投影式光刻機簡介
投影式光刻機一般采用步進-掃描式曝光方法。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，載有掩模的工件臺在狹縫下沿著一個方向移動，等價于曝光系統對掩模做了掃描，與掩模的掃描同步，晶圓沿相反的方向以1/4的速度移動。現代光刻機中，掩模掃描的速度可以高達2400mm/s，對應的晶圓移動速度是600mm/s。較高的掃描速度可以縮短曝光時間，從而提高光刻機的產能。......閱讀全文
投影式光刻機簡介
投影式光刻機一般采用步進-掃描式曝光方法。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，載有掩模的工件臺在狹縫下沿著一個方向移動，等價于曝光系統對掩模做了掃描，與掩模的掃描同步，晶圓沿相反的方向以1/4的速度移動。現代光刻機中，掩模掃描的速度
光刻機投影式曝光分類
掃描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；掩膜板1：1，全尺寸； 步進重復投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或稱作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～
透射式投影儀簡介
透射式投影儀（Overhead projector）是一種將透明幻燈片放置在書寫玻璃臺上，利用燈光透過玻璃臺進行照射成像的投影儀。這種投影儀方便即時書寫，適合在課堂、辦公室中進行講解時使用。但如今隨著計算機的發展已經被逐漸淘汰。
費歇爾投影式的簡介
費歇爾投影式是德國化學家赫爾曼·埃米爾·費歇爾(Hermann Emil Fischer)為使得書寫含手性碳原子的有機物變得更為簡潔，于1891年提出的一種化學結構式。費歇爾投影式用兩條交叉的線表示含碳化合物的四面體結構，相當于將球棍模型或透視式的3D結構分子經過扁平化，如此便可于紙平面上比較旋光異
費歇爾投影式的投影規則
為了作出統一的分子構型表達式，費歇爾曾制定了三條投影規則： (1)將碳鏈放在垂直線上或豎起來，把氧化態較高的碳原子或命名時編號最小（主鏈中第一號）的碳原子C1放在最上端。 (2)投影時假定手性碳原子放在紙平面上，與垂直線(vertical line)相連的原子或基團（垂直方向的鍵 /豎鍵）表
費歇爾投影式和紐曼投影式互換規律
費歇爾投影式和紐曼投影式互換規律：(1)費歇爾投影式十字架下方的碳對應紐曼投影式的前碳，費歇爾投影式十字架上方的碳對應紐曼投影式的后碳；(2)費歇爾投影式轉化為紐曼投影式時，先畫出全重疊構象，再分別旋轉前、后碳得到所需構型；(3)紐曼投影式轉化為費歇爾投影式時，先將紐曼投影式旋轉成全重疊構象，然后在
數字式測量投影儀的簡介和組成
數字式測量投影儀是集光、機、電一體的精密高效檢測儀器。是由早期的輪廓投影儀加上光柵尺和專用二維數顯表發展而來。 數字式測量投影儀由投影屏，物鏡，工作臺，調焦機械，光柵數顯幾部分組成。 數字式測量投影儀結構組成 1.投影屏 2.投影屏快速運動手柄 3.彈性壓板 4.投影箱 5.屏框零位標記線
菲舍爾投影式定義內容
概念辨析有機物的同分異構現象可分成兩大類：構造異構和立體異構。其中，立體異構又包括順反異構、對映異構和構象異構三種情況。而費歇爾投影式主要用于對映異構的書寫，對映異構體是分子式相同，構造式相同，但構型不同，互為鏡象但不能重合的立體異構體。從構象上分析，費歇爾式都是不穩定的重疊式構象，因此，在進行構象
菲舍爾投影式判定構型
相較于構象鋸架式（以下簡稱鋸架式）或紐曼投影式（以下簡稱紐曼式）來表示具有手性碳原子的化合物，費歇爾投影式更容易確定化合物的構型，并其進行命名。?甘油醛的D、L構型1951年，費歇爾采用(+)-甘油醛為標準物，并人為地規定在費歇爾投影式中第二號碳原子C2上的羥基，位于右側的為D構型，位于左側的為L構
測量投影儀簡介
測量投影儀又稱為光學投影檢量儀或光學投影比較儀，為利用光學投射的原理，將被測工件之輪廓或表機投影至觀察幕上，作測量或比對的一種測量儀器，可以高效地檢測各種形狀復雜工件的輪廓和表面形狀，主要由投影箱、主殼體和工作臺三大部分構成。