帶電粒子激發X熒光分析的概述
簡稱PIXE,它應用的帶電粒子可以是質子、α粒子或重離子，目前使用最多的是質子。它是用加速器（常用靜電加速器產生的幾兆電子伏能量的質子束轟擊樣品，質子使樣品中各元素原子的內層電子電離，接著較外層的電子向內層躍遷,同時發射X射線。由于各種元素發射具有特定波長（或能量）的標識X射線,可利用鋰漂移硅探測器及能譜分析儀來確定元素的種類。而標識譜線強度可用來確定元素含量。 在PIXE技術中，可以將原始的樣品（如金屬、粉末、生物組織）直接作為靶進行分析。這樣的靶往往是厚靶，它制備方便，但數據處理比較復雜，靈敏度也差。另一種是將樣品進行灰化、溶解等處理，然后把它置于一定的襯底膜上，作為靶進行分析。這類靶稱為薄靶，可以不考慮質子在靶中的能量損失和X 射線的自吸收，獲得及處理數據都比較容易，靈敏度也好。但制靶工藝比較復雜，容易受到環境的污染。 用PIXE方法作元素測定時，通常有絕對測定法和相對測定法之分。對于薄靶，絕對法的計算含量公式為 ......閱讀全文
帶電粒子激發X熒光分析的概述
簡稱PIXE,它應用的帶電粒子可以是質子、α粒子或重離子，目前使用最多的是質子。它是用加速器（常用靜電加速器產生的幾兆電子伏能量的質子束轟擊樣品，質子使樣品中各元素原子的內層電子電離，接著較外層的電子向內層躍遷,同時發射X射線。由于各種元素發射具有特定波長（或能量）的標識X射線,可利用鋰漂移硅探
電子激發X熒光分析的介紹
電子激發X熒光分析的軔致輻射本底比PIXE高二個量級以上，因此分析靈敏度低得多。但是，用聚焦的電子束激發樣品表面1微米的區域,使產生元素的特征X 射線，可以觀察樣品表面組成的局部變化。用這種方法能測定合金、礦物、陶瓷等樣品中的夾雜物和析出物，決定合金元素的局部富集區等。
質子激發X射線熒光分析的X－射線譜
在質子X 射線熒光分析中所測得的X 射線譜是由連續本底譜和特征X 射線譜合成的疊加譜。樣品中一般含有多種元素，各元素都發射一組特征X 射線譜，能量相同或相近的譜峰疊加在一起，直觀辨認譜峰相當困難，需要通過復雜的數學處理來分解X 射線譜。解譜包括本底的扣除、譜的平滑處理、找峰和定峰位、求峰的半高寬
質子激發X射線熒光分析的簡介
利用原子受質子激發后產生的特征 X射線的能量和強度來進行物質定性和定量分析的方法。簡稱質子 X射線熒光分析，英文縮寫為PIXE。質子X 射線熒光分析是20 世紀70 年代發展起來的一種多元素微量分析技術，其分析靈敏度可達10-16 克，相對靈敏度可達10-6～10-7 克/克。原則上可分析原子序
質子激發X射線熒光分析的實驗裝置
質子X 射線熒光分析的主要實驗裝置包括： ①加速器，一般用質子靜電加速器，選用能量為1～3 兆電子伏的質子，在此能量范圍內，質子激發X射線的產額高，靈敏度高；質子的能量再高時，將會引起許多核反應，使本底增大；能量再低時，質子的穿透能力下降，只能用于表面分析。②靶室（或稱散射室），是分析樣品放置
電磁輻射激發X熒光分析的簡介
簡稱EDXRF。電磁輻射激發一般用X射線管或Fe、Pu、Cd、、Co等放射性同位素作激發源。這時它的探測極限雖不及PIXE，但制樣簡便，常常可以直接分析原始樣品，而且既能分析低含量樣品，又能分析高含量樣品，因此應用更為廣泛。X射線在物質中的穿透能力較大,故能測量較厚樣品中的元素平均含量。當使用放
激發X射線熒光分析法的概念
當α 、β、γ或X射線作用于樣品時，由于庫侖散射，軌道電子吸收其部分動能，使原子處于激發狀態。由激發態返回基態時發射特征X射線，根據此特征X射線的能量和強度來分析元素的種類和含量。其靈敏度很高，用途很廣。
簡述質子激發X射線熒光分析的原理
基本原理是用高速質子照射樣品，質子與樣品中的原子發生庫侖散射。原子內層電子按一定幾率被撞出內殼層，留下空穴，較外層電子向這個空穴躍遷時發射出特征X 射線。用探測儀器探測和記錄這些特征X 射線譜，根據特征X 射線的能量可定性地判斷樣品中所含元素的種類，根據譜線的強度可計算出所測元素的含量。
X光熒光分析的概述
