x射線熒光光譜的微區分析技術介紹
銅礦物在自然界存在形式多樣，有原生帶次生富集帶和氧化帶等，共生礦物和伴生礦物眾多，各類礦物均存在類質同象或者鏡下光學特征相似的現象，傳統的巖礦鑒定方法利用偏光、反光顯微鏡或實體顯微鏡等設備難以鑒別，對于此類礦物的鑒別需要借助化學分析方法或微區分析技術。 微區分析技術（電子探針、同步輻射、全反射微區分析）已在地質、環境、考古和材料科學等領域獲得了應用。在半導體材料方面，微探針和同步輻射技術為摻雜元素的行為研究提供了新的方法：在考古方面應用微區能量色散x射線熒光元索成像法測定陶瓷中重金屬元素；在地質學方面，應用x射線熒光光譜（XRF）微區分析技術分析隕石；應用微束X射線熒光微區測定了鈾礦石；應用微束微區X熒光探針分析儀檢測心礦石內的礦物顆粒。......閱讀全文
x射線熒光光譜的微區分析技術介紹
銅礦物在自然界存在形式多樣，有原生帶次生富集帶和氧化帶等，共生礦物和伴生礦物眾多，各類礦物均存在類質同象或者鏡下光學特征相似的現象，傳統的巖礦鑒定方法利用偏光、反光顯微鏡或實體顯微鏡等設備難以鑒別，對于此類礦物的鑒別需要借助化學分析方法或微區分析技術。 微區分析技術（電子探針、同步輻射、全反射
X射線熒光分析技術介紹
X射線熒光分析技術(XRF)作為常規、快速的分析手段，開始于20世紀50年代初，經歷了50多年的不斷發展，現在已成為物質組成分析的必備方法之一。 在我國的相關生產企業的檢測、篩選和控制有害元素含量中，X射線熒光分析技術的應用氣相液相色譜儀提供了一種可行的、低成本的、并且是及時的有效途徑；與其
巖礦鑒定新技術—X射線熒光光譜微區分析
傳統的巖礦鑒定方法是利用顯微鏡,通過觀察礦物物理性質、礦物形態、礦物共生特征及礦物間相互關系來鑒別礦物種類和巖石類別,是巖礦鑒定的基本手段。但是自然界很多礦物存在類質同象現象,如黝銅礦和砷黝銅礦、方鉛礦和硒鉛礦、鎢鐵礦和鎢錳礦等,這些礦物在顯微鏡下特征相似難以區分。需要借助電子顯微鏡、電子探針分析、
微區X射線光譜分析儀的分析應用
電子探針全稱電子探針X 射線顯微分析儀，又稱微區X射線光譜分析儀，是一種利用電子束作用樣品后產生的特征X射線進行微區成分分析的儀器，英文簡稱為EPMA。 可用來分析薄片中礦物微區的化學組成，分析對象是固體物質表面細小顆粒或微小區域，最小范圍直徑為1μm。除H、He、Li、Be等幾個較輕元素外，
微－X－射線熒光－(μXRF)技術詳解
微 X 射線熒光 (μXRF) 是一種元素分析技術，它允許檢測非常小的樣品區域。與傳統的 XRF 儀器一樣，微 X 射線熒光通過使用直接 X 射線激發來誘導來自樣品的特性 X 射線熒光發射，以用于元素分析。與傳統 XRF 不同（其典型空間分辨率的直徑范圍從幾百微米到幾毫米），μXRF 使用 X 射線
X射線熒光分析技術相關介紹
X光熒光分析又稱X射線熒光分析(XRF)技術，即是利用初級X射線光子或其他微觀粒子激發待測樣品中的原子，使之產生熒光(次級X射線)而進行物質成分分析和化學形態研究的方法。 X射線是一種電磁輻射，按傳統的說法，其波長介于紫外線和γ射線之間，但隨著高能電子加速器的發展，電子軔致輻射所產生的X射線的
你知道高性能微區X射線熒光光譜儀么？
高性能微區 X 射線熒光光譜儀（Micro-XRF） 高性能微區 X 射線熒光光譜儀（Micro-XRF） 是對大塊樣品、不均勻樣品、不規則樣品、甚至小件樣品和包裹物進行高靈敏度的、非破壞性元素分析的首選儀器。測量結果能夠提供樣品的相關成分和元素分布的定性和半定量信息。 高性能微區 X 射線
X射線熒光分析技術的相關介紹
X射線熒光分析是確定物質中微量元素的種類和含量的一種方法。 X射線熒光分析又稱X射線次級發射光譜分析。本法系利用原級X射線光子或其它微觀粒子激發待測物質中的原子，使之產生次級的特征X射線（X光熒光）而進行物質成分分析和化學態研究的方法。1948年由H.費里德曼（H.Friedmann）和L.S
X射線熒光分析技術的特點介紹
1.分析速度快，通常每個元素分析測量時間在2～lOOs之內即可完成。 2.非破壞性，X射線熒光分析對樣品是非破壞性測定，使得其在一些特殊測試如考古、文物等貴重物品的測試中獨顯優勢 3.分析樣品范圍廣，可以對元素周期表上的多種元素進行分析，并可直接測試各種形態的樣品。 4.分析樣品濃度范圍寬
