投影式光刻機簡介
投影式光刻機一般采用步進-掃描式曝光方法。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，載有掩模的工件臺在狹縫下沿著一個方向移動，等價于曝光系統對掩模做了掃描，與掩模的掃描同步，晶圓沿相反的方向以1/4的速度移動。現代光刻機中，掩模掃描的速度可以高達2400mm/s，對應的晶圓移動速度是600mm/s。較高的掃描速度可以縮短曝光時間，從而提高光刻機的產能。......閱讀全文
光刻機的種類
a.接觸式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設備簡單。接觸式，根據施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。 1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似于勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面； 2.硬接
什么是光刻機
光刻機（Mask?Aligner）是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機被稱為“現代光學工業之花”，制造難度很大，全
光電所研制出實用深紫外光刻機
近日，中國科學院光電技術研究所微電子專用設備研發團隊研制成功波長254nm的實用深紫外光刻機（Mask aligner），光刻分辨力達到500nm。 Mask aligner因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最廣、使用數量最多的一種光刻設備。在現有的微納加工工藝中，光刻所采用的波段是決定
佳能光刻機共享應用
儀器名稱：佳能光刻機儀器編號：80424600產地：日本生產廠家：日本型號：PLA-500出廠日期：198004購置日期：198004所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-62781090,1
光刻機原理是什么
光刻機原理是什么，為何在我國如此重要？一臺EUV光刻機售價一億美金以上，比很多戰斗機的售價都要貴。先進的光刻機必須要用到世界上最先進的零件和技術，并且高度依賴供應鏈全球化，荷蘭的ASML用了美國提供的世界上最好的極紫外光源，德國蔡司世界上最好的鏡片和光學系統技術，還有瑞典提供的精密軸承。另外，為了給
光刻機的曝光度
a.接觸式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設備簡單。接觸式，根據施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似于勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；2.硬接觸 是將基片
投影鏡的定義
中文名稱投影鏡英文名稱projection lens定 義將物或第一次像放大成像并投影在屏上的透鏡。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
購買投影儀時要了解投影機使用方式
投影儀廣泛應用于家庭、辦公室、學校和娛樂場所，根據工作方式不同，有CRT，LCD，DLP等不同類型。如何挑選一部價位合理，功能適用的家用投影機呢？ 了解投影機使用方式 用戶在選擇購買投影機之前，要熟悉投影機的使用方式，投影機在使用時分為臺面正向投射、天花板吊頂正向投射、臺面背面投射、吊頂背面
光刻機的性能指標
光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。 分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。 對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度
光刻機的性能指標
光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。 分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。 對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度
光刻壟斷難解，技術難在哪？
經常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～第一步驟的晶體生長機晶片的制造，我們上篇已經聊過了。今天我們要聊的是光刻，我們先簡單聊一聊硅的氧化（熱氧化），刻蝕的話我們后面再講。硅的氧化其中包含了在分立器件和集
電解式測厚儀簡介
電解式測厚儀技術特性??? 電 源：交流220V±10%，50/60Hz，30W 測量鍍種：鉻、鎳、銅、鋅、錫、銀、金、鎘等金屬鍍層，鎳合金鍍層，復合鍍層（? 如Cr/Ni/Cu） 鍍層底材：金屬、塑膠等基材 鍍層層數：單層及復合多層；??? 測量尺寸：標準型2100B：zui小工件尺寸 φ2
帽式滑環簡介
帽式滑環，顧名思義就是外形看起來像帽子一樣的滑環。帽式滑環外帶法蘭盤，主要是通過法蘭盤的上的幾個固定孔來跟客戶的設備配合安裝，所以帽式滑環一般都是外層固定，內軸轉動的一種結構。 LPC系列緊湊型帽式滑環是一種標準無架的產品，每個旋轉觸點都采用純金材質，質量可靠，工作壽命長。運轉速度高可達300
投入式液位計簡介
投入式液位計（靜壓液位計/液位變送器/液位傳感器/水位傳感器）是一種測量液位的壓力傳感器．靜壓投入式液位變送器（液位計）是基于所測液體靜壓與該液體的高度成比例的原理，采用國外先進的隔離型擴散硅敏感元件或陶瓷電容壓力敏感傳感器，將靜壓轉換為電信號，再經過溫度補償和線性修正，轉化成標準電信號（一般為
布式硬度簡介
布氏硬度(HB)一般用于材料較軟的時候，如有色金屬、熱處理之前或退火后的鋼鐵。洛氏硬度(HRC)一般用于硬度較高的材料，如熱處理后的硬度等等。 布氏硬度(HB)是以一定大小的試驗載荷，將一定直徑的淬硬鋼球或硬質合金球壓入被測金屬表面，保持規定時間，然后卸荷，測量被測表面壓痕直徑。布氏硬度值是載