X光熒光分析又稱X射線熒光分析(XRF)技術，即是利用初級X射線光子或其他微觀粒子激發待測樣品中的原子，使之產生熒光(次級X射線)而進行物質成分分析和化學形態研究的方法。 X射線是一種電磁輻射，按傳統的說法，其波長介于紫外線和γ射線之間，但隨著高能電子加速器的發展，電子軔致輻射所產生的X射線的
質子激發X射線熒光分析的非真空分析技術
質子X 射線熒光分析一般在真空中照射樣品（稱作真空分析或內束技術），但也發展了一種非真空分析技術（或稱外束技術），即將質子束從真空室中引出，在空氣（或氦氣）中轟擊樣品。真空分析可能引起厚樣品積累正電荷（質子電荷）而吸引周圍電子，造成本底增高。非真空分析由于樣品周圍空氣電離而有導電性，可消除電荷積
技術課堂之X熒光激發源的激發方式
針對通常的X射線熒光光譜儀，比較普及的激發方法有一下幾種： 一、用放射性同位素源激發 源激發是將小量的放射性同位素，如55Fe（鐵）、109Cd（鎘）等化學物質固封在密封性的多出小圓孔的鉛罐中，持續發射點出低能γ放射線，經準直后照射被測化學物質上造成X瑩光。放射性同位素源傳出的X射線
X熒光鈣鐵分析儀概述
X熒光鈣鐵分析儀是一種微機化的新型臺式分析儀器，主要用于水泥生料，煤矸石，磚坯料中CaO、 Fe2O3百分含量的快速（30秒）定量分析。它根據元素特征射線的X熒光能量色散原理，采用低能小功率X光管激發（不用放射源）、正比計數管探測、核電子學及微機等組成，采用先進的物理測量方法，符合節能、環保、安
X射線熒光光譜分析概述
X射線熒光光譜分析（X?Ray?Fluorescence，XRF）是固體物質成分分析的常規檢測手段，也是一種重要的表面/表層分析方法。由于整體技術和分光晶體研制發展所限，早期的X射線熒光光譜儀檢測范圍較窄，靈敏度較差。隨著測角儀、計數器、光譜室溫度穩定等新技術的進步，使現代X射線熒光光譜儀的測量精密
概述X熒光分析儀的應用領域
鋼鐵行業：生鐵、爐渣、礦石、燒結礦、球團礦、鐵精粉、鐵礦石等。 水泥行業：生料、熟料、水泥、原材料等。 耐火材料:主要包括高硅質的粘土類、高鋁質的礬土類、高鎂質的鎂砂類、高鉻質類、各類剛玉等耐火材料。 有色行業：鋁廠各類樣品、鉛鋅礦、銅礦、錫礦、銀礦、鉬礦等。 電氣電子產品行業：針對RO
X射線管激發X熒光光譜連續本底扣除方法研究
X射線管是目前X射線熒光光譜分析中最常采用的激發源,它所產生的原級譜成為了X熒光光譜中本底成分的主要來源,在對這種光譜進行進一步的分析處理之前需要對其本底進行扣除,對本底估計的準確性直接影響后續處理步驟的效果。對射線管激發X熒光光譜的成分進行了分析,針對其本底特點構造了一種本底強度的估計方法,并根據
X射線熒光光譜分析的發展概述
20世紀80年代初期，商品X射線熒光光譜儀主要有波長色散X射線熒光光譜儀(WDXRF)、能量色散X射線熒光光譜儀(EDXRF)和以正比計數器為探測器的可攜式X射線熒光光譜儀(PXRF)。WDXRF譜儀的送樣系統和參數的設置已高度自動化，用戶根據待分析試樣的組成購買理論α系數表，用于校正基體中元素間的
X射線熒光光譜儀的吸收與激發效應
對一給定元素的某一吸收限的短波側，質量衰減系數pm迅速地隨著波長λ的增加而變大，根據式μm=Kλm及勒魯的研究結果，對于若干主要譜系，在0.18-10A的波段，λ的冪值m變化在2.1~2.8之間。因此越是接近吸收限短波側的譜線，所受的吸收或衰減就越大。而且，對一譜系，由于km隨的變化是連續的，故
概述熒光X射線測厚儀的應用范圍
－測厚范圍可測定厚度范圍：取決于您的具體應用。請告訴牛津儀器您的具體應用，我們將列表可測定的厚度范圍－基本分析功能無標樣檢量線測厚，可采用一點或多點標準樣品自動進行基本參數方法校正。牛津儀器將根據您的應用提供必要的校正用標準樣品。樣品種類：鍍層、涂層、薄膜、液體(鍍液中的元素含量)可檢測元素范圍
X光熒光分析的特點
1.分析速度快，通常每個元素分析測量時間在2～lOOs之內即可完成。 2.非破壞性，X射線熒光分析對樣品是非破壞性測定，使得其在一些特殊測試如考古、文物等貴重物品的測試中獨顯優勢 3.分析樣品范圍廣，可以對元素周期表上的多種元素進行分析，并可直接測試各種形態的樣品。 4.分析樣品濃度范圍寬