X射線熒光分析技術的應用介紹
隨著儀器技術和理論方法的發展，X射線熒光分析法的應用范同越來越廣。在物質的成分分析上，在冶金、地質、化工、機械、石油、建筑材料等工業部門，農業和醫藥衛生，以及物理、化學、生物、地學、環境、天文及考古等研究部門都得到了廣泛的應用：有效地用于測定薄膜的厚度和組成．如冶金鍍層或金屬薄片的厚度，金屬腐蝕
微區X射線衍射儀
微區X射線衍射儀是一種用于物理學、化學、材料科學、考古學領域的分析儀器，于2015年1月12日啟用。 技術指標 采用新一代的陶瓷X光管技術，焦斑位置穩定，衰減小，壽命長 ； 全自動可變狹縫，可以自由選擇固定狹縫大小或固定測量面積模式；高精度立式測角儀，樣品水平放置，最小步長及角度重復性皆為0
能量彌散X射線熒光光譜分析技術介紹
能量彌散X射線熒光（EDXRF）光譜分析技術主要基于兩點：一是其簡便性，二是它非常適用于現場手持測試。 每個EDXRF光譜分析系統通常包含三個主要部分： 激發源、一臺光譜儀或檢測器以及一個數據收集或處理器。與波長色散X射線熒光光譜分析系統相比，EDXRF光譜分析系統具有以下特點：操作簡單、分析進
X射線熒光光譜技術的原理
所有XRF儀器都擁有兩個主要成分，一個是X射線源，一般采用X射線管，另一個則是探頭。X射線源會發出初級X射線到樣品表面，有時會通過濾光器對X射線束進行調整。在光束擊打樣品原子時，會產生次級X射線，這些次級X射線會被探頭收集并處理。 比較穩定的原子是由原子核及繞核旋轉的電子構成，電子按照能量層級
X射線熒光分析技術簡介
X光熒光分析又稱X射線熒光分析(XRF)技術，即是利用初級x射線光子或其他微觀粒子激發待測樣品中的原子，使之產生熒光(次級x射線)而進行物質成分分析和化學形態研究的方法。
簡述－X－射線熒光分析技術
X 射線熒光分析技術（XRF）作為一種快速分析手段，為我國的相關部門提供了一種可行的、低成本的并且及時的檢測、篩選和控制有害元素含量的有效途徑。相對于其他分析方法（例如發射光譜、吸收光譜、分光光度計、色譜質譜等），XRF 具有無需對樣品進行特別的化學處理，快速、方便、測量成本低等明顯優勢，特別適
X射線熒光分析技術分類
X射線熒光分析技術可以分為兩大類型：波長色散X射線熒光分析(WDXRF)和能量色散X射線熒光分析(EDXRF)；而能量色散型又根據探測器的類型分為(Si-PIN)型和SDD型。在不同的應用條件下，這幾種類型的技術各有其突出的特點。目前，X射線熒光分析不僅材料科學、生命科學、環境科學等普遍采用的一
X射線熒光分析的介紹
X射線熒光分析是確定物質中微量元素的種類和含量的一種方法，又稱X射線次級發射光譜分析，是利用原級X射線光子或其它微觀粒子激發待測物質中的原子，使之產生次級的特征X射線(X光熒光)而進行物質成分分析和化學態研究。 1948年由H.費里德曼(H.Friedmann)和L.S.伯克斯(L.S.Bir
X射線熒光分析技術的應用
X射線熒光分析技術(XRF)作為常規、快速的分析手段，開始于20世紀50年代初，經歷了50多年的不斷發展，現在已成為物質組成分析的必備方法之一。在我國的相關生產企業的檢測、篩選和控制有害元素含量中，X射線熒光分析技術的應用氣相液相色譜儀提供了一種可行的、低成本的、并且是及時的有效途徑;與其他分析方法
X射線熒光分析技術的應用
X射線熒光分析技術(XRF)作為常規、快速的分析手段，開始于20世紀50年代初，經歷了50多年的不斷發展，現在已成為物質組成分析的必備方法之一。 在我國的相關生產企業的檢測、篩選和控制有害元素含量中，X射線熒光分析技術的應用氣相液相色譜儀提供了一種可行的、低成本的、并且是及時的有效途徑；
X射線熒光分析技術的應用
X射線熒光分析技術(XRF)作為常規、快速的分析手段，開始于20世紀50年代初，經歷了50多年的不斷發展，現在已成為物質組成分析的必備方法之一。 在我國的相關生產企業的檢測、篩選和控制有害元素含量中，X射線熒光分析技術的應用氣相液相色譜儀提供了一種可行的、低成本的、并且是及時的有效途徑；與其
X射線熒光分析的技術簡介
