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  • 全球首個單原子層溝道的鰭式場效應晶體管問世

    中科院金屬研究所沈陽材料科學國家研究中心與國內外多家單位合作,首次演示了可陣列化、垂直單原子層溝道的鰭式場效應晶體管,相關成果于3月5日在《自然—通訊》在線發表。 過去幾十年來,微電子技術產業沿摩爾定律取得了突飛猛進的發展,按照摩爾定律的預測,集成電路可容納晶體管數目大約每兩年增加一倍。為了避免硅基平面場效應晶體管因為尺寸減小帶來的短溝道效應等缺陷,鰭式晶體管(FinFET,將溝道和柵極制備成類似于魚鰭Fin的豎直形態)技術于20世紀90年代初期誕生,成功延續摩爾定律至今。受制于微納加工精度,FinFET的溝道寬度目前最小約5納米。隨著集成電路特征尺寸逼近工藝和物理極限,進一步縮小晶體管器件特征尺寸極具挑戰。 研究人員提出利用二維原子晶體替代傳統硅基Fin,設計了高約300納米的硅晶體臺階模板,通過Bottom-up的濕法噴涂化學氣相沉積(CVD)方法,實現了與臺階側壁共形生長的過渡族金屬硫化物單原子層晶體;通過采用多重......閱讀全文

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    美研制出新式超導場效應晶體管

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    來自東京都立大學的科學家們成功地設計了過渡金屬二硫化物的多層納米結構,它們在平面內相遇形成結點。他們從摻雜鈮的二硫化鉬碎片的邊緣長出了二硫化鉬的多層結構,形成了一個厚實的、粘合的、平面的異質結構。他們證明了這些可用于制造新的隧道場效應晶體管(TFET),即具有超低功率消耗的集成電路中的元件。化學氣相

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