X光熒光分析的應用
隨著儀器技術和理論方法的發展，X射線熒光分析法的應用范同越來越廣。在物質的成分分析上，在冶金、地質、化工、機械、石油、建筑材料等工業部門，農業和醫藥衛生，以及物理、化學、生物、地學、環境、天文及考古等研究部門都得到了廣泛的應用：有效地用于測定薄膜的厚度和組成．如冶金鍍層或金屬薄片的厚度，金屬腐蝕
X射線熒光分析的介紹
X射線熒光分析是確定物質中微量元素的種類和含量的一種方法，又稱X射線次級發射光譜分析，是利用原級X射線光子或其它微觀粒子激發待測物質中的原子，使之產生次級的特征X射線(X光熒光)而進行物質成分分析和化學態研究。 1948年由H.費里德曼(H.Friedmann)和L.S.伯克斯(L.S.Bir
X射線熒光光譜儀的吸收與激發(增強)效應
① 原級入射線進人樣品時所受的吸收效應； ② 熒光譜線出射時受樣品的吸收或分析元素受樣品中其它元素的激發效應； ③ 第三級的激發效應。 以上各級吸收和激發效應，都隨著樣品基體化學組成的差異而發生變化。
概述X射線熒光光譜儀X射線的產生
根據經典電磁理論，運動的帶電粒子的運動速度發生改變時會向外輻射電磁波。實驗室中常用的X射線源便是利用這一原理產生的：利用被高壓加速的電子轟擊金屬靶，電子被金屬靶所減速，便向外輻射X射線。這些X射線中既包含了連續譜線，也包括了特征譜線。 1、連續譜線 連續光譜是由高能的帶電粒子撞擊金屬靶面時受
概述熒光分析的分析方法
直接測定法 利用物質自身發射的熒光進行測定分析。 間接測定法 不管是直接測定，還是間接測定，一般的采用標準工作曲線法，取各種已知量的熒光物質，配成一系列的標準溶液，測定出這些標準溶液的熒光強度，然后給出熒光強度對標準溶液的濃度的工作曲線。在同樣的儀器條件下，測定未知樣品的熒光強度，然后從標
X熒光光譜儀XRF的概述
是用X-射線管發出的初級線束輻照樣品，激發各化學元素發出二次譜線。是用X射線直接照射樣品發射X熒光，分光晶體將熒光光束色散后，測定各種元素的特征X-射線波長和強度，從而測定各種元素的含量；而光譜儀是通過濾光片得到背景相對較低的X射線，照射樣品發射X熒光，X熒光借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分
X射線熒光光譜儀的概述
自1895年倫琴發現X射線以來，X射線及相關技術的研究和應用取得了豐碩成果。其中，1910年特征X射線光譜的發現，為X射線光譜學的建立奠定了基礎；20世紀50年代商用X射線發射與熒光光譜儀的問世，使得X射線光譜學技術進入了實用階段；60年代能量色散型X射線光譜儀的出現，促進了X射線光譜學儀器的迅
X射線熒光光譜儀概述
X射線熒光光譜儀具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析B(5)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結果，結果準確度對某些樣品可以接近定量水
帶電粒子活化分析的相關應用
①質子活化分析，可用于超純硅中硼的測定（靈敏度可達3×10-9克）,特種鋼表層中痕量碳的測定，玻璃中氟的測定，巖礦試樣中鋰、鎳和銅的測定； ②氘子活化分析可用于鋼表層中碳、氮、氧和鎂的測定，高純鋁中碳和銅的測定，鐵中鎵的測定，玻璃中鈉的測定，生物等有機物試樣中碳、氮和磷的測定，巖礦試樣中鈉、鎂
帶電粒子活化分析的發展應用
①對氫、氦、鋰、鈹、硼、碳、氮、氧和氟等在生命科學、材料科學、環境科學和地學研究中具有重要意義的輕元素，帶電粒子活化分析有較高的分析靈敏度，因此，帶電粒子活化分析在上述領域中的應用將日趨廣泛。 ②帶電粒子活化分析的一個新的應用領域是γ射線天文學。其內容之一是通過測定行星、小行星和月球等地外物質
射線熒光分析的相關介紹
X射線熒光分析：確定物質中微量元素的種類和含量的一種方法。它用外界輻射激發待分析樣品中的原子，使原子發出標識X射線（熒光），通過測量這些標識X射線的能量和強度來確定物質中微量元素的種類和含量。根據激發源的不同，可分成帶電粒子激發X熒光分析，電磁輻射激發X熒光分析和電子激發X熒光分析。