光刻機是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻機是芯片制造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制造領域的投影光刻機。用于生產芯片的光刻機是中國在半導體設備制造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口，本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用于芯片生產的設備。二、工
光刻機是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻機是芯片制造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制造領域的投影光刻機。用于生產芯片的光刻機是中國在半導體設備制造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口，本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用于芯片生產的設備。二、工
光刻機移動精度怎么控制
光刻機移動精度要在雕刻的過程中，晶圓需要被快速移動,每次移動10厘米來控制。這種誤差級別相當于眨眼之間端著一盤菜從北京天安門沖到上海外灘，恰好踩到預定的腳印上，菜還保持端平不能灑。這種方法也叫視頻圖像處理對準技術，是指在光刻套刻的過程中，掩模圖樣與硅片基板之間基本上只存在相對旋轉和平移，充分利用這一
光刻機的對準系統
制造高精度的對準系統需要具有近乎完美的精密機械工藝，這也是國產光刻機望塵莫及的技術難點之一，許多美國德國品牌光刻機具有特殊ZL的機械工藝設計。例如Mycro N&Q光刻機采用的全氣動軸承設計ZL技術，有效避免軸承機械摩擦所帶來的工藝誤差。 對準系統另外一個技術難題就是對準顯微鏡。為了增強顯微鏡
光刻機工作原理和組成
光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，不同光刻機的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖（即芯片）。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準
光刻機各個結構的作用
測量臺、曝光臺：承載硅片的工作臺，也就是本次所說的雙工作臺。 光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。 能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。 光束形狀設置：設置光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性。 遮光器：在不需要曝
光刻機的紫外光源
曝光系統最核心的部件之一是紫外光源。 常見光源分為: 可見光：g線：436nm 紫外光（UV），i線：365nm 深紫外光（DUV）,KrF 準分子激光：248 nm, ArF 準分子激光：193 nm 極紫外光（EUV），10 ~ 15 nm 對光源系統的要求 a.有適當的波長。
光刻機的三大種類
a.接觸式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設備簡單。接觸式，根據施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。 1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似于勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面； 2.硬接
投影儀的優點？
1、影院級大屏體驗更震撼：大多數家庭中的電視通常都是55寸，60寸左右，雖然平時看看電視節目也夠用，不過觀看電影還是差點意思。而投影儀沒有屏幕的局限，只有墻面夠大，就可以投射出100寸甚至更大的屏幕，這樣觀看時更有沉浸感和代入感，而且色彩、亮度、對比度等表現也都很好。 2、安裝方便，操作簡單：
什么是紐曼投影？
紐曼投影式（英語：Newman projection），簡稱紐曼式，是表示有機化合物立體結構的一種方法，由美國化學家梅爾文·斯賓塞·紐曼于1952年命名。它是沿碳-碳鍵的鍵軸的投影，以交叉的三根鍵表示位于前方的碳原子及其鍵，以被一個圓擋住的三根鍵表示位于后方的碳原子及其鍵。若該碳-碳鍵為重疊式構象，
光學投影儀介紹
全稱：JT12A-B φ300光學投影儀，是光、機、電、算一體化的精密測量儀器。檢測效率高、使用方便、因此廣泛應用于機械、儀表、電子、輕工等行業及計量檢定部門。 投影儀是一種常用的長度計量儀器。 光學投影儀（又名數字式投影儀）是集光學、精密機械、電子測量于一體化的精密測量儀器，適用于精密工業二
投影系統的功能特點
中文名稱投影系統英文名稱projecting system定 義將物體照明后成像于投影屏上的光學系統。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
投影鏡的功能介紹
中文名稱投影鏡英文名稱projection lens定 義將物或第一次像放大成像并投影在屏上的透鏡。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
家用投影機概況
家用投影機是各大投影機廠家，專門針對在家庭里面使用來看電影的家庭影院投影機，如今家用投影機和普通商務投影機的最大區別在于分辨率，如今大部分主流家用投影機的分辨率已經達到了1080P全高清。 家用投影機主要是追求對比度，層次感，真實感。一般的特性主要為低亮度流明，在800-1300流明左右（商用
投影鏡的功能特點
中文名稱投影鏡英文名稱projection lens定 義將物或第一次像放大成像并投影在屏上的透鏡。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）