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投影式光刻機一般采用步進-掃描式曝光方法。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，載有掩模的工件臺在狹縫下沿著一個方向移動，等價于曝光系統對掩模做了掃描，與掩模的掃描同步，晶圓沿相反的方向以1/4的速度移動。現代光刻機中，掩模掃描的速度可以高達2400mm/s，對應的晶圓移動速度是600mm/s。較高的掃描速度可以縮短曝光時間，從而提高光刻機的產能。......閱讀全文
一、實驗室簡介 應用光學國家重點實驗室是我國設立最早的國家重點實驗室之一，始建于1986年，于1990年完成正式驗收。依托單位為中國科學院長春光學精密機械與物理研究所。 應光室一直堅持面向國際學科發展前沿開展應用基礎及關鍵技術研究，積極面向國家需求承擔大科學工程任務，在實際研究工作中解決了
等離子體簡介,等離子清洗機通過等離子體實現的應用,在低壓等離子體技術中產生高能量的離子和電子,以及其他活性粒子,并形成等離子體,從而極其有效的對表面作出改變.1.什么是等離子體？ 如果連續為物質提供能量，其溫度會相應升高，物質狀態會從固態變為液態，然后過渡為氣態。如果繼續提