手,介紹了二次離子質譜法、俄歇電子能
集成電路器件特征尺寸急劇縮小對源漏材料與襯底的接觸勢壘提出了新的挑戰。各種新型的低勢壘材料和新型硅化物制備方式不斷涌現。其中具有較低金屬功函數的稀土金屬（如Er、Yb等）已經被證明在N型襯底硅上可以形成非常低勢壘的硅化物,是目前國內外關注較多下一代硅化物的備選材料。同時,隨著High-k技術以及肖特
為進一步提高高校優質儀器設備資源的利用率，幫助中小企業開展科研人才隊伍建設、提升科研人才的大型貴重儀器理論知識水平和實際操作技能，提高儀器企業的科技創新能力和核心競爭力，北京科學儀器裝備協作服務中心委托首都科技條件平臺北京大學研發實驗服務基地，組織技術專家和學術專家，面向企業用戶開展大型儀器設備
據物理學家組織網近日報道，美國麻省理工學院(MIT)的研究人員開發出一種可用于測定系外行星質量的新技術，只使用恰逢其經過恒星之前“蘸”著光的信號，即可揭示出該行星的質量。該研究成果刊登在近日出版的《科學》雜志上。 迄今為止，科學家已經證實太陽系外存在900多個行星。為了確定這些遙遠的星球是
各有關單位： 為了交流拉曼光譜儀的應用技術，提高拉曼光譜儀的應用水平，促進拉曼光譜法在食用油品鑒定及其他領域中的應用發展，積極推動科學儀器的研究、發展和應用。北京市理化分析測試中心與北京賽伯樂儀器有限公司、北京理化分析測試學會擬定于2014年3月21日在北科大廈共同舉辦“拉曼光譜在食用油品
各有關單位： “第三屆中國食品與農產品質量安全檢測技術國際論壇暨展覽會(簡稱 CFAS 2014)”籌備工作已就緒，在學界與業界的院士、專家、學者、企業家的大力支持下，將有60場高水平的學術報告及壁報交流，同時將有約100家國內外知名企業參展，大會將于2014年5月6日-8日在北京國際
各有關單位： “第十屆中國在線分析儀器應用及發展國際論壇暨展覽會（簡稱 CIOAE 2017）”籌備工作已就緒，在學界與業界的院士、專家、學者、企業家的大力支持下，將有70場高水平的學術報告及壁報交流，同時將有約100家國內外知名企業參展，大會將于2017年11月7日-8日在國家會議中心召開。
各有關單位： “第九屆中國在線分析儀器應用及發展國際論壇暨展覽會（簡稱 CIOAE 2016）”籌備工作已就緒，在學界與業界的院士、專家、學者、企業家的大力支持下，將有70場高水平的學術報告及壁報交流，同時將有約100家國內外知名企業參展，大會將于2016年11月22日-23日在國家會議中心召
第二十三屆“全國光譜儀器學術研討會”將于2019年11月21~23日在上海召開，會議由上海理工大學與中國儀器儀表學會分析儀器分會光譜儀器學術專家組聯合主辦，由莊松林院士、田中群院士擔任大會主席，張大偉教授擔任執行主席。本次大會將邀請國內外光譜領域著名專家學者出席，交流在光譜研究和儀器技術方面取得
各有關單位： “第四屆中國食品與農產品質量安全檢測技術國際論壇暨展覽會（簡稱 CFAS 2015）”籌備工作已就緒，在學界與業界的院士、專家、學者、企業家的大力支持下，將有70場高水平的學術報告及壁報交流，同時將有約100家國內外知 名企業參展
尊敬的先生/女士： 作為全球科學服務領域的領導者，賽默飛世爾科技以卓越的產品性能、創新的分析技術和優秀的售后服務得到了廣大用戶的不斷認可。全國各地有越來越多的用戶使用我們的各類儀器，行業客戶對賽默飛世爾科技的一流技術與可靠服務青睞有加。 為了與更多的業界人士分享分析測試技術的杰出成果，共