X光熒光分析又稱X射線熒光分析(XRF)技術，即是利用初級X射線光子或其他微觀粒子激發待測樣品中的原子，使之產生熒光(次級X射線)而進行物質成分分析和化學形態研究的方法。 X射線是一種電磁輻射，按傳統的說法，其波長介于紫外線和γ射線之間，但隨著高能電子加速器的發展，電子軔致輻射所產生的X射線的
X射線熒光光譜儀X射線的衍射介紹
相干散射與干涉現象相互作用的結果可產生X射線的衍射。X射線衍射與晶格排列密切相關，可用于研究物質的結構。 其中一種用已知波長λ的X射線來照射晶體樣品，測量衍射線的角度與強度，從而推斷樣品的結構，這就是X射線衍射結構分析（XRD）。 另一種是讓樣品中發射出來的特征X射線照射晶面間距d已知的晶體
X射線熒光光譜儀X射線吸收的介紹
當X射線穿過物質時，一方面受散射作用偏離原來的傳播方向，另一方面還會經受光電吸收。光電吸收效應會產生X射線熒光和俄歇吸收，散射則包含了彈性和非彈性散射作用過程。 當一單色X射線穿過均勻物體時，其初始強度將由I0衰減至出射強度Ix，X射線的衰減符合指數衰減定律： 式中，μ為質量衰減系數；ρ為樣
X射線熒光光譜儀X射線散射的介紹
除光電吸收外，入射光子還可與原子碰撞，在各個方向上發生散射。散射作用分為兩種，即相干散射和非相干散射。 相干散射：當X射線照射到樣品上時，X射線便與樣品中的原子相互作用，帶電的電子和原子核就跟隨著X射線電磁波的周期變化的電磁場而振動。因原子核的質量比電子大得多，原子核的振動可忽略不計，主要是原
x射線熒光光譜測厚儀的技術指標介紹
1、同時可以分析30種以上元素，五層鍍層。 2、分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內（每種材料有所不同） 3、任意多個可選擇的分析和識別模型。相互獨立的基體效應校正模型。 4、多變量非線性回收程序 適應范圍為15℃至30℃。 5、電源: 交流220V±5V, 建
關于X射線熒光光譜的介紹
X射線熒光光譜(XRF, X Ray Fluorescence)是通常把X射線照射在物質上而產生的次級X射線叫X射線熒光(X-Ray Fluorescence)，受激發的樣品中的每一種元素會放射出X射線熒光，并且不同的元素所放射出的X射線熒光具有特定的能量特性或波長特性。探測系統測量這些放射出來
X射線熒光光譜儀的分析方法介紹
X射線熒光光譜儀具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點，分為波長色散、能量色散、非色散X熒光、全反射X熒光。分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。X射線熒光光譜法有如下特點：?分析的元素范圍廣，從4Be到92U均可測定；熒光X射線譜線簡單，相互干擾少，樣品不必分離，分析方
X射線熒光光譜儀的分析方法介紹
X射線熒光光譜儀具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點，分為波長色散、能量色散、非色散X熒光、全反射X熒光。分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。X射線熒光光譜法有如下特點：?分析的元素范圍廣，從4Be到92U均可測定；熒光X射線譜線簡單，相互干擾少，樣品不必分離，分析方
X射線熒光光譜分析技術的發展
歸納了X-射線熒光光譜分析技術發展的進程。從現代控制技術的改善、儀器檢測性能的提高、元素檢測范圍的擴大等8方面闡述了波長色散X-射線熒光光譜技術的進展,還就能量色散X-射線熒光光譜儀的X射線管和探測器技術的快速發展及近10年來我國在X-射線熒光光譜分析方法方面的論文發表情況進行了總結,對近年來X-射
X射線熒光光譜分析技術的發展
歸納了X-射線熒光光譜分析技術發展的進程。從現代控制技術的改善、儀器檢測性能的提高、元素檢測范圍的擴大等8方面闡述了波長色散X-射線熒光光譜技術的進展,還就能量色散X-射線熒光光譜儀的X射線管和探測器技術的快速發展及近10年來我國在X-射線熒光光譜分析方法方面的論文發表情況進行了總結,對近年來